특허 · 2013 성과 기록
반도체 소자의 금속 배선 형성 방법
- 출원등록기관
- 국제엘렉트릭코리아(주)
- 출원국
- 대한민국
- 원자료 구분
- 특허등록
- 사업화 활용
- 미기재
국제엘렉트릭코리아
사업자등록번호 312-81-14634
원자료 기관명 표기: 국제엘렉트릭코리아, 국제엘렉트릭코리아 주식회사, 국제엘렉트릭코리아(주)
자료에 기재된 성과
성과 기록 4건
- 종류별
- 특허 4건
- 원자료 구분별
- 특허등록 3건, 특허출원 1건
- 사업화 활용별
- 미지정 4건
- 성과연도별
- 2009 1건, 2012 1건, 2013 2건
특허 · 2013 성과 기록
플라즈마 식각장치
- 출원등록기관
- 국제엘렉트릭코리아(주)
- 출원국
- 대한민국
- 원자료 구분
- 특허등록
- 사업화 활용
- 미기재
특허 · 2012 성과 기록
플라즈마 식각장치
- 출원등록기관
- 국제엘렉트릭코리아
- 출원국
- 대한민국
- 원자료 구분
- 특허출원
- 사업화 활용
- 미기재
특허 · 2009 성과 기록
반도체 소자의 금속 배선 형성 방법
- 출원등록기관
- 국제엘렉트릭코리아 주식회사
- 출원국
- 대한민국
- 원자료 구분
- 특허등록
- 사업화 활용
- 미기재