산업기술 통합검색

기술검색

최상위 분류를 먼저 적용하면 세부 분류를 선택할 수 있습니다.
상세 필터
검색조건 초기화

적용된 검색조건

검색 결과 6건

1 / 1 페이지
일반기술 화학공정 > 특수 기능성 물질 제조공정 기술

수소화에 의한 CFC 분해 및 HFC 제조기술

CFC 및 HCFC의 수소화분해 촉매로 적합한 Pd-M(Bi,Ru)/C 촉매를 개발하고 2000시간 이상의 활성 시험을 거쳐 실용성을 확인함. CFC-12의 수소화분해에 의한 HFC-32의 제조, HCFC-142b의 수소화분해에 의한 HFC-32 제조공장의 화공 예비기본설계서를 완성하였음- 기술 조사, 분석 및 공정선정, 촉매비교 및 선정을 위한 수소화분해 실험실적 연구- 촉매개선 및 개발을 위한 수소화분해 실험실적 연구,수소화분해 Pilot plant 설계- 촉매성능확인을 위한 수소화분해 실험실적연구, 수소화분해 촉매제조, Pilot plant 설치 및 시운전 - 촉매제조 특허 확립, Pilot test 실시, 최적운전조건 확립- CFC-12 공장에서 수소화 방법에 의한 HFC-32 제조- HCFC-142b공장에서 수소화 방법에 의한 HFC-152aWPWH- 수소화에 의한 CFC의 분해- 촉매 담당인 active carbon 처리방법- CFC-12 공장에서 수소화 방법에 의한 HFC-32 제조- HFC-32 , HFC-152a 제조- 촉매담체 active carbon 처리

등록일
2004-04-30
상세보기
일반기술 화학공정 > 특수 기능성 물질 제조공정 기술

신규 칼릭사렌-뉴클레오시드 및 칼릭사렌-올리고뉴클레오티드 혼성체와 그의 제조방법

본 발명은 신규 칼릭사렌-뉴클레오시드 혼성체 및 칼릭사렌-올리고뉴클레오티드 혼성체와 그의 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로 칼릭사렌 잔기를 포함하는 칼릭사렌-뉴클레오시드 혼성체와 이를 빌딩 블록으로 사용하여 DNA 머리핀 구조 유사체로서 작용가능한 칼릭사렌-올리고뉴클레오티드 혼성체에 관한 것이다.본 발명의 칼릭사렌-뉴클레오시드 및 칼릭사렌-올리고뉴클레오티드 혼성체는 공동을 가지는 칼릭사렌과 생리활성 물질의 결합에 의한 삼중구조형성을 통해 DNA 또는 RNA를 효과적으로 인식할 수 있을 것이다.

보유기관
(재)포항산업과학연구원
등록일
2004-04-30
상세보기
일반기술 화학공정 > 특수 기능성 물질 제조공정 기술

홀로그램 제조용 binder 및 공정 기술

현대의 모든 산업은 최종적으로 소비자의 시각을 자극하여 구매 의욕을 가질수 있도록 하는 방법을 마케팅 수단으로 사용하고 있다. 여기서 시각적 효과를 내기 위한 가장 효과적인 방법이 칼라 및 빛의 굴절 및 표면처리를 이용한 홀로그램이다. 그런 홀로그램효과를 내기 위한 제조 공정은 복잡하여 국내에서는 일부 업체에서 사업화하고 있으나 사용되는 소재는 수입에 의존하고 있는 실정이다. 이 기술을 보유하고 있는 회사는 일본, 독일, 미국 등이다.제품의 포장, 상품의 광고, 각종 사업의 홍보 수단으로 사용하는 홀로그램 효과를 낼수 있는 필름 제조시 기본 베이스 필름과 , 베이스 필름 위에 사용하는 코팅층 등이 있으며 이러한 면과 면사이에는 특수 바인더가 중요한 요소로 사용되며 또한 필름의 반대면에는 비금속 혹은 금속 안료를 코팅하는 다중의 공정이 필요하며, 이러한 전체 공정 기술 및 소재 기술이 본기술의 핵심 이다. 구체적으로는 우선 각종 안료 및 색상의 선택, 빛의 굴절율을 제어하는 기술, 필름의 반대면을 금속성 혹은 비금속성 안료를 코팅하는 기술 설비 기술 등을 포함하고 있다.

보유기관
경기기술이전센터
등록일
2004-11-11
상세보기
일반기술 화학공정 > 특수 기능성 물질 제조공정 기술

반도체소자 세정용 조성물

반도체 디바이스(Device), 실리콘 웨이퍼(Si Wafer), LCD 및 포토마스크(Photomask) 등을 포함하는 반도체 장치들의 세정을 위한 조성물에 관한것으로 좀더 상세히는 반도체 기판(Device, Si Wafer, LCD, Photomask를 포함)의 금속불순물 세정과 금속배선의 부식방지를 위해 유기산인 구연산에 산화제와 초순수 및 계면활성제를 함유하는 반도체 소자의 세정용 조성물에 관한것이다.본기술은 기본의 SC2 세정용액(또는 "HPM" 이라고도 함)이 갖는 환경적인 문제와 금속배선의 부식문제를 해결하기 위해 유기산을 기본적으로 도입하고 파티클의 재흡착 문제와 알루미늄과 귀금속류에 대한 세정력 부족문제를 해결하였다.현재 반도체 기판(반도체용 실리콘 기판 (Si Wafer)), 액정용 유리기판, 포토마스크용 석영기판을 포함)의 금속불순물 세정시에 사용하는 SC2 세정용액(염산/과산화수소/초순수의 혼합액)이 세정시 파티클의 흡착문제를 유발하고 염산 증기의 발생에 의해 고가의 세정장비를 부식시키는 문제를 야기하고, 염산과 과산화수소의 폐액 처리에 따른 폐기물 처리의 비용적인 문제점 등을 해결하고 세정력을 더욱 강화시키기 위해 유기산을 함유하는 반도체 세정용 조성물을 개발하였다.

보유기관
(재)충남테크노파크
등록일
2005-05-27
상세보기
일반기술 화학공정 > 특수 기능성 물질 제조공정 기술

도금용 침적 롤의 드로스 세정액 조성물

본 기술은 도금욕 침적 롤(roll) 표면의 용사층을 손상시키지 않고 세정을 행하여, 롤 표면에 부착한 드로스(dross) 등의 부착물을 효과적으로 제거할 수 있는 세정액 조성물에 관한 것으로, 침적롤 표면의 드로스 제거용 세정액에서, 첨가제로 아세트산[CH 3 COOH] 및 1-클로로옥타데칸[CH 3 (CH 2 ) 17 Cl] 중에서 선택된 1종 혹은 2종의 화합물이 더 포함되어 조성되는 세정능이 우수한 세정액 조성물을 요지로 한다.본 기술은 침적롤 표면의 드로스 제거용 세정액에서, 첨가제로 아세트산[CH 3 COOH] 및 1-클로로옥타데칸[CH 3 (CH 2 ) 17 Cl] 중에서 선택된 1종 혹은 2종의 화합물과 부식억제제의 혼합으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정능이 우수한 세정액 조성물이며, 또한 첨가제의 총량은 0.05 내지 20g/L인 것을 특징으로 하는 세정능이 우수한 세정액 조성물로 구성된다. 본 기술에 의하면, 도금욕 침적률의 드로스 세정시 종래에 비하여 비용사면의 부식, 용사층의 열화 및 불용성 드로스 잔존문제 등을 억제시킬 수 있는 드로스 세정액을 얻을 수 있는 효과가 제공된다.

보유기관
(주)포스코
등록일
2006-07-26
상세보기
일반기술 화학공정 > 특수 기능성 물질 제조공정 기술

이온성 액체를 이용한 바이오디젤의 생산

본 발명은 이온성 액체(Ionic Liquids)를 이용한 바이오디젤 및 글리세롤의 생산방법에 관한 것이다. 특히, 이온성 액체를 용매 및 첨가제로 이용하여 바이오디젤 및 글리세롤을 생산하는 방법에 대한 것이다.본 발명에 의하면 이온성 액체를 이용한 효소반응을 통한 바이오디젤의 생산 공정이 종래의 바이오디젤을 생산하는 시스템에서의 유기용매 이용에 따른 효소의 안정성 저하와 효소 활성 감소에 대한 문제점을 극복하고, 보다 친환경적으로 바이오디젤의 생산성을 향상시킬 수 있는 유용한 효과를 제공할 수 있다.

보유기관
인하대학교
등록일
2007-12-27
상세보기