일반기술
시료의 유전율 측정장치 및 시료의 유전율/투자율 측정장치
본 기술은 초고주파 대역(300MHz-30GHz)에서 저손실 시료의 유전율 및 투자율을 측정하기 위한 유전율 측정 장치 및 유전율/투자율 측정 장치에 관한 것으로, 특히 3위치에서의 산란 계수를 측정하여 시료의 유전율을 측정하는 유전율 측정장치와, 유전율 및 투자율을 한꺼번에 측정하는 유전율/투자율 측정 장치에 관한 것으로, 3위치 반사 투과법에 의해 하나의 시료를 사용하되 홀더내의 시료 위치에 무관하게 유전율과 투자율을 측정할 수 있는 유전율 측정 장치, 및 유전율/투자율 측정 장치를 제공함에 그 목적이 있고, 연결단자의 불연속과 홀더의 자체 손실에 영향을 받지 않으며 회로망 분석기의 오차 보정 오류에서 발생할 수 있는 측정 오차를 제거할 수 있는 유전율 측정 장치, 및 유전율/투자율 측정 장치를 제공함에 그 목적이 있다.본 기술은 상기 목적을 달성하기 위하여 구형 도파관, 원형 도파관, 동축 에어라인과 같은 시료 홀더내에 시료를 장착한 후 시료를 3위치로 이동시키면서 각 위치에서 산란계수를 측정하고, 이들 측정치의 ABCD 행렬값을 연산하여 동치 변환 행렬로 만든 뒤 트레이스를 이용하여 시료의 유전율과 투자율을 검출하되, 시료의 유전율만을 검출할 경우 하나의 시료를 3위치로 이동시키면서 측정한 산란 계수를 이용하여 유전율을 검출하고, 시료의 유전율과 투자율을 검출할 경우 길이가 다른 두 개의 시료를 3위치로 이동시키면서 측정한 산란 계수를 이용하여 시료의 유전율과 투자율을 검출하는 것을 특징으로 한다.본 기술의 3 위치 반사 투과법에 의한 유전율 및 투자율 측정은, 두 개의 시료를 사용하되 홀더내의 시료 위치에 무관하게 유전율과 투자율을 측정할 수 있으며, 연결단자의 불연속과 홀더의 자체 손실에 영향을 받지 않으며 각 시료 홀더에 따른 오차 보정 도구가 필요치 않은 효과가 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 계측기기
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-05-17
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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