일반기술

테트라벤조테트라아자사이클로헥사데신 화합물 및 그 염, 그 제조방법 및 이를 이용한 액정표시소자

본 기술은 액정 성질을 가지고 있는 테트라벤조테트라아자사이클로헥사데신 화합물 및 그 염과, 이 화합물을 제조하는 방법과, 프탈로시아닌 화합물을 액정층 형성재료로서 채용하고 있는 액정표시소자에 관한 것이다.기존의 액정표시소자는 트랜지스터, 다이오드 등의 스위칭 소자를 액정 재료와 조합한 AMTN(Active Matrix Twisted Nematic) 방식을 이용하고 있으며, AMTN 방식에 따르면, 고품질의 화상을 얻을 수 있지만 제조방법이 복잡하고 제조비용이 상승된다는 문제가 있었다.반면, 본 기술에서는 넓은 온도 범위에서 액정 성질을 나타내는 원판형 액정 화합물인 테트라벤조테트라아자사이클로헥사데신 화합물 및 그 제공방법을 구현하고, 테트라벤조테트라아자사이클로헥사데신 화합물을 액정층 형성 물질로서 이용할 수 있는 액정표시소자를 구현할 수 있다.본 기술에 의한 테트라벤조테트라아자사이클로헥사데신 화합물 및 그 염의 제조방법은 벤즈알데히드 (A)를 니트로화하여 니트로벤즈알데히드 (B)를 얻는 단계, 니트로벤즈알데히드 (B)를 환원하여 대응하는 아미노벤즈알데히드 (C)를 얻는 단계 및 아미노벤즈알데히드 (C)를 고리축합시키는 단계로 이루어져 있다.본 기술에 의한 액정표시소자는 테트라벤조테트라아자사이클로헥사데신 화합물 및 그 염을 액정층 형성 재료로 채용하도록 구성한다.이와 같이 이루어진 본 기술에 의하면, 테트라벤조테트라아자사이클로헥사데신 화합물 및 그 염은 -4.3℃ 정도의 저온에서 270℃ 정도의 고온까지 액정 성질을 가지므로, 기기 사용 범위가 매우 넓은 액정표시소자를 제조할 수 있는 효과가 있다