일반기술
메탈층 형성 방법
본 기술은 실리콘 기판상에 메탈층을 형성시키기 위한 방법에 관한 것이다.본 기술은 시드층의 제거시 메탈층이 손상받는 것을 방지하여 원하는 형상의 패턴 치수 및 선폭을 갖는 메탈층을 형성하는 방법을 제공함에 그 목적이 있다.본 기술에 의한 메탈층 형성 방법은 실리콘 기판상에 절연층을 형성시키는 단계와, 절연층사에 시드층을 형성시키는 단계와, 시드층상에 포토 레지스터를 도포시켜서 감광층을 형성시키는 단계와, 감광층을 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 감광층의 패턴을 통하여 노출된 시드층상에 메탈층을 형성시키는 단계와, 메탈층상에 보호층을 형성시키는 단계와, 시드층상에 잔존하는 감광층을 제거하여 시드층을 노출시키는 단계와, 노출된 시드층 및 보호층을 제거하는 단계로 실현된다본 기술은 시드층의 제거시 메탈층이 손상받는 것을 방지시키므로 원하는 형상의 패턴 치수 및 선폭을 갖는 메탈층을 형성할 수 있는 특징이 있다
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-04-23
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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