일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
반도체 산업에서 사용되는 고순도 실리콘 단결정을 생장시키기 위한 유닛에서, 실리콘-카바이드 코팅을 가열기와 발열기의 구성 부품에 적용하는 것에 대해 기술하였다. 이 코팅은 밖으로 나가는 혼합물과 공정 과정으로 되돌아오는 반응하지 않은 재료의 순차적인 분리와 함께 흑연과 탄소-흑연 재료로부터 가스 상태 증발(메틸 3염화물 시레인과 수소)의 방법에 응용된다. 재료의 주된 기술적 특징으로는, 증발 속도는 시간당 0.5-1mm, 증발 온도는 섭씨 200-1350도, 대기 중에서 코팅된 물품 작동의 최대 온도는 섭씨 1650도이다. 실리콘-카바이드 코팅은 더 높은 순도를 갖는 실리콘 단결정을 얻게 하고 가열 요소와 발열 구성 요소의 수명 연한을 증가시키며 탄소-흑연 재료의 소비를 줄여준다. 어떤 유사품도 알려져 있지 않다.증발 속도는 시간당 0.5-1mm, 증발 온도는 섭씨 200-1350도, 대기 중에서 코팅된 물품 작동의 최대 온도는 섭씨 1650도이다. 실리콘-카바이드 코팅은 더 높은 순도를 갖는 실리콘 단결정을 얻게 하고 가열 요소와 발열 구성 요소의 수명 연한을 증가시키며 탄소-흑연 재료의 소비를 줄여준다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-06-13
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
심한 마찰과 마멸 조건, 부식성 침투 매개물, 그리고 고온에서 사용되는 공구 및 중요한 기계 부품의 수명 연한의 증가와 재생에 대해 기술하였다. 응용 분야는 전력 공학, 석유와 가스 산업, 화학 산업 등이다. 전자빔 침전, 이온 주입, 이온 플라스마 분사에 의한 보호 및 강화 코팅 응용 기술은 경도, 마멸 및 부식 저항성을 증가시키고 다른 제품 표면층의 물리-기계적, 기계적 성능을 개선하는 것을 목적으로 개발되었다. 또한 위의 기술을 실현화할 수 있는 장비도 고안되었다. 수명 연한은 약 2-5배 증가하였고, 내 부식성은 10-1000배 증가하였고, 마찰 계수는 2-2.5배 낮아졌다. 러시아에서 동급의 제품은 알려지지 않았다.수명 연한 : 약 2-5배 증가, 내 부식성 : 10-1000배 증가, 마찰 계수 : 2-2.5배 낮아짐.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-06-13
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
다양한 산업 부문에서 금속, 세라믹 그리고 복합 재료 기계 부품과 기구의 특성을 개선하는 것에 대해 서술하였다. 강력한, 고 에너지 플라스마 유동으로 표본 표면을 짧은 시간(마이크로 sec)동안 조사시키는 것에 의해, 부품을 가열하고, 기계 부품의 표면층을 개선시키며, 특히 작업 성능을 향상시키는 효과가 발생한다. 이 방법은 매우 간단하고, 짧은 시간에 저가의 전해액 야금술, 질화, 붕소화 등과 같은 기술의 예와 같이 생태학적으로 가능한 공정에 의해 대체될 수 있다. 취급할 부품의 치수에 따라 장치에 드는 초기 비용 100000-700000달러에 더해 주 작업 비용은 전력(약 2kW)과 2-3명의 임금이다.강력한, 고 에너지 플라스마 유동으로 표본 표면을 짧은 시간(마이크로 sec)동안 조사시키는 것에 의해, 부품을 가열하고, 기계 부품의 표면층을 개선시키며, 특히 작업 성능을 향상시키는 효과가 발생한다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-06-13
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
새로운 전해질을 사용하여 일반적인 크롬도금 강판보다 내부식성이 크고 크롬의 접착력이 큰 크롬도금 강판 생산기술로 강판의 수명을 연장할 수 있고 소비전력량도 30-40%감소할 수 있다.전해질의 성분은 값싸고 쉽게 구할 수 있는 황산크롬 및 황산알루미늄이며 유사기술은 없는 것으로 알려졌으며 유독성 Cr(4)대신 무해한 Cr(3)을 ㅅ용하므로 안전하다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-07-18
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
서로 다른 내화성 금속, intermetallide, 카마이드, 붕화물(boride)질산화물, NiAl, TiNi, TIAl등의 , 금속-세라믹물질로부터SHS(Self-propagating High-temperature Synthesis)기술을 이용해서 2-6mm의 긴 전극 을 만드는 기술이다.현재 가능한 타이프는1)Ti-Mo-C, 2)Ti-Ta-Mo-C, 3)Ti-Ni-Mo-C, 4)Ti-Fe-Si-Mo, 5) Ti-Cr-C, 6)Ti-B-C, 7) Ti-N-C, 8)Ti-Ni-Al-C, 9) Ti-Ni-C 가 있다코팅의 일정도 90-98%, 코팅두께 10-100마이크로미터이며 2-5배로 제품의 내마모성을 증가시킬 수 있다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-07-04
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
진공상태에서 SHS (Self-propagating High-temperature Synthesis)기술을 이용하여 다공성 물질을 제조하는 기술이다. open prosity를 최대 95%까지 높일수 있고 총공극율은 50-70%로 조절할 수 있다. 공극의 크기는 5-900마이크로미터로 다양하다.본기술을 이용하면 티타늄이나 니켈알루미늄화합물, 탄화티타늄, 붕화티타늄, 탄화크롬에 기초한 다공성물질을 제조할 수 있다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-07-04
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
열가소성 수지에는 비강화, 유리섬유 강화, 그리고 미네랄 및 유리구(Glass bead) 충진의 세 가지 형태가 있으며, 일반적인 사출성형에 열가소성 수지가 널리 쓰여, 비결정성 플라스틱과 반결정성 플라스틱으로 구분된다한편, 용사코팅 기술은 소재의 표면에 코팅을 함으로써 고강도, 내마모, 내열, 내산화성 등 우수한 소재의 특성을 향상시킬 수 있는 기술로서, 산업의 세계화 추세에 따라 국제적인 경쟁이 심화되고 있으며 설비 및 제품의 수명 및 성능향상이 요구되고 있다. 또한 환경보호와 에너지 절감을 위하여 소재의 고성능화가 필요하다. 용사코팅 기술은 1900년대 Dr. M.U. Schdroop가 용사기술을 착안하여 Arc, Flame, Plamsa를 열원으로하는 기술로 개발되어 왔다. 특히 2차대전 이후 산업이 발전함에 따라 급속히 발달하여 현재는 항공, 발전, 제철, 전자, 의료 등 각 분야에 핵심기반기술로 활용되고 있다. 이 기술은 소재의 표면을 특수한 기능을 갖을 수 있도록 재료의 기판 위에 metal, ceramic, composite, oxide 등의 다양한 재료를 코팅하여 소재 표면의 특성을 고성능, 고기능화 시키는 것을 특징으로하는 기술이다.본 기술의 크게 분말상의 원료수지와 열가소성 수지 분말을 용사코팅하여 내식성 피막을 얻는 기술과 열가소성 고분자 수지 용사 코팅 기술로 나눌 수 있으며, 내충격성, 유연성, 내화학성이 우수한 코팅 성형을 유도할 수 있는 기술로 평가받고 있다.본 기술의 기대 효과는 다음과 같다.첫째, 구조물 수명향상에 기여할 수 있다.둘째, 고질적으로 부식이 극심한 부위의 보수작업 소요감소 및 설비 안정화에 기여할 수 있다
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- (재)포항산업과학연구원
- 등록일
- 2001-08-30
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
물을 사용치 않아 폐수가 없는 아연도금.아연볼을 이용한 아연,철 합금도금.건식으로 도금을합니다.폐수없이 적은 장소에서 작업가능.인건비 절약.여러가지 에너지 절약.
- 등록일
- 2002-01-24
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
알루미늄 도금 강판 또는 알루미늄 위에 법랑 처리하는 것으로 이에 대한 전처리 기술과 약품 배합, spray coating, 소성(열처리) 등에 대한 제조 기술로서 일반적인 법랑보다 고급 기술로서 소성 온도를 약 500-550도에서 처리하고 1회 coating으로 다양한 색상과 무늬를 가질 수 있다.일반 법랑에 비해 밀착이 뛰어나고 광택이 많으며 적용하고자 하는 부위에 부분 또는 단면 법랑이 가능하며 가볍고 소성 온도가 낮아 열변형에 의한 뒤틀림이 없다.도장에 비해 경도가 매우 높고 내SCRATCH성이 높으며 내화학성 또한 우수하다.
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- 부산기술이전센터
- 등록일
- 2002-04-04
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
금속 표면에 고 효율 표면 처리를 통하여, 화학적 성분, 구조, 특성의 변화를 일으켜 내마모성, 내열성, 내부식, 절연성의 코팅이 가능한 기술. 이 기술의 가장 큰 특성은 전해질 내에서 micro 방전을 일으켜 그 에너지를 이용하여 표면 처리를 하는 것임.초고압(1,000V)의 상태로 운전, 약 알칼리성의 전해질 사용. 조작이 간편하고 친 환경적이며 안전함. 표면 처리전 특별한 사전 준비작업이 없음
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- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-04-30
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
합성사파이어를 장신구용 또는 광학적 기능을 갖도록 가공하고 표면확산을 이용하여 나노크기의 불순물을 주입하여 목적하는 블루사파이어를 제조하는 공정기술.중심부까지 uniform한 색구현이 가능하고 발색전과 비교하여 외형변화가 없는 장점이 있어 충분히 주얼리로서의 가치를 가짐.
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- 대학산업기술지원단
- 등록일
- 2002-04-30
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
1. 도자기 재질에 금분의 상회칠 장식 기술금, 은, 산화 비스무트등의 원재료에 산화수은 대신 황을 투입한 것은 장식품의 소성과정에서 상당한 공해 문제를 해결하게 되었으며, 동시에 가스상태에서 금의 손실을 줄여 주었음. 접착력 및 기계적 특성을 향상 시킴. 2. 액체 금을 이용한 유리 장식 기술기존에 유기혼합물을 이용한 경우 열처리 온도가 750~ 815도까지 상승되었어야 하나, 560도에서 그 접착력 및 강도가 확보됨. 색상 조건도 크게 향상됨거울에 대한 금막의 접착 강도를 향상광학적, 색상적 특성의 향상기계적 특성의 향상
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- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-05-02
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
장치의 종류: 다기능 쳄버, 벨(Bell) 타입 축, 엘리베이터(바닥 상승, 바닥 이동형), 간접 가열식 로.SNTSA-type 전기로 장치: 탄소 함유 가스의 분위기에서 철 제품의 표면에 탄화를 시키는 목적으로 개발. 2개의 SNTSA type 로와 저온 전기 경화로, 건조-세척 기계로 구성 됨.쳄버 타입 SNVA 진공 전기로 장치: 소결된 제품의 가단성을 유지한 상태로 강도의 개선, 내구성 및 수명을 향상 및 탄화, 경도개선 등의 목적으로 개발된 복합적인 화학적 열처리를 위한 장치임.축 타입 SHV 진공 전기로 장치: 복잡한 형상의 부품의 표면의 강도 개선, 마모 방지, 내구성 강화, 부시 방지의 목적을 위해 개발된 장치로 글로 방전(이온 질소) 상태에서 확산 주입이 일어난다.연속 전기 저항로 장치: 이종의 금속 및 합금의 표면처리, 니켈 평판과 금속-세라믹 밴드의 소결, 스테인레스 튜브의 담금질, 청동 합금 밴드의 표면 강화 등의 목적으로 개발. 열처리 및 화학적 열처리를 위한 전기 저항로 및 그 장치는 제품 표면의 성분, 마이크로 구조, 재질의 개선을 위한 것임.낮은 운전 원가 및 에너지 절감, 그리고 고 신뢰성의 장점이 잇음
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- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-05-04
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
동 장비는 이온-플라즈마 기술로 부품이나 공구들에 여러 재질(Ti, Zn, Cr, Mg, Al, Mo, W와 그 산화, 질화, 탄화 재질)을 이용한 마모 방지 또는 장식용 코팅을 하기 위해 개발 됨코팅의 균질성(다층 코팅 처리의 경우 포함) 및 저온 처리가 가능한 것이 그 장점이다
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- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-05-04
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
동 기술은 표면에 내 마모성 침전을 통한 강화 합금 및 다중 코팅을 위한 복합 소재의 개발.개발된 금속은 기계 제작 및 자동차 산업 분야에 이미 적용되고 있으며, 타 선진 재료들과 비교하여 효율성이 나타남. 또한 화학적 물리적 침전을 통한 복합 소재 코팅 적용분야를 개발하였음탄소, 질화 티타늄, 산화알루미늄등의 Hard Metal은 다목적 다용도로 적용이 가능함.
- 보유기관
- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-05-06
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
동 제품은 다양한 모양 및 크기를 갖는 완제품 고무의 가스 표면처리를 위해 개발.동 기술은 표면에 불소화 층을 형성하는 것으로 천연 불화 고무와 그 구조가 매우 흡사하다. 따라서 동 제품은 고가이며, 충분하지 않은 천연 불화 고무 제품의 대체가 가능하며, 환경적 기술적으로 안전하다. Dupont및 Dow chemical이 보유한 제품과 동일한 성능을 구현함.동 기술은 다목적으로 사용가능하며, 링, packing, 밀봉 ring 등 여러 형태의 고무를 처리할 수 있으며, 가스 또는 액체 상태의 어떤 폐기물도 발생 되지않음
- 보유기관
- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-05-06
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
VIAM MESH-50은 load-bearing기계 부품에 적용을 위한 multicomponent 합금과 메탈-비메탈 재료의 다층 보호 코팅 및 표면 강화 코팅을 개발되었다. 동 설비는 완전 자동화되어 있고, 단일 기술 사이클내에서 멀티레이어 multicomponent 코팅을 제공한다. 동 설비는 처리된 표면의 세척을 위한 이온 source 및 아크 증발 장치를 표함하고 있으며, 침전 비율 증가와 제품의 최대 직선 치수가 60 (120)×450 mm까지 처리가 가능케 한다. 주요 특징아크 증발 장치 전류, A 300-2,400이온 소스 작동 전압, kV 2-3이온 소스 최대 전류, A 1전원, V, Hz 380, 50외장 치수, mm 3,500×4,500×2,200무게, kg 6,000표면에 최대로 접착되며, 조밀하고, 비공질 코팅화학 구조의 안정성재생산시 코팅 두께(±3%)의 정밀도 취급 용이 저 비용
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- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-05-11
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
동 기술은 세계적으로 유일하며, sub-fine grain구조를 갖는 무 공질의 다양한 다음과 같은 종류의 코팅을 실시하기 위해 개발됨. -다 재질 확산 알루미늄화 코팅: 950~1050도의 온도에서 작동하는 터빈 블레이드의 코팅을 위한 것으로 동 프로세스 기술은 블레이드의 에어포일을 따라 코팅 층의 두께를 형성하는 프로파일을 허용하며, 기존의 어떤 확산 알루미늄화 코팅 방법도 실현하지 못 한 기술임-MeCrAlY 도포, 도포-확산 코팅(Me-Ni, Ni-Co 등)은 터빈 블레이드의 작동 온도 700~ 1200도에 견디게 하기위한 보호 코팅 방법으로 120mm의 두께로 실시함-탄화/질화 금속의 고 강도 코팅은 컴프레서의 블레이드가 dust로 부터의 부식이 되는 것을 방지하기 위하여 2~40mm로 실시함정밀한 코팅 두께(±3%)의 확보와 정밀한 조성 비율, 프로세스의 변화 없이 높이 200mm, 침전율 30mm/h의 부품을 24개 까지 코팅 가능.
- 보유기관
- 티알씨코리아
- 등록일
- 2002-05-11
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
처리된 중간상의 카본 섬유는 섬유표면에 노출된 가장자리가 고밀도라는 것과 그러한 가공 섬유를 만드는 방법이 밝혀졌다. 카본 전극은 그러한 중간상(mesophase) 카본 섬유로부터 만들어진다. 만들어진 전극은 유연하게 처리된 카본섬유로부터 형성되고 노출된 가장자리로부터 형성되는 활성화 장소의 고밀도와 낮은 부식 그리고 좋은 기계적 힘에 의해 특성화 된다. 또한 다양한 모양으로 제조가 가능하다. 이 가공 처리된 중간상 카본 섬유는 첫째로 섬유의 딱딱한 카본 껍질 위에 촉매 에칭이 되는 곳을 만들기 위해 중간상 카본 섬유의 표면 위에 촉매 금속 입자를 적재한다. 카본 섬유는 그때 에칭 단계를 거치는데 하드 카본 쉘 또는 스킨이 선택적으로 제거되고 다음에 촉매 금속 입자가 카본 쉘에 붙는다. 이것으로 중간상 카본 섬유의 카본 쉘 안에 그래파이트 계열의 레이어의 radial edge를 노출시킨다. 이로 인해 노출된 radial edge 는 가공 처리된 중간상 카본 섬유로 형성된 카본전극의 활성 영역으로서 작용한다.개선된 성능과 edge site의 밀도를 증가시킨다.
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 등록일
- 2003-01-27
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일반기술
재료 > 부방식·표면처리 기술
본 기술로 만들어진 플라즈마 집중 이온 이식 장치는 진공 체임버와 그안에 위치한 플라즈마 소스로 이루어져 있다. 플라즈마 소스를 켰다 껏다 하면서 진동을 주는 수단이 되고 전압 소스 또는 전원 공급기가 전압을 타겟 또는 이식될 물체에 인가할 때 사용된다. 이 장치의 중요한 특징은 플라즈마 소스가 온·오프로 스위칭 된다는 것이다. 이는 펄스를 가진다라고도 할 수 있는데 이는 이온이 타겟에 이식될 동안 일어난다. 이온 이식 장치는 과열을 피할 수 있게 만들어졌고 예측할 수 있거나 또는 우리가 바라는 깊이로 이온의 대부분을 이식할 수 있다. 이때 높은 파워 스위치가 필요가 없고 2차 전자를 최소로 발생시킨다. 이 타겟은 플라즈마 발생기의 진공 체임버 안에 위치하고 있다. 그래서 어떤 이온빔도 확장되거나 초점으로 모아지거나 조작될 필요가 없다. 이 플라즈마 소스는 타겟의 과열과 2차 전자의 발생을 제한하기 위해 펄스 모드로 작동되고 일정한 바이어스 전압이 타겟 이온에 인가된다. 이는 이온을 바람직한 수준에서 타겟에 이식하기 위해서이다. 이때 높은 파워 전기 스위치가 필요가 없고. 우선적으로 RF 안테나를 이용해 가스 볼륨과 파워를 결합시켜 플라즈마 이온을 발생시킨다. 이 이온 발생은 다른 이온 발생법이 사용되고 있다 할지라도(즉, 예를 들어 마이크로파와 진공 아크 방전 이온화 방법을 사용할지라도 일어난다.) RF 구동 플라즈마는 쉽게 펄스 모드로 작동될 수 있다. 이 기술은 펄스 플라즈마 소스를 사용하여 플라즈마와 타겟 사이의 항복(breakdown) 전위 보다 높은 에너지에도 이온 이식이 가능하게 한다. 플라즈마 소스와 타겟 포텐셜 사이의 동조된 펄싱은 이온 이식 전압을 항복(breakdown) 전압과 같거나 더 크게 하는 결과를 가져온다.- 불규칙한 물체도 다룰 수 있다. - 고도로 제어가능한 프로세스이다.- RF 발생 플라즈마는 다른 시스템보다 더 깨끗하다.
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 등록일
- 2002-07-19
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