일반기술
박막 헤드의 패턴 평탄화 방법
본 기술은 자기 기록 재생 장치에 사용되는 박막 헤드상의 패턴을 평탄화시킬 수 있는 방법에 관한 것 이다.본 기술은 지지 기판상에 절연층, 시드층 및 감광층을 순차적으로 형성시키고, 포토 리쏘그래픽 및 에칭으로 시드층을 패터닝시킨 후, 스핀 온 코팅 방법으로 시드층상에 폴리이미드를 도포시켜서 평탄화층을 형성한다. 그 다음, 평탄화층을 포토 리쏘그래픽으로 제거하여 시드층을 노출시키고, 전기 도금으로 노출된 시드층상에 금속을 증착시켜서 메탈층을 형성시킨 후 메탈층 및 평탄화층을 소정 두께로 에칭한 후 잔존하는 폴리이미드를 2차 경화시킨다.본 기술은 공동이 발생되지 않은 평탄화층을 형성시켜 박막 헤드의 성능을 향상 시킬 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-04-30
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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