일반기술
혼합가스를 이용한 INP 박막의 식각 방법
해당 기술은 광소자의 재료료 사용되는 InP 박막의 식각 방법에 관한 것으로, 특히 혼합가스를 이용한 InP 박막의 식각을 용이하게 하기 위하여 가스 주입구(1)를 통해 주입된 혼합가스는 접지전극에서 방출된 전자와의 충돌에 의해 이온의 형태로 여기되고, 이 여기된 이온들은 프라즈마 내부에서 확산운동을 하다가 강한 전기장이 걸리는 프라즈마와 여기전극 사이의 쉬스층에서 빠르게 여기전극 쪽으로 운동하며, 이때 이온들은 여기전극상의 InP 시료들과 반응하여 기체를 형성하며, 상기 기체를 진공펌프를 통해 배출시킴으로써 식각공정을 수행하는데 있어서, 상기 혼합가스는 CH4/He, CH4/Ar, CH4/N2 인 것을 특징으로 하는 혼합가스를 이용한 InP 박막의 식각 방법을 제공한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 광전자
- 보유기관
- (재)광주테크노파크
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2009-07-09
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
발명명칭 정보 없음
출원번호 1019980061633