일반기술

세프디니르의 제조방법

트리틸 옥심보호기를 산 존재하에 제거함을 특징으로 하여 세프디니르를 제조하는 방법으로, 여기에서 산은 무기산(염산, 브롬화수소산, 요오드화수소산, 황산, 루이스산(보론트리플루오라이드, 보론트리플루오라이드 에틸에테레이트, 삼염화알루미늄, 오염화안티몬, 염화제이철, 염화주석, 사염화티타늄 및 염화아연중)), 유기산(아세트산, 포름산, 트리플루오로아세트산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산 및 p-톨루엔설폰산) 및 산성수소 이온교환수지 등을 사용한다.종래 세프디니르의 제조 방법에 있어, 미합중국 특허 제 4,559,334 호 및 대한민국 특허공고 제 91-3118 호에 공지되어, 7-아미노-3-비닐-3-세펨-4-카르복실산에스테르(A)를 반응성 카르복실산 유도체와 반응시켜 7-아미도화합물(B)을 제조하고, 이를 니트로소화제(nitrosating agent)로 처리하여 N-옥심화합물(C)을 제조한다. 계속하여 화합물(C)을 티오우레아와 고리화 반응시켜 아미노티아졸화합물(D)을 제조한 다음, 마지막으로 카르복시 보호기를 제거하는단계를 거쳐 구조식 (I)의 세프디니르를 제조하였으나, 공정상의 어려움과, 이 반응을 현장화에 적용할 때의 어려움, 제조수율 저조와 산물의 순도저하의 문제점과 고가인 7-아미노-3-비닐-3-세펨-4-카르복실산 유도체를 출발물질로 사용하여 4단계로 구성된 다단계 반응을 거쳐 세프디니르를 합성하게 되므로 생산비용 상승으로 높은 생산원가의 문제점을 갖고 있다. 따라서 본 기술은 수율 및 순도에 있어서 매우 탁월한 세프디니르 중간체의 트리틸 옥심 보호기를 산 존재 하에 제거함을 특징 하는 세프디니르의 제조방법을 발명하게 되었다