일반기술

높은 아민 작용기 밀도를 갖는 실란 화합물의 단분자층 형성방법

톨루엔을 용매로 사용한 3-아미노프로필디에톡시메틸실란 용액에 기질(용융 실리카 또는 실리콘 웨이퍼)을 침지시킨 후, 건조시켜 실란 화합물의 단분자층을 형성한다.아미노실란 화합물 중에서 3-아미노프로필디에톡시메틸실란을 용융 실리카 또는 실리콘 웨이퍼 등과 반응시켜 기질 표면에 실란 화합물을 자기 조립시킴으로써 아민 작용기 밀도가 큰 실란 단분자층을 형성할 수 있다.아미노실란 화합물은 과학, 공학, 의학 등 광범위한 영역에서 촉매나 효소와 같은 특정 기능을 갖는 화합물을 기질에 연결하기 위한 결합물질로서 이용되고 있다. 실란 결합물질은 다양한 종류의 기질 표면과 쉽게 반응하여 안정한 분자층을 형성한다. 아민기나 티올기 등과 같은 작용기를 갖는 실란 화합물은 효소나 항체, 무기 촉매 등의 고정, 역상 크로마토그래피 등과 같이 응용가능성이 높은 기능성 박막의 제조에 이용되고 있다. 따라서, 높은 작용기 밀도를 갖는 균일한 단분자층을 형성하기 위한 방법 및 실란화된 표면의 성질을 분석하기 위한 방법이 연구되고 있다.표면 변형의 효율과 실란 분자층에 결합되는 기능성 물질의 밀도에 직접적인 영향을 주는 가장 큰 요인인 실란 분자층의 아민 작용기 밀도가 더욱 큰 실란 화합물의 단분자층을 형성한 것이다