일반기술
물리적 겔법을 이용한 비대칭 지지막 제조방법 및 이로부터 제조된 비대칭 지지막
본 기술은 고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침지시켜 상분리법에 의해 비대칭 지지막을 제조하는 방법에 있어서, 1) 고분자 용액이 물리적 겔이 되는 주용매 단독이나 또는 이 주용매에 공용매를 첨가한 혼합 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계 및 2) 상기 1)단계에서 제조된 고분자 용액을 최종 막의 형태로 제조하여 물리적으로 겔화시킨 후 비용매인 물에 침지시켜 상분리를 유도하여 비대칭 지지막을 제조하는 단계를 포함하는 비대칭 지지막의 제조 방법 및 이로부터 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막에 관한 것이다본 기술에 의하면, 고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침전시켜 상분리 법에 의해 비대칭막을 제조하는 방법에 있어서, 고분자 용액을 특정 온도나 용매를 사용하여 물리적인 겔 상태로 만든 후 비용매인 물에 침지시켜 비대칭막을 제조하는 방법 및 위 방법에 의해 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고, 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막이 제공된다. 본 기술에 따른 방법으로 제조된 비대칭 지지막은 스폰지 형태의 다공성 지지막으로서 기공들이 서로 연결된 열린 기공으로 이루어지고 그 기공의 크기 분포도가 좁은 우수한 구조를 갖고 있다. 따라서 본 기술에 따른 비대칭 지지막은 투과성과 기계적 강도가 향상되고, 나아가 물질 선택성이 높은 소재로 코팅하는 데 있어서 기공 크기의 분포도가 좁아 코팅공정을 최적화 할 수 있어 선택도까지 개선된 복합막을 쉽게 제조할 수 있다
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 고분자 가공공정 기술
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-05-19
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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