일반기술

고정밀 X선 산란을 위한 초고진공 장치

본 기술은 단결정 금속이나 반도체의 표면의 구조 및 성장과정 등을 고정밀 X-선 산란을 통하여 초고진공 상태에서 측정할 수 있도록 한 고정밀 X-선 산란을 위한 초고진공장치에 관한 것으로, 시편의 표면특성을 초고진공 상태에서 여러 분석장치에 의해 측정할 수 있는 기능을 잃지 않도록 하면서 소형화 및 경량화하여 4각 분광장치에 부착 사용할 수 있게 설계함과 아울러 세 개의 오일러 각도들을 모두 임의로 정밀조정(±0.0005°범위에서)할 수 있게 하여, 측정자료의 정밀도를 크게 향상할 수 있게되는 초고진공장치를 제공하고, 장치의 경량화에 따라 X선 출입을 위한 베릴리움 열림각도를 330°까지 확대하여 종래의 장치들로 측정할 수 없었던 여러 가지의 X선 회절점들을 측정케 함으로써 2차 표면구조 파악에 더 많은 자료를 얻을 수 있게되는 초고진공장치를 제공하고자 함에 있다.본 기술의 또다른 목적은 베릴리움 창문은 스테인레스로 된 챔버의 벽면과 특수설계된 봉합구조에 의하여 초고진공 봉합되는 초고진공장치를 제공하기 위한 것이다.본 기술은 4각 분광장치에 간편 용이하게 부착하여 매우 정밀한 측정을 가능케하는 초고진공장치를 제공함으로써, 초고진공 상태에서 행하는 X-선 회절측정 분야에서 유리하게 적용하여 이로 인하여 단결정 금속이나 반도체산업 발전에 크게 기여하는 효과를 갖는 것이다.