일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
중합체의 단량체로 사용될 수 있는 불소 함유 치환체가 도입된 트리아릴포스핀 옥사이드 유도체에 관한 기술이다. 종래의 접착성, 난연성 등의 물성이 우수한 중합체 제조를 위한 단량체는 DAPPO 또는 DDS를 사용하는 방법이 알려져 있으나, 접착력, 유전상수, 복굴절율 등의 물성이 만족스럽지 못하다. 또한 우수한 물성을 가진 불소화합물의 경우에는 상대적으로 다른 물질과의 접착력이 떨어지는 단점이 있다. 이러한 문제점을 해결하고자, 접착력 및 난연성 향상에 탁월한 효과가 있는 포스핀옥사이드계 화합물에 불소 치환체를 도입하여 우수한 물성을 갖는 신규 물질을 제공한다. 유기 용매 및 마그네슘 중에서 플루오로알킬-이치환된 브로모벤젠과 디페닐포스피닉 클로라이드를 반응시킨 후, 염 존재하에서 질산화하고, 이를 다시 팔라듐 촉매의 존재하에서 수소화하여 불소 함유 치환체가 도입된 트리아릴포스핀 옥사이드 유도체를 제조한다. 또한 상기의 유도체를 디안하이드라이드 화합물과 반응시킨 후 용액 이미드화하여 폴리이미드 중합체를 제조할 수 있다. 상기의 화합물은 인과 불소를 동시에 가져, 접착성, 난연성 뿐만 아니라 내약품성 및 전기절연성이 우수하여 반도체 패키징 재로, 내화제, 광섬유 및 광학재료의 중간물질, 금속의 접착제 중간물질로 사용될 수 있는 중합체의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
- 보유기관
- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-05-30
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화학공정 > 고분자 가공공정 기술
폴리메타아크릴레이트의 음이온 중합방법에 관한 기술이다. 메타아크릴레이트의 음이온 중합은 많은 부반응을 수반하므로, 종래에는 이러한 문제를 해결하기 위해 LiCl, 금속물질, 아민류 등을 이용하여 부반응을 제거하고 있으나, 고체 형태의 단량체를 사용하는 경우에는 어느 정도의 불순물을 함유하고 있으며, 이로 인해 분자량 및 분자량 분포의 조절에 문제가 있었다. 또한 니트로 그룹을 갖는 물질의 경우에 아직까지 음이온 중합을 이용하여 고분자를 합성한 경우가 보고된 바 없다. 이러한 종래의 문제점을 해결하고자, 카르바졸을 함유하는 메타아크릴레이트 고체 단량체를 이용하여 분자량과 분자량 분포를 제어한 고분자를 제공한다. 카르바졸을 측쇄로 갖는 메타아크릴레이트 단량체를 합성하고, 전기의 단량체를 디에틸아연 등을 사용하여 음이온 중합함으로써, 단독고분자 또는 블록 공중합체를 제조한다. 상기의 중합방법은 불순물을 함유하는 고체단량체의 불순물을 디에틸아연을 사용하여 제거하므로써 분자량과 분자량 분포를 제어할 수 있다는 장점을 가진다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-05-30
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화학공정 > 고분자 가공공정 기술
덴드리머의 말단에 폴리아민이 치환되어 있는 폴리암모늄 덴드리머, 그 제조방법 및 이 폴리암모늄 덴드리머 말단의 폴리아민과 쿠커비트릴간의 반응으로 형성된 자기 조립 착물 및 그 제조방법에 관한 것이다. 덴드리머는 잘 정돈된 화학구조를 가진 3차원적 공간 형태로 많은 분지를 갖는 고분자로서 중심영역, 분지영역, 외부표면(말단) 영역으로 이루어져 있고, 내부공간이 있어 염료나 형광물질과 같은 큰 분자, 금속 이온들을 포집할 수 있고 운반체로도 이용이 가능하다. 현재 덴드리머의 내부공간안에 포집된 분자들의 화학적 환경을 변화시켜 덴드리머 외부로 나올 수 있도록 하는 덴드리머 상자에 관한 연구가 이루어지고 있으며 덴드리머의 표면에 존재하는 작용기를 화학적으로 개질함으로서 기능성을 갖는 화합물을 합성할 수 있을 것이다. 본 발명은 말단 영역에 폴리아민기를 갖고 있어서 생화학적 활성물질과 자기조립이 가능한 폴리암모늄 덴드리머, 그 제조방법 및 이의 용도를 제공한다.디아민 화합물을 알킬 브로모아세테이트와 반응시키고 이를 아민보호기와 반응시키거나 또는 보호된 아미노알킬토실레이트와 반응시켜 에스테르 화합물을 얻고, 이를 가수분해하여 카르복실산 화합물을 얻은 후 이를 에스테르화 반응을 시켜 에스테르 화합물을 얻고, 상기 카르복실산 화합물 및 에스테르 화합물 중에서 선택된 하나와 덴드리머를 반응시킨 화합물을 얻은 후 보호된 아민 그룹의 탈보호 반응을 실시하여 폴리암모늄 덴드리머를 제조한다. 합성된 폴리암모늄 덴드리머는 말단에 폴리아민기를 갖고 있어 쿠커비트릴과 같은 수용체와 반응하여 유사로택산 덴드리머 유도체 등과 같은 자기조립 착물을 형성하여 덴드리머 내부에 생화학적 활성물질을 포집할 수 있고 또한 내부에 포집된 생화학적 활성물질을 천천히 방출시킬 수 있다.
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- 포항공과대학교
- 등록일
- 2001-05-31
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화학공정 > 고분자 가공공정 기술
폴리이미드의 제조에 사용되는 3,6-다이((3,5-비스트리플로오로메틸)벤젠)피로멜리틱다이안하이드라이드 단량체의 제조에 관한 기술이다. 폴리이미드는 우수한 기계적, 전기적 특성을 가지고 있어 다양한 분야에서 사용되고 있으나, 낮은 용해성으로 인해 가공성이 낮고, 낮은 유전상수와 높은 절연특성을 요구하는 마이크로일렉트로닉스 분야의 소재로서 개선되어야 할 많은 문제점이 있었다. 특히 주쇄에 유연성기를 도입하여 낮은 용해성을 개선하는 종래의 방법은 유리전이온도를 낮추게되는 문제를 발생시켰다. 이러한 가공성의 문제를 해결함과 동시에 높은 유리전이온도와, 낮은 유전상수를 가지는 폴리이미드의 제조를 위한 단량체와 이의 제조방법을 제공한다반데르발스 반지름이 작고 전기음성도와 이종 원소간의 결합에너지가 매우 큰 불소를 함유하는 벤젠 치환체를 리지드(rigid)한 구조를 지닌 피로멜리틱다이안하이드라이드 유도체에 도입하여 3,6-다이((3,5-비스트리플로오로메틸)벤젠)피로멜리틱다이안하이드라이드 단량체를 합성하고, 이를 이용하여 폴리이미드를 제조한다. 상기의 폴리이미드는 높은 유리전이온도, 낮은 유전상수, 낮은 흡습율 및 우수한 용해도를 가져, 전자소재로서 사용될 수 있는 장점을 가진다
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-05-30
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화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술의 자수용 바닥소재는 기계적 내후성과 가수분해성이 우수한 수지조성물을 용융방사한 섬유로 제조되는 직물 또는 부직포 형태의 자수바닥 소재에 자수를 놓거나 또는 나일론이나 폴리에스테르 등의 망사 직편물과 본 기술의 바닥 소재를 겹쳐 기계 자수할 경우, 자수사에 손상이 거의 없이 용해 공정에서 섬유소재가 가수분해됨으로써 자수안정성과 형태안정성이 우수한 바닥 소재이다.사용되는 섬유는 그 조성물이 열가소성 수지조성물로, 특히 5-소디움 설포네이트 디메틸 이소프탈레이트가 전체 에스테르 교환 반응성 디액시드에 대해 2~7몰% 함유하는 폴리에스테르계 또는 폴리에스테르 에테르계가 80~93중량%이고, 수평균 분자량이 2,500~20,000인 수용성 폴리알킬렌 옥사이드 성분이 7중량%~20중량%인 혼합물이다.또한 제조된 자수용 바닥 소재는 망사자수 및 케미칼 자수용 바닥소재의 용도외에도 어망 제조의 분리소재, 파일직편물 제조시 부자재, 면혼방에 의한 세번사 면사 또는 부드로운 촉감을 가지는 면사제조의 부자재로도 이용될 수 있다 본 기술은 5-소디움 설포네이트 디메틸 이소프탈레이트가 전체 에스테르 교환 반응성 디액시드에 대해 2~7몰% 함유하는 폴리에스테르계 또는 폴리에스테르 에테르계가 80~93중량%이고, 수평균 분자량이 2,500~20,000인 수용성 폴리알킬렌 옥사이드 성분이 7중량%~20중량%인 열가소성 수지 조성물로부터 제조되는 것이 특징이다.열가소성 수지 조성물로 제조된 섬유는 0.3~2.0중량%인 알칼리수용액에서 분해/용해되는 자수용 바닥소재이며, 제조된 자수용바닥 소재는 인장 강도 및 인열 강도가 우수하고, 고온다습한 환경에서도 물성 변화가 없으며 자수공정의 안정성이 뛰어나 형태 한정성이 우수한 고부가 가치 망사자수 및 레이스를 생산하는 부자재로 사용될 수 있을 뿐만아니라 자수후 바닥 소재를 분리하여 제거하는 공정에서도 존래의 섬유 고분자의 수화용해와 달리 섬유고분자를 가수분해하여 저분자 상태로 용융하거나 올리고머를 유화분산시키는 방법이므로 비교적 폐수처리가 간편한 효과가 있다
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-06-11
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술은 압축공기를 함유하는 열가소성 수지제 허니콤 패널에 관한 것으로 수지 자체의 복원력과 허니콤 패널 내부의 압축공기에 의해 내충격과 반발탄성이 개선된 허니콤 패널에 관한 것이다.허니콤 패널은 벌집형상의 육각구조 단위체로 이루어진 허니콤코아의 양면에 면재를 부착시킨 구조물로서 내충격과 반발탄성이 요구되는 예를 들면 신발의 충격흡수소재, 보호구 등에 사용된다.본 기술에서는 충격흡수재의 내충격성을 개선시키고, 연질 열가소성 수지자체의 원형회복력 이외에 허니콤 패널 내부의 공기압을 상승시켜 고압상태로 유지시키면 충격에 대하여 원하는 정도의 반발탄성을 얻을 수 있다는 사실을 발견하였다.본 기술의 허니콤 패널은 열가소성 수지로 이루어진 허니콤코아의 내부기압을 대기압보다 높게 조성한 후 허니콤코아의 양면에 허니콤코아와 동일 또는 상이한 재질의 면재를 부착시켜 허니콤 패널을 완성하였다.따라서 충격흡수효과가 적은 문제점을 개선하여 허니콤코아 내부의 압축공기에 의해 반발탄성을 부여함으로써 내충격이 현저하게 개선되었다본 기술은 열가소성 수지로 이루어진 허니콤코아의 양면에 허니콤코아와 동일한 재질의 면재가 부착되어 있는 허니콤 패널에 있어서, 허니콤코아 내부의 공기압력이 대기압보다 높은 것이 특징이며 특히 공기압력은 5기압 이하이다.또한 열가소성 수지에 섬유 또는 섬유로 직조된 직물, 부직포가 담지되어 복합적으로 구성되어 있으며, 섬유는 폴리올레핀 섬유, 유리섬유, 탄소섬유, 또는 아라미드 섬유이며 위의 허니콤코아와 면재가 각각 서로 동일하거나 상이한 열가소성 수지로 이루어져 있다.본 기술의 허니콤 패널은 낙종충격법으로 반발탄성 및 충격흡수를 종래의 허니콤 패널과 비교한 결과, 강한 충격이 가해지더라도 충격흡수효과가 우수한 장점이 있으며 허니콤코아의 내부공기가 대기압 상태로 유지되는 종래의 제품에 비해 탁월한 완충효과를 나타내었다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-04-02
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술은 황원으로서 알칼리 금속 수황화물과 알칼리 금속 아미노알카노에이트를 복합 사용시 탈수 조제 역할을 하는 화합물로 금속 착화합물을 첨가하여 탈수함으로써 탈수시간을 단축하고 알칼리금속 수산화물 등으로 환원되는 것을 방지할 뿐만 아니라 중합도가 향상된 폴리아릴렌 설파이드를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 기술에서는 탈수효율을 높여 중합반응에서의 반응압력을 감소시키고 중합도가 향상된 폴리아릴렌 설파이드의 제조방법을 얻기 위하여 알칼리금속 수용액 또는 수화물을 극성용매에서 탈수시키는 단계에서 탈수조제로서 금속착화합물을 사용함으로써 탈수시간의 단축은 물론 반응기에 잔류하는 물의 양을 감소시킴으로써 알칼리 금속 수화물과 황화수소로 환원되는 문제점을 해결하고, 또한 보조적인 수단으로 탈수단계 및 중합단계에서 용매사용량을 증가시켜 폴리아릴렌 설파이드를 제조하였다.이렇게 제조된 폴리아릴렌 설파이드는 사출 또는 압출성형에 의해 플라스틱으로 가공할 수 있다.본 기술은 폴리아릴렌 설파이드를 제조하는데 있어서, 알칼리 금속 아미노알카노에이트와 알칼리 금속 수황화물을 사용할 때 금속 착화합물을 첨가하고 용매하에서 탈수시킨 다음 폴리할로겐 방향족 화합물과 중합시켜 제조하는 것이 특징이다.알칼리 금속 아미노에이트로는 리튬 아미노아세테이트, 나트륨 N,N-디메틸-2-아미노프로피오네이트, 나트륨 N-메틸-4-아미노부틸레이트, 나트륨 N-메틸-6-아미노헥사노에이트 등을 사용하며, 금속 착화합물로는 K4Fe(CN)6, Na4Fe(CN)6, Na2(SiF6) 또는 Na4Ni(CN)4 중 어느하나 이상을 사용하고, 알칼리금속 수황화물에 대해 0.5~5.0:1몰비로 사용한다.본 기술은 종래와 동일한 시간동안 탈수공정을 실시할 때, 탈수효율이 높아 알칼리금속 수황화물의 탈수 생성물내의 수분제거량이 많아져서 탈수 공정 후 이어지는 중합반응에서의 반응압력을 종래보다 감소시키며, 제조된 중합체는 종래방법에 의해 탈수공정을 실시하였던 것에 비하여 사출 또는 압출 성형에 의해 플라스틱으로 가공하기가 유리하다
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-04-02
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술은 폴리페닐렌 설파이드 수지의 제조방법에 관한 것으로, 중합하여 얻은 폴리페닐렌 설파이드 중합체에 산화방지제를 첨가하여 경화시킴으로써 폴리페닐렌 설파이드 수지의 황변을 방지하여 보다 밝은 색상의 폴리페닐렌 설파이드 수지를 제공하는 방법에 관한 것이다.폴리페닐렌 설파이드 수지는 경화시의 승온 속도에 따라 황변 정도가 달라지는데, 승온 속도를 빨리하면 경화속도는 빨라지나 황변이 많이 되고, 느리게 하면 황변은 적게 일어나지만 경화속도가 느려서 생산성이 낮아지는 문제가 있다.따라서 본 기술에서는 경화 공정 직전에 산화방지제를 첨가함으로써 경화공정에서의 황변을 방지하고, 높은 온도에서의 경화반응이 가능하게 하여 생산성에 지장을 주지 않으면서도 보다 밝은 색상으로, 외관용 부품으로도 사용할 수 있는 폴리페닐렌 설파이드 수지를 제조하였다본 기술의 폴리페닐렌 설파이드 수지는 알칼리금속 황화물과 폴리할로 방향족 화합물로 이루어진 폴리페닐렌 설파이드 중합체를 공기분위기에서 경화반응시켜 폴리페닐린 설파이드 수지를 제조함에 있어서, 폴리페닐렌 설파이드 수지에 대하여 산화방지제 0.01~3 중량%를 첨가하여 경화시키는 것이 특징이다.산화방지제로는 옥타데실-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시하이드로신나메이트 또는 4,4`-부틸-비스(6-t-부틸메타크레졸)을 사용한다.이렇게 제조된 폴리페닐렌 설파이드 수지는황변이 방지되어 밝은 색상을 띄며 전기, 전자부품 및 자동차 부품의 외관재로도 그 이용이 가능하다
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-03-31
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술은 고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침지시켜 상분리법에 의해 비대칭 지지막을 제조하는 방법에 있어서, 1) 고분자 용액이 물리적 겔이 되는 주용매 단독이나 또는 이 주용매에 공용매를 첨가한 혼합 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계 및 2) 상기 1)단계에서 제조된 고분자 용액을 최종 막의 형태로 제조하여 물리적으로 겔화시킨 후 비용매인 물에 침지시켜 상분리를 유도하여 비대칭 지지막을 제조하는 단계를 포함하는 비대칭 지지막의 제조 방법 및 이로부터 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막에 관한 것이다본 기술에 의하면, 고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침전시켜 상분리 법에 의해 비대칭막을 제조하는 방법에 있어서, 고분자 용액을 특정 온도나 용매를 사용하여 물리적인 겔 상태로 만든 후 비용매인 물에 침지시켜 비대칭막을 제조하는 방법 및 위 방법에 의해 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고, 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막이 제공된다. 본 기술에 따른 방법으로 제조된 비대칭 지지막은 스폰지 형태의 다공성 지지막으로서 기공들이 서로 연결된 열린 기공으로 이루어지고 그 기공의 크기 분포도가 좁은 우수한 구조를 갖고 있다. 따라서 본 기술에 따른 비대칭 지지막은 투과성과 기계적 강도가 향상되고, 나아가 물질 선택성이 높은 소재로 코팅하는 데 있어서 기공 크기의 분포도가 좁아 코팅공정을 최적화 할 수 있어 선택도까지 개선된 복합막을 쉽게 제조할 수 있다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-19
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
고분자 재료의 표면에 반응성 기체의 플라즈마 이온을 주입하기 전 또는 주입한 후에 비활성 기체의 플라즈마 이온을 주입시키거나, 또는 반응성 기체와 비활성 기체의 혼합 기체의 플라즈마 이온을 주입하는 플라즈마 이온 주입에 의한 고분자 재료의 표면 처리 방법이 제공된다. 본 기술의 방법에 따라 고분자 재료의 표면을 처리하면, 비활성 기체의 플라즈마 이온에 의해 고분자 재료의 표면에 다수의 라디칼이 형성되고, 이 라디칼에 의해 고분자 사슬들이 가교반응을 하여 사슬과 사슬간에 결합을 형성함으로써 고분자 사슬들이 서로 고정되기 때문에, 반응성 기체의 이온 플라즈마에 의해 생성되는 여러 친수성 또는 소수성 작용기를 안정하게 유지할수 있어, 시간에 따른 에이징 측면에서 우수한 효과를 나타낸다플라즈마 이온주입에 의한 고분자 재료의 표면처리 기술의 원리는, 고분자 시료를 플라즈마 이온으로 둘러 싸인 시료대 위에 올려 놓고 시료대에 높은 음전압 펄스를 가해주면, 플라즈마 이온이 가해지는 펄스에 의해 추출되어 시료에 조사된다. 이렇게 조사된 이온은 시료에 가해지는 펄스의 높은 전압에 대응하는 높은 에너지를 가지며, 이 에너지에 의해 고분자 표면에 작용기를 형성함으로써 표면의 성질을 바꾸어 준다. 펄스가 가해지지 않은 상태에서는 플라즈마가 고분자 표면과 접촉하게 하여 기존의 플라즈마 처리에서 얻을수 있었던 효과를 얻고, 펄스가 가해지는 동안은 플라즈마에 있던 이온들을 보다 가속화시켜 시료에 끌어 당기므로써 이온주입의 효과를 얻을수 있게 한 것이다. 고분자 재료의 표면을 반응성 기체의 플라즈마 이온과 비활성 기체의 플라즈마 이온을 병용하여 주입처리 하면, 비활성 기체의 플라즈마 이온에 의해 고분자재료의 표면에 다수의 라디칼이 형성되고, 이 라디칼에 의해 고분자 사슬들이 가교반응을 하여 사슬과 사슬간에 결합을 형성하므로써 고분자 사슬들이 서로 고정됨에 따라, 반응성 기체의 플라즈마 이온에 의해 생성되는 여러 친수성 또는 소수성 작용기를 안정하게 유지할 수 있어, 시간에 따른 에이징 효과가 우수하고, 표면 안정성이 개선된 개질된 고분자 재료가 얻어졌다
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-04-18
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
질소 분위기하에서 N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드 등과 같은 극성 용매를 사용하여 3,6-비스[4-(알킬옥시)페닐옥시]파이로멜리트산 이무수물과 디아민 화합물을 상온에서 축합하여 폴리이미드 전구체를 제조하고, 이 폴리이미드 전구체 함유 조성물에 아세트산 무수물을 가하여 이미드화시킨 다음, 에탄올 등과 침전제에 적가하여 분리하거나 또는 폴리이미드 전구체로부터 필름을 만들고 고온으로 가열하여 이미드화시키면 폴리{3,6-비스[4-(알킬옥시)페닐옥시]파이로멜리트이미드}를 얻음으로서 유기용매에 잘 용해되는 전구체를 이용하지 않고서도 방향족 폴리파이로멜리트이미드를 직접적으로 할 수 있다.파이로멜리트산 이무수물(pyromellitic dianhydride)은 방향족 폴리이미드 등과 같은 내열성 고분자 합성에 매우 중요한 단위체이다.그러나 이 폴리이미드는 유기용매에 대한 용해성이 매우 불량하여 폴리이미드를 직접적으로 가공하는 것은 불가능하였다.N,N`-디페닐-3,6-비스할로겐파이로멜리트산 디이미드와 소디움 4-알킬옥시페놀레이트를 적절한 유기용매에 용해한 다음, 이를 염기 존재하에서 반응시켜 N,N`-디페닐-3,6-비스[4-(알킬옥시)페닐옥시]파이로멜리트산 디이미드를 얻음으로서 유기용매에 잘 용해되기 때문에 전구체를 이용하지 않고서도 방향족 폴리 파이로멜리트이미드를 직접적으로 가공할 수 있다
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 등록일
- 2001-05-19
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
폴리우레탄의 물성은 폴리올의 물성에 의해 결정되며 폴리올의 물성은 중합기술에 의해 결정됨. 다가알콜 및 다염기산과의 중합에 의해 좁은 분자량 분포를 갖는 폴리올 합성가능.페인트, 잉크도료, 엘라스토머, 합성피혁, 폴리우레탄 발포체등 응용가능
- 보유기관
- 경기기술이전센터
- 등록일
- 2002-02-07
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
고분자 생산과 공정중 발생하는 폐기물을 이용하여 만들어진 열가소성 물질로부터 중간공정 크기의 물품생산확립. 수학적 모델링을 이용하면, 물질의 사용기준은 다음과 같은 조건을 충족시켜야 한다 : 기계적강도, 정확도, 열저항성 등. 이러한 기준을 토대로 충전제(활석, 흑연, 고분자 폐기물등)에 대한 신뢰도가 확립된다. 기술공정 중 1톤의 고분자 폐기물을 이용하면 2-3톤의 연료를 아낄 수 있고, 15-25%의 손실을 줄일 수 있으며 10-12배의 에너지 소비를 줄일 수 있다.실험실규모의 실험(선풍기 날개, 진공 청소기 부품의 생산 등)이 수행되었다. 개발은 많은 러시아 기업에 의해 수행되었다. 중간공정정도 크기의 생산을 위하여 상호간 공급라인이 필요하다. 폐기물은 석유화학공장으로부터 공급되었고, 공장에서 열가소성 물품을 생산할 수 있었다.
- 보유기관
- 배재대학교
- 등록일
- 2002-03-30
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
흐르는 가스에서 황화수소제거를 위한 촉매와 기술을 제시하였다. 이 기술은 황원소를 생산하기 위해 황화수소의 직접적인 산화에 기반을 두고있다. 여기에는 두가지의 기본적인 방법이 있다. 각 방법은 다음의 공정을 요구한다:l)초기가스에서 황화수소의 농도에 관계없이 산, 천연, 수소정제가스와 같은 고농도 증기의 정제. 공정은 흐르는 촉매 베드하에서 진행된다. 2)오일관련 가스, 크라우스 공정중에 발생하는 가스, 생물가스, 지열증기와 같은 저농도 가스의 정제. 벌집모양의 단일 촉매가 이 공정에서 이용된다.이 공정은 러시아, 미국, 독일, 프랑스, 일본 그리고 캐나타의 특허법에 포함되어있다. 이 기술을 이용하는 공장은 2곳(7000 nm3/h 수용능력과 500nm3/h 수용능력)이 있다.주요 장점1)최후생산물의 가격 하락 (청정가스, 고순도의 황원소) 2)가스 생산과 공정이 이루어지는 장소의 환경보호상세 설명 :하루당 300,000nm3의 천연가스를 사용하는 공장기준1)S 농도, vol.% : 30 2)공장 직경과 높이, mm : 4000*4000 3)촉매양, ton : 15 4)황 수거율, % : 97까지
- 보유기관
- 배재대학교
- 등록일
- 2002-04-01
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
사출성형시 금형의 표면만을 약10초에 200내지 300도씨로 가열하여 충전하고 충전이 완료되면 즉시 20여초이내에 고형화온도이하로 급속 냉각시키는 기술무도장 플라스틱성형제품의 제조 가능(고광택및 무광택)초박막 성형제품 제조 가능경면발포성형제품의 제조 가능성형제품의 내열성과 강도의 향상성형사이클의 단축원가절감과 품질향상을 동시에 달성
- 보유기관
- (주)나다이노베이션
- 등록일
- 2002-04-08
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
전자총을 이용해서 고전압의 전자를 발생하여 도료경화용으로 사용되는 소형화된 전자선 조사장치를 개발함소형화, 경량화, 처리시간의 감소 및 저렴한 장
- 보유기관
- 동신대학교
- 등록일
- 2002-05-16
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
N-치환 폴리에테르 폴리우레탄의 제조방법에 관한 것으로 금속염화와 알킬화의 2단계 반응을 포함하며,알킬기 또는 폴리에틸렌옥사이드가 그라프트된 폴리에테르 폴리우레탄 가교공중합체를 제조하는 방법에 관한 것을 포함한다.본 발명의 폴리우레탄의N-치환은 낮은 분해 부반응, 높은 치환율 및 치환체의 길이, 농도, 조성, 구조,가교정도 및 가교구조의 형성 방법을 용이하게 조절할 수 있는 것을 특징으로 한다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2003-03-26
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
PET수지의 엔지니어링 프라스틱제조1)nanoclay의 완전박리,분산2)특수 수지 상용화제 사용3)고상중합 공정4)친환경적 공법1)친환경적2)재활용가능
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2003-03-26
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술은 통상의 폴리아미드 수지와 혼합하여 성형용 폴리아미드 수지 조성물을 효과적으로 조성하는데 사용되는 폴리아미드 마스터 배치(Master batch)의 제조방법에 관한 것이다. 본 기술은 폴리아미드 융점 이상의 온도를 갖는 익스트루더에서 폴리아미드 수지, 첨가제 및 아크릴산계 화합물의 상용화제를 혼합하여 폴리아미드 마스터 배치를 제조한다. 익스트루더에서 폴리아미드 수지는 용융되어 첨가제 및 상용화제와 블랜딩(Blending) 된다. 이때 상용화제인 아크릴산계 화합물로는 아크릴산계 왁스 등을 사용한다. 상용화제의 첨가량은 폴리아미드 수지 100중량부에 대하여 0.001∼50중량부로 하는 것이 좋다. 상용화제의 첨가량이 위의 범위 미만인 경우에는 폴리아미드 수지와 첨가제 간의 상용성을 증진시키는 효과가 미미하게 되고, 위의 범위를 초과하는 경우에는 성형공정의 후공정성이 나빠지게 된다. 상용화제는 폴리아미드 수지와 첨가제 간의 상용성을 증진시키는 역할을 한다. 첨가제로는 입체장애된 페놀(Hindered phenol)계 화합물, 포스파이트(Phosphite)계 화합물, 입체장애된 아민(Hindered Amine)계 화합물, 티오에테르(Tioether)계 화합물, 산화철 또는 이들의 혼합물을 사용한다. 첨가제들은 열안정제, 자외선안정제 또는 산화안정제 역할을 한다. 첨가제는 통상 폴리아미드 100중량부에 대하여 0.001∼50중량부 수준으로 첨가되나, 성형품의 용도에 따라 적절하게 첨가량을 조절하는 것이 좋다. 폴리아미드 수지로는 폴리아미드 6, 폴리아미드 66, 폴리아미드 11 또는 폴리아미드 공중합체 등을 사용한다.- 폴리아미드 성형물 제조시 본 기술과 같이 상용화제를 첨가하여 제조한 폴리아미드 마스터 배치를 사용하는 방법이 폴리아미드 마스터 배치를 사용하지 않는 방법보다 물성 및 황변방지에 보다 유리함- 상용화제를 사용하여 첨가제의 사용량을 늘려도 후공정성이 저하되지 않음- 폴리아미드수지와 첨가제와의 상용성이 증진되어 후공정성 저하 없이도 열, 자외선 등에 의한 성형물의 분해, 물성저하를 효과적으로 방지 할 수 있음
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 등록일
- 2003-07-25
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술은 유화/현탁중합법에 의해 수용성 물질을 보다 안정하고 효과적으로 포집하는 기술에 관한 것이다. 본 기술은 다양한 활성의 수용성 물질의 수용액을 계면활성제 및 분산안정제의 존재 하에 개시제를 포함한 모노머 오일상에 유화시켜 수중유(W/O) 에멀젼을 수득하는 단계와 수중유 에멀젼을 현탁중합시켜 수용성 물질이 포집된 가교 고분자캡슐을 수득하는 단계로 구성된다. 얻어진 수용성 물질의 고분자캡슐은 그 내부구조가 다중공성을 나타내고 모노머 오일상에 도입되는 반응기수 4 이상의 가교제에 의해 가교구조를 지니며, 이 가교망의 가교밀도를 조절하여 수용성 물질의 포집률과 유출률을 조절할 수 있다. 본 기술의 제조방법은 다양한 수용성 물질을 단순히 1차 에멀젼의 수상에 용해시켜 최종 입자를 제조함으로써 매우 간단하게 수용성 물질을 포집할 수 있는 방법이며, 가교밀도의 조절이 용이하고 그 포집체의 안정성도 매우 우수하다.- 사용 가능한 고분자의 제한이 적어 유화중합 및 현탁중합으로 제조할 수 있는 고분자 종류는 모두 가능하고, 모노머 오일상에 도입되는 모노머의 종류만을 바꿈으로써 여러 가지 종류의 단일 고분자 및 공중합 고분자를 제조할 수 있음- 1차 에멀젼의 수용액상에 도입하는 수용성 물질을 변화시킴으로써 다양한 활성의 고분자캡슐 제조 가능- 모노머 오일상에 반응기수가 4개 이상인 모노머, 즉 가교제를 도입함으로써 가교구조를 형성시킬 수 있기 때문에 캡슐 내부에 포집된 물질의 유출률을 가교밀도의 변화에 따라서 간단하게 조절할 수 있어 조절 방출이 가능하고, 이러한 가교제의 도입은 중합속도와 가교구조를 조절하여 초기 중합과정 중에 생기는 용질의 유출을 최소화할 수 있어 용질의 포집률을 향상시킴 - 다중공성 고분자 가교체를 이용한 수용성 물질의 포집법은 적용하고자 하는 분야의 요구조건에 따라 다양한 용질의 고분자캡슐의 제조가 가능하고, 공정이 매우 단순하고 쉽기 때문에 최종 고분자캡슐의 제조를 위한 시간절약과 생산성의 면에서 우수
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 등록일
- 2003-07-25
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