일반기술

비활성 잔유물의 측정장치 및 방법

본 기술은 청정실 내에서 발생하거나 외부로부터 유입되는 미세 입자의 오염측정에 기준이 되는 비활성 잔유물을 측정하여 청정실내에 잔류하는 먼지의 량을 측정할수 있도록 하는 비활성 잔유물 측정장치에 관한 것이다. 인공위성체에 탑재되는 부품의 세척이나 반도체 제조설비에서 청정실 사용은 기본이 되어있으며 상기 청정실은 원하는 청정도를 유지할 필요가 있고 이를 위해서는 청정실 내에 잔류하는 비활성 잔유물(Non volatile Residue)의 측정이 필요한데 지금까지는 Dust photometer라는 기계를 사용하여 ft²당 입자크기(particle size)에 따른 입자수만을 측정하는 방법을 사용하였으나 본 기술은 비활성 잔유물을 측정하여 청정실 내에 잔유하는 먼지의 량을 측정하여 청정실 내의 청정도 이상 유무를 확인하게 된다.본 기술의 비활성 잔유물 측정장치는 청정도가 100이하로 유지되는 클린벤치와, 청정용 헝겊을 가열한 초순수(De ionized Water) 세척조에 넣고 초음파 세척을 하는 초음파 세척기, 클린벤치 내에서 청정용 헝겊을 증류 건조시키는 시험용 헝겊 준비장치, 청정실 내에 방치되어 비활성 잔유물을 채집하는 스테인레스 스틸판, 시험용 헝겊 준비장치에서 준비된 시험용 헝겊으로 스테인레스 스틸판을 닦아 비활성 잔유물의 량을 측정하는 초정밀저울을 구비시킴으로써 이루어지며 측정방식은 시험용 헝겊을 초음파 세척하는 과정, 세척된 시험용 헝겊을 증류액을 바꾸어 가며 증류시키는 과정, 증류된 시험용 헝겊을 건조시켜 보관하는 과정, 건조된 시험용 헝겊을 IPE(Iso-Propy Alchol)에 담갔다가 청정실에 방치된 스테인레스 스틸판을 닦아 주는 과정, 시험용 헝겊에 묻은 비활성 잔유물을 추출하여 전자저울로 측정하는 과정을 수행시킴으로서 이루어 진다.