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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

마이크로파 유전체 세라믹 조성물

본 기술은 큰 유전율(35~42), 품질계수 값(Qf0= 7430~14250 GHz) 및 안정한 공진주파수의 온도계수(-10~+10 ppm/℃)를 가지며, 소결온도가 900℃ 이하로 낮아 은(Ag) 등의 전극과 동시소성이 가능한 마이크로파용 유전체 조성물과 큰 품질계수 값 (Qf0≥140,000 GHz)을 고온 (≥1600℃)에서 장시간의 열처리를 하지 않고도 1450℃에서 3시간 소결함으로써 쉽게 얻을 수 있다.그리고, 우수한 재현성과 안정한 공진주파수의 온도계수를 갖는 마이크로파 유전체 조성물 등 현재 상용화되어있는 800 MHz ~ 1.9 GHz 대역의 셀룰러, PCS 및 향후 2 GHz 대역의 IMT2000 대역의 적층 칩 필터 및 안테나, 3-4 GHz 대역의 UMTS (3세대 이동통신) 등의 공진기, 기지국용 필터, 안테나 및 기판 등에 요구되는 우수한 특성을 가지고 있는 마이크로파 유전체 세라믹 조성물에 관한 것으로 이동통신, 반도체 및 전자부품 등에 많은 활용이 기대된다.

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한국과학기술연구원
등록일
2008-05-22
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

발포세라믹판넬의제조방법

본 기술은 각종 건축용재등으로 유용하게 사용되어질 발포세라믹판넬을 간편하면서도 효육적으로 제조할 수 있도록 한 발포세라믹 판넬의 제조방법에 관한 것이다.본 기술은 발포성무기화합물을 고온에서 소성시켜 발포시킨 발포세라믹체(또는 발포세라믹 판넬)을 제조함에 있어 발포세라믹 자체의 특성 연구에 비중을 두는 개념에서 벗어나 보다 실용적인 개념 즉 발포된 세라믹체가 각종 건축용재 등에 적합한 형태와 크기로 제조되록함과 동시에 매우 저렴한 가격으로서 대량공급이 가능할 것으로 보인다.

보유기관
한국산업기술평가원
등록일
2008-06-12
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

발포세라믹판넬의제조방법

본 기술은 발포세라믹 판널의 제조방법에 관한 것으로 장석, 백운석, 납석, 카오린, 규석, 벤토나이트(Bentonite), 지르코늄, 유산바륨, 인회석, 혈암, 골회, 활석, 석영, 방해석, 형석, 불석 등과 같은 이른바 발포성무기화합물을 볼밀로 미세하게 분쇄한후 휠타프레스를 통하여 여과 압착시켜 케이크화시키고 벽돌용소지등으로 제조된 사각체함 또는 원형함 내부에 진기한 발포성무기화합물케이크를 투입시켜 1100℃-1480℃의 고온에서 소성발포시킴으로서 건축용, 토목용, 산업용에 적합한 발포세라믹판넬을 보다 간편하면서도 저렴하게 제조보급하여 발포세라믹판넬의 대중화 기여하고자 하는 것이다.본 기술은 볼밀과 휠타프레슬을 거쳐 형성된 무기화합물케이크를 곧바로 벽돌용 소지등으로 된 사각체함내에 투입한후 소성발포시킴에 따라 생산공정 단축과 더불어 시설비절감 그리고 생산에 따르는 시간절감 효과가 있을뿐 아니라 특히 무엇보다도 발포세라믹 판넬을 제조하는 방법자체를 한 라인으로 자동화시킬수도 있게되어 대량생산은 물론 저렴한 값으로 제조하여 널리 유포할수 있는 등 여러 효과가 예상된다.

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한국산업기술평가원
등록일
2008-06-12
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

발포세라믹판체제조용조립식용기

본 기술은 각종 건축용재 등으로서 유용하게 사용되어질 발포세라믹 판체를 매우 효과적으로 제조하기 위한 조립식 용기에 관한 것이다.본 기술은 발포세라믹체를 제조하기 위한 조립식 용기를 형성함에 있어서 밑판 상부의 외곽 가장자리부에 지지 버팀대를 안설한뒤 이의 내편에 측면판을 차례로 설치하며 이어 지지버팀대를제거한뒤 측면판의 높이보다 높은 코너 받침대를 밑판의 네모서리 부분에 착설시키고 상판을 코너 받침대위에 얹어 놓은 구조로 구성되어 있다. 본 기술은 간단하고 편리한 구성으로 작업이 손쉬울뿐 아니라 특히 물에 붕붕 뜰 정도로 가볍고 단단하며 용도가 무궁 무진한 발포 세라믹 판체를 원하는 형태와 크기대로 미려하게 제조할 수 있으며 불량률이 극히 없어 생산량이 극대화되는 효과외에도 각종 건축용도에 알맞는 제품의 공급이 단한번만에 이루어질 수 있으며 아울러 고가인 붕판의 파손이 거의 없는 관계로 작업의 연속성 및 효율성이 제고되어 발포 세라믹 판체의 생산성 및 경제성이 크게 신장되는 등 여러가지 면에서 다대한 효과가 기대된다.

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한국산업기술평가원
등록일
2008-06-12
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

고강도 Ti3AlC2 복합재료 및 그 제조방법

1. 기술의 개요 층상구조를 갖는 삼성분계 탄화물(Ternary Carbide) 중 하나인 Ti3AlC2는 Pietzka 와 Schuster[J. phase Equilib., 1994, 15(4), 392-400]에 의해 처음으로 합성 되었으며, Ti3AlC2를 비롯한 삼성분계 탄화물세라믹스의 공통된 가장 두드러진 특징은 금속 및 세라믹스가 가지고 있는 각각의 고유한 특성을 동시에 갖고 있다. 이제까지 개발된 복합재료 중 금속과 세라믹스의 특성을 동시에 갖는 재료는 쉽게 찾아볼 수 없다. Ti3AlC2는 금속재료와 같이 우수한 열 및 전기전도성을 갖고, 경도가 낮고 우수한 기계가공성을 갖고 있으며, 높은 내열 충격특성을 갖으며, 고온 뿐 만 아니라 상온에서도 소성변형을 하는 것으로 알려져 있다. 동시에 Ti3AlC2는 세라믹 재료의 일반적인 특성으로 높은 용융점, 열 및 화학적 안정성, 비교적 낮은 밀도(4.25 g/cm3) 및 높은 탄성계수를 지니고 있으며, 특히 Ti3AlC2는 초 내열 합금이 견딜 수 없는 온도에서도 높은 고온강도를 유지하는 것으로 알려져 있다[Scr. Metall. Mater., 1997, 36, 535-541]. 또한, Ti3AlC2 소결체는 내열, 내부식 및 기계적 특성이 우수하고 기계가공성이 가능하기 때문에 고온 열 교환기 소재, 고온 구조재료, 우주항공용 소재 및 내 부식성 산업용 소재 등에 주로 응용될 수 있으며 엔지니어링 세라믹스와 비교하여 상업적 가치가 높은 것으로 평가되고 있다.2. 기술의 특징 본 연구에서 개발 된 고강도 Ti3AlC2 소재는 기존에 알려져 있던 출발원료 물질계와는 다른 TiCx(X=0.6) 및 Al을 출발물질로 사용되며, TiCx는 Ti 또는 TiH2와 Carbon 분말을 사용하여 고온 합성 반응으로 제조되었다. 소결체는 Ti3AlC2, Ti2AlC 및 TiCy(y>0.6)가 주요 결정상으로 포함되어 있으며, Ti3AlC2 기지상에 100 nm 크기 이하의 TiCy상이 강화되어 있는 Ti3AlC2복합재료를 특징으로 하며, 3점 굽힘강도시험법(span 20mm, loading speed 0.5 mm/min.)으로 측정한 파괴강도가 700 MPa 이상이며, 초경(WC-Co)공구로 가공이 가능한 기계가공 특성을 갖는다.

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한국과학재단
등록일
2008-06-24
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

저가 Cr2AlC 소결체 제조기술 개발

1. 기술의 개요 삼성분계 탄화물 세라믹스중 하나인 Cr2AlC는 Wubian Tian 등[Scripta Materialia 54, 841-846, 2006]에 의해 처음으로 소결체 형태로 합성 되었으며, Cr2AlC를 비롯한 삼성분계 탄화물세라믹스의 공통된 가장 두드러진 특징은 금속 및 세라믹스가 가지고 있는 각각의 고유한 특성을 동시에 갖고 있으며, 열 및 기계적특성, 전기전도, 내부식성 특성이 우수하며, 우수한 기계가공성 특성을 가지고있다. 본 기술에서는 Cr2AlC 분말을 Cr2O3로부터 합성 공정 및 상압소결 공정이 개발되어 Cr2AlC 소결체 세라믹스의 상용화를 위해 요구되는 저가 제조공정이 개발되었다. Cr2AlC은 다른 삼성분계 탄화물계 세라믹스와 비교하여 우수한 내화학 특성을 갖고 있고, 열 기계적 특성이 우수하기 때문에 내화학 특성이 요구되는 다양한 산업용 부품 제조에 기존의 금속 재료를 대체하여 응용될 수 있을 것으로 기대된다. 2. 기술의 특징 본 기술에서 개발 된 저가 Cr2AlC 소재는 기존의 합성방법으로 제조된 고가 Cr2AlC 소재와 동등한 기계적 특성을 가지고 있다. 본 기술의 특징은 기존의 출발원료로 사용되던 Cr대신 저가 산화물 원료인 Cr2O3를 출발원료로 사용하여 제조할 수 있는 합성기술 및 상압소결기술이 개발되었으며 개발된 저가 Cr2AlC 소결체는 상용 초경공구로 가공이 가능하며 파괴강도는 300 MPa 정도이며 파괴인성은 4 MPa m1/2, Vickers hardness는 4~6 GPa 이다. Cr2AlC소재의 상용화는 아직까지 세계적으로 시장형성이 이루어져 있지 않고 있나 본 연구에서 개발된 저가 Cr2AlC 소결체 제조기술은 Cr2AlC 소결체의 실용화를 가능하게 할 수 있을 것으로 기대된다.

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한국과학재단
등록일
2008-06-24
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

고 유전율, 저 유전 손실의 PFN 유전체 세라믹스의 제조 방법

본 기술은 고 유전율이면서도 유전 손실이 극소화된 순수한 Pb(Fe 1/2 Nb 1/2 )O 3 (PFN) 유전체 세라믹스의 새로운 제조 방법에 대한 것이다.본 기술의 PFN계 유전체 세라믹스의 제조 방법은 통상의 고상 반응법에 따라 PFN계 유전체 세라믹스 분말을 제조한 후, 첨가제의 혼입 없이 산소 분위기에서 하소 및 소결시키는 것을 특징으로 한다. 본 기술에 따르면, 하소 및 소결 공정의 제어만으로 고유전율이면서도 유전 손실이 극소화된 순수한 PFN 유전체 세라믹스를 얻을 수 있다.

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한국과학기술연구원
등록일
2008-07-21
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

저온소성용 마이크로파 유전체 세라믹 조성물

본 기술은 저온소성이 가능하면서도 우수한 마이크로파 특성을 갖는 유전체 세라믹 조성물에 관한 것이다.본 기술의 조성물은 (Mg 0.93 Ca 0.07 )TiO 3 에 B 2 O 3 및 MnO 2 를 첨가제로 사용함으로써 저온 소결이 가능한 한편, 양호한 마이크로파 특성을 갖는다. 1200℃에서 적정량의 B 2 O 3 를 첨가한 영역에서는 1350℃에서 소결한 순수한 (Mg 0.93 Ca 0.07 )TiO 3 보다 높은 품질계수 값을 나타내었다.

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한국과학기술연구원
등록일
2008-07-21
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

고주파용 유전체 세라믹스 조성물

본 기술은 고주파용 세라믹스 조성물에 관한 것으로, 특히 1 mole의 MgNb2O6에 대해 각각 0 ∼ 1 mole의 TiO2를 조합으로 하는 것을 주 조성으로 하고 첨가제로서 MO3 (M6+ = W, Mo, Cr, Se, Te 및 Po)가 각각 0 ∼ 0.4 wt%로 구성되는 것을 특징으로 하는 유전체 세리믹스 조성물에 관한 것이다.기존의 고주파 유전체 조성보다 비교적 낮은 소결온도 (1,200℃)이면서 높은 품질계수 (QX f > 40,000 GHz)와 유전상수 ( εr > 25) 및 안정된 온도계수 (τf = -49∼ +38 ppm/℃)의 우수한 고주파 유전특성이 MgNb2O6-TiO2와 같은 비교적 저가의 원료로 구현되는 것을 특징으로 한다.

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한국과학기술연구원
등록일
2008-07-21
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

저온소성 다층기판용 유전체 세라믹 조성물의 제조방법

본 기술은 950 o C 부근의 낮은 온도 범위에서 소성이 가능한 고유전율의BaO-TiO 2 계 세라믹 조성물의 제조방법에 관한 것이다. 이 조성물은 세라믹 저온소성다층기판 내부에 사용되는 고유전율 층에 사용하기에 적합하다. 본 기술에 따르면, BaO-PbO-2Nd 2 O 3 -10TiO 2 계 소성분말에 대하여 Li 2 O, B 2 O 3 , SiO 2 , V 2 O 5 를 적량 첨가하였을 때 마이크로파 유전특성과 소결특성이 우수하였다. 따라서 본 기술의 방법에 따라 제조된 세라믹조성물은 가격이 비싼 Pt 전극이나 Pd 전극이 아닌, 가격이 저렴한 Ag 또는 Ag-Pd전극과 함께 저온소성다층기판의 제조에 사용될 수 있다.

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한국과학기술연구원
등록일
2008-07-21
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

저온소결 저손실 고주파 유전체 세라믹스 조성물 및 그 제조방법

본 기술은 저온소결 저손실 고주파유전체 세라믹스 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 기존의 고주파용 세라믹스 조성보다 매우 낮은 소결온도(800 ~ 925℃)이면서도 높은 품질계수(Q×f=12,000∼84,000 GHz)와 유전상수(16≤ε r ≤32) 및 안정된 온도계수 및조성에 따라 다양한 온도보상 특성(τ f = -52 ~ +104 ppm/℃)의 우수한 고주파 유전특성이 ZnO-MO(M=Mg, Co, Ni)-TiO 2 와 같은 저가의 원료로 구현되는 것을 특징으로 한다.게다가 Ag이나 Cu 또는 이들의 합금 또는 Ag/Pd 합금을 내부전극으로 사용할 수 있어 각종 고주파용 소자 즉 적층칩 캐패시터, 적층칩 필터, 적층칩 캐패시터/인덕터 복합소자 및 모듈, 저온소결 기판, 공진기 또는 필터 및 세라믹 안테나용 유전체 재료로 사용될 수 있다.

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한국과학기술연구원
등록일
2008-07-21
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

저온소결 저손실 고주파유전체 세라믹스 조성물 및 그 제조방법

본 기술은 고주파용 유전체 세라믹스 조성물에 관한 것으로, 특히 기존의 고주파용 세라믹스 조성보다 매우 낮은 소결온도(925 ~ 1100℃)이면서도 높은 품질계수(Q×f=22,000∼100,000 GHz)와 유전상수(19≤ε r ≤46) 및 안정된 온도계수 및조성에 따라 다양한 온도보상 특성(τ f =-73 ∼+134 ppm/℃)의 우수한 고주파 유전특성이 ZnO-MO(M=Mg, Co, Ni)-TiO 2 와 같은 저가의 원료로 구현되는 것을 특징으로 한다.게다가 Ag이나 Cu 또는 이들의 합금 또는 Ag/Pd 합금을 내부전극으로 사용할 수 있어 각종 고주파용 소자 즉 적층칩 캐패시터, 적층칩 필터, 적층칩 캐패시터/인덕터 복합소자 및 모듈, 저온소결 기판, 공진기 또는 필터 및 세라믹 안테나용 유전체 재료로 사용될 수 있다.

보유기관
한국과학기술연구원
등록일
2008-07-21
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

슬립캐스팅법을 이용한 허스롤용 실리카질 슬리브의 제조방법

1. 기술의 개요- 목적 : 초미립 건식 실리카 분말로 제조된 실리카졸을 이용하여 소성밀도가 높은 실리카질 슬리브의 제조방법을 제공- 구성 : 초미립 건식 실리카 분말을 물에 분식시켜 실리카 슬러리를 제조하는 단계, 1차 분산된 슬러리를 건조한 후 건식 분쇄과정을 거쳐 과립상으로 만드는 단계. 과립상의 실리카 분말을 고온에서 1~5시간 하소하는 단계, 실리카 분말과 물을 혼합한 다음 볼 밀링하여 재분산된 실리카 슬러리를 제조하는 단계, 실리카 슬러리를 원하는 형상의 몰드에 부어 성형체를 형성시키는 단계, 얻어진 겔 성형체를 건조한 다음 하소 및 소성하는 단계- 효과 : 초미립 건식 실리카 분말로 제조된 실리카 실러리를 슬립 캐스팅하여 성형체의 성형밀도와 소결성을 향상시킨다.2. 기술의 특징슬립 캐스팅된 실리카질 슬리브의 경우 기존의 허스롤 슬리브에 비하여 우수한 특성을 가지나 성형후 소성시 저온 소성에 의하여 저밀도의 미세구조를 가지기 때문에 이로이한 내부기공을 많이 가진다는 단점이 있다. 이를 극복하기 위하여 초미립 건식 실리카 분말로 제조된 실리카졸을 이용하여 소성밀도가 높은 실리카질 슬리브의 제조방법을 제공한다.

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포항산업과학연구원
등록일
2008-08-26
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

원자력 시설용 배기필터

*본 기술은 원자력 시설에 설치되는 원통형의 배기필터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 작은 압축력으로 용이하게 압축되는 원자력 시설용 배기필터에 관한 것이다.그 구성은 원통형의 필터지를 갖는 원자력 시설용 배기필터에 있어서; 상기 필터지의 내부면으로 밀착되는 원통형의 내부주름관이 구비되고, 상기 필터지의 외부면으로 밀착되는 원통형의 외부주름관이 구비되며, 상기 주름관에 다수의 통공이 형성되고, 상기 주름관 및 필터지의 상면으로 유통공을 갖는 상부판이 부착되며, 상기 주름관과 필터지의 하면으로 하부판이 부착되어 구성되는 것이다.*본 기술의 목적은 배기필터가 작은 압축력으로 용이하게 압축되는 원자력 시설용 배기필터를 제공함에 있다. 그리고, 본 기술의 다른 목적은 압축에 방해를 주지 않는 상태로 배기필터를 적절히 지지하는 원자력 시설용 배기필터를 제공함에 있다.그리고, 본 기술의 다른 목적은 원격장비로 배기필터를 원자력 시설에 용이하게 설치 및 제거하도록 하는 원자력 시설용 배기필터를 제공함에 있다.그리고, 본 기술의 다른 목적은 원자력 시설에 배기필터가 보다 용이하게 안착되도록 하는 원자력 시설용 배기필터를 제공함에 있다.그리고, 본 기술의 다른 목적은 원자력 시설에 배기필터가 안착된 후에 그 기밀이 적절히 유지되도록 하는 원자력 시설용 배기필터를 제공함에 있다.

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한국원자력연구원
등록일
2008-12-29
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

고온 용융염에서 내부식성이 우수한 합금강

*본 기술은 염화물 및/또는 알칼리 산화물을 포함한 고온 용융염 조건 하에서 내부식성이 우수한 합금강 조성물, 이를 이용한 합금강의 제조방법 및 상기 합금강 조성물로 제조되는 합금강에 대한 것이다.*본 기술은 염화물 및/또는 알칼리 산화물을 포함한 고온 용융염에서 내부식성이 우수한 합금강 조성물, 상기 합금강 조성물을 사용하여 합금강을 제조하는 방법, 상기 합금강 조성물로 제조되는 염화물 및/또는 알칼리 산화물을 포함한 고온 용융염에서 내부식성이 우수한 합금강, 및 상기 합금강을 용융염 취급 장치 및 그의 구조 재료로 사용하는 용도를 제공하는 것이다*본 기술에서는 Ni 20∼40 중량%, Cr 0∼8 중량%, C 0.05 중량% 이하, Si 0.5 중량% 이하, Mn 1.0 중량% 이하, S 0.05 중량% 이하 및 잔부인 Fe로 구성되는 것을 특징으로 하는 용융염 조건 하에서 내부식성이 우수한 합금강 조성물을 제공한다. 이 때, 상기 용융염은 구체적으로 염화물 및/또는 알칼리 산화물을 포함한용융염을 의미한다

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한국원자력연구원
등록일
2008-12-29
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

고체산화물 연료전지 공기극용 세라믹 복합 분말 제조 방법

본 기술은 고분자 레진(Polymeric Resin)을 이용하여 기존의 산화물 입자 주위에 또 다른 조성의 산화물 분말을 위치하게 하여 두 가지의 세라믹 분말이 균일하게 혼합되어 있는 복합 분말을 합성하고, 이를 이용하여 차세대 에너지원인 고체산화물 연료전지의 공기극을 제작하도록 한다.

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연세대학교
등록일
2008-12-29
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

직물 필터

본 기술은, 미세 입자의 포집이 진행되어도 미세 입자에 의한 기공 폐색을 효율적으로 방지할 수 있는 구조를 가지며, 다양한 크기의 미세 입자를 그 크기에 따라 효율적으로 포집하여 여과 효율을 증대시킬 수 있는 구조를 가지고, 필터가 적용되는 용례에 관련하여 특별한 설계 변경 없이도 용이하게 적용할 수 있는 직물 필터를 제공한다.

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연세대학교
등록일
2008-12-29
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

반도체성 잉크 조성물, 반도체성 산화물 박막, 및 그 제조 방법

본 기술은 졸겔법을 이용한 반도체성 아연-주석-갈륨 산화물 박막의 제조방법에 관한 것으로서, 갈륨 전구체, 아연 전구체, 주석 전구체를 포함하는 금속염과, 상기 금속염을 용해시키는 유기 용매를 포함하며, 상기 금속염에서 아연 전구체, 주석 전구체, 갈륨 전구체의 전체 몰수를 100이라 할 때 아연 전구체가 40 ~ 90몰, 주석 전구체가 10 ~ 50몰, 갈륨 전구체가 0 초과 ~ 20몰이고, 상기 금속염의 농도는 0.1 ~ 1 mol/L 인 것을 특징으로 하는 반도체성 잉크 조성물을 제공한다.

보유기관
연세대학교
등록일
2008-12-29
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

면상 발열체

본 기술에 따라서 새로운 구조의 면상 발열체가 개시된다. 상기 면상 발열체는 알루미나 세라믹 기판과, 상기 기판 상에 소정의 패턴으로 형성된 발열체와, 상기 발열체를 비롯한 기판 전체에 걸쳐 도포되어, 상기 발열체를 보호하고, 상기 발열체로부터 발생되는 열을 기판 전체에 걸쳐 전파하는 오버코팅을 포함한다. 상기 오버코팅은, 질화보론(BN) 분말과 카본 보론실리케이트 글라스 프릿을 포함하는 분말 조성물과, 에틸-셀룰로오스, 라우리산 및 알파-터피네올을 기반으로 하는 유기 비히클을 혼합하여 제작된 페이스트로 이루어지고, 상기 BN 분말의 함량은 전체 분말 조성물 100 wt%를 기준으로 10~50 wt%이다.

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연세대학교
등록일
2008-12-29
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

폭발 프레싱에 의한 세라믹 금속 제품 생산

설명폭발 프레싱을 사용하여 세라믹 금속 제품을 생산하는 기술을 개발하였습니다. 이 방법은 폭발력을 사용하여 특수 용기 속의 세라믹 금속 입자를 처리하는 방법으로 구성됩니다. 폭발 처리 후에 컨테이너는 제품과 일체된 부분이 됩니다.기술 평가 및 경제적 이익폭발 프레싱에 의하여 제작되어 최고 700℃의 온도에서 수 톤의 하중을 받는 상업용 제품의 조작에 사용되고 2,000V의 파괴 전압을 견디는 절연 장치입니다. 지시된 조건 하에서 이 장치의 서비스 수명은 약 8 년이며, 이 기간은 보통 절연체의 서비스 수명보다 10배 긴 기간입니다.폭발 프레싱에 의하여 생산된 부품과 장비는 이산화황과 금속 먼지를 포함한 대기 중에서 작동될 수 있으며, 수리나 유지보수가 불필요하고, 절연 장비의 신뢰성을 향상시킵니다.

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(재)경기대진테크노파크
등록일
2009-01-15
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