본 발명은 기존의 분자각인 고분자(MIP) 제조방법으로 제조된 분자각인 고분자에 졸-겔(Sol-Gel) 전환이라는 별도의 각인 공정을 추가하여, 각인되는 수용성 주형물질의 양을 획기적으로 증가시킨 MIP의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 획기적으로 증가된 각인자리를 통해서 흡착용량과 선택적 친화력이 증가된 분자각인 고분자의 제조가 가능하다.본 발명은 특정 물질을 인식하는 선택적 친화력을 가진 고분자를 제조하는 기술로서 보다 상세하게는 수용성 대상 고분자의 용해도를 증가시킴으로써 보다 많은 주형물질을 각인시키고, 그로인해 더욱 높은 선택적 친화력을 지닌 분자각인 고분자를 제조하는 방법에 관한 것이다.최근에는 분리 개념에서 환경 친화적이고 공정 단순화에 매우 유리한 분자각인 고분자(molecularly imprinted polymer:MIP)가 개발되고 있다. 분자각인 고분자(MIP)란, 적당한 주형물질(template)과 결합하고 있는 모노머(monomer)를 출발물질로 사용하여 고분자를 합성한 후 주형물질을 제거함으로써 주형물질과 형태가 동일한 공간이 존재하는 고분자를 말한다.상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 (a) 분자각인 대상물질인 수용성 주형물질을 강염기성 수용액에 용해시키는 단계; (b) 상기 수용성 주형물질이 용해되어 있는 염기성 수용액에 습식 상 전환법으로 제조된 분자각인 고분자를 첨가하여 상기 고분자의 팽창에 의해 주형물질이 고분자 내부로 침투되도록 하는 단계; 및 (c) 강산성 수용액을 가하여 상기 팽창된 고분자를 수축시켜 주형물질을 고분자내에 각인시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 분자각인 고분자의 제조방법을 제공한다.본 발명에 있어서, 상기 주형물질은 글리신(glycine), 알라닌(alanine), 발린(valine), 루신(leucine), 이소루신(isoleucine), 세린(serine), 트레오닌(threonine), 시스테인(cysteine), 메티오닌(methionine), 페닐알라닌(phenylalanine), 티로신(tyrosine), 프롤린(proline), 하이드록시프롤린(hydroxyproline), 아스파라긴산(aspartic acid),글루타민산(glutamic acid), 라이신(lysine), 아르기닌(arginine), 히스티딘(histidine), 노르발린(norvaline), 노르류신(norleucine), 아스파라긴(asparagine), 글루타민(glutamine), 오르니틴(ornithine), 시트룰린(citrulline), 또는 상기 아미노산의 유도체인 것을 특징으로 할 수 있고, 더욱 바람직하게는 거울상 광학이성질체의 관계를 가지는 아미노산 또는 그 유도체인 것을 특징으로 할 수 있다.본 발명에 있어서, 상기 분자각인 고분자는 산 및 알칼리 용액에서 수축 및 팽창이 일어나는 고분자인 것을 특징으로 할 수 있다. 또한, 상기 강염기성 수용액은 0.1 내지 3.0N의 수산화나트륨 수용액이고, 강산성 수용액은 0.1 내지 3.0N의 염산 수용액인 것을 특징으로 할 수 있다. 이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.본 발명에서는 기존의 분자각인 고분자(MIP) 제조방법으로 제조된 분자각인 고분자에 Sol-Gel 전환이라는 별도의 각인공정을 추가함으로써, 각인되는 수용성 주형물질의 양을 획기적으로 늘리는 방법이다. 그로인해 월등히 증가한 각인자리를 통해서 그 흡착용량을 늘리고, 선택적 친화력을 높인다.
고분자 필름에 대한 제조방법의 기술중 하나로 제작한 본 기술은 고분자 필름에 고에너지 이온을 주입하여 제조된 저 유전상수 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상용화된 고분자 필름에 입자 가속기를 이용하여 0.1 keV 이상의 고에너지 이온을 1011 ions/㎠ 이상의 밀도로 주입하여 제조된 저 유전상수 필름은 가속된 이온의 에너지를 조절하여 이온의 투과깊이를 조절함으로써 제작하고자 하는 저 유전상수 필름의 두께 조절이 가능하며 이온의 에너지와 이온 주입 밀도를 조절하여 유전상수의 값을 조절할 수 있으므로 금속간유전물질(IMD)의 제작이 가능하여 전자 산업상 매우 뛰어난 효과가 있다. 전자 산업에서의 큰 획기적 발전상을 가져올 것으로 기대되어 진다. 본 발명의 특징은 전자 산업에서의 고분자 필름의 제조방법으로서 폴리(비닐리덴시아나이드){POLY(VINYLIDENE CYANIDE)}와 폴리아크릴로나이트릴(POLYACRYLONITRILES)을 포함하는 시안기(CN GROUP)를 가지는 고분자(CYANOPOLYMERS)와 비닐리덴 시아나이드(VINYLIDENE CYANIDE)를 포함하는 공중합체(COPOLYMER), 폴리(비닐리덴 플루오라이드-테트라플루오로에틸렌) 공중합체{POLY(VINYLIDENE FLUORIDE-TETRAFLUOROETHYLENE) COPOLYMER}, 및 나일론 7, 나일론 11을 포함하는 홀수번의 나일론(ODD-NUMBERED MEMBERS OF NYLON)으로 이루어진 그룹에서 선택되는 어느 하나의 단일결합으로 이루어진 강유전체 고분자에 0.1 KEV 내지 100 MEV의 에너지를 가지는 이온을 1012 내지 1014 IONS/CM2의 밀도로 주입하는 것을 특징으로 하는 저 유전상수값을 가지는 고분자 필름의 제조방법이다. 앞으로 다른 경쟁적인 것보다 밀도의 주입에 큰 관심과 경쟁력을 제고 할 수 있을 것으로 판단된다.
* 발명의 개요알루미나 기공성 지지체 내부에 라이오트로픽(lyotropic) 전구체 용액을 채우고 겔화반응을 시켜 주형물질로서 메조기공성 실리카 나노섬유를 제조하고, 탄소 원료화합물을 적힘법(wetness method)을 통하여 상기에서 제조된 메조기공성 실리카 나노섬유의 나노채널 내부로 도입시키고, 상기 실리카 나노섬유에 도입된 탄소 원료화합물의 중합반응 및 상기 중합반응에 의해 제조된 중합체를 탄화시키고, 그리고 불소산 수용액으로 기공성 알루미나 박막 지지체와 그 내부에 삽입된 주형물질을 제거하여 제조되는 메조기공성 탄소 나노섬유.* 발명의 과제종래기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 목적은 메조기공성 실리카 나노섬유를 주형물질을 사용하여 제조되는 새로운 일차원 메조기공성 탄소 나노섬유를 제공하기 위한 것이다.본 발명의 다른 목적은 메조기공성 실리카 나노섬유를 주형물질로 사용하여 상기 주형물질의 내부 기공구조를 변화시켜줌으로써 탄소 나노섬유의 메조기공 구조를 조절할 수 있는 메조기공성 탄소 나노섬유의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.상기 목적 및 기타 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.* 발명의 효과본 발명에 따라 제조된 탄소 나노섬유는 섬유의 장축을 따라 평행하거나 수직방향에서 원형으로 말린 독특한 메조기공 나노채널 구조로 되어 있으며, 두 종류의 메조기공성 탄소 나노섬유의 골격을 구성하는 탄소는 매우 크기가 작은 나노크기의 흑연 입자로 이루어져 있다. 이들 일차원 메조기공성 탄소 나노섬유는 특히 높은 비표면적 및 독특한 전도특성으로 인하여 수소 흡장 및 기체 센서 등의 응용 분야에서 높은 잠재적 응용성을 갖는 효과가 있다.또한, 본 발명에 따른 메조기공성 탄소 나노섬유의 제조방법은 메조기공성 실리카 나노섬유를 주형물질로 사용하여 메조기공성 탄소 나노섬유를 제조하는 것으로서, 사용되는 주형물질의 내부 기공구조를 변화시켜줌으로써 탄소 나노섬유의 메조기공 구조를 조절할 수 있는 효과가 있다.상기에서 본 발명은 기재된 구체예를 중심으로 상세히 설명되었지만, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
본 발명은 활성탄소-금속 복합체를 함유한 독성가스 제거용 필터에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 금속판과, 전도성 지지체에 고정된 활성탄소를 특정의 조건에서 전기·화학적인 전기도금법을 수행하여 제조된 활성탄소-금속 복합체로서, 종래의 금속염이 첨착된 활성탄소에 비해 높은 견착력 및 비표면적을 유지하고, 순수한 금속의 도입으로 반응성이 좋으며, 상기 금속의 도금량 제어가 가능하여 독성가스 제거를 위한 반도체 공조용 필터, 해파필터, 방독면 필터 및 보호용 방호소재 특히, 기상 오염원인 NOx 제거가 가능한 전도성 금속 지지체를 이용한 활성탄소-금속 복합체를 함유한 독성가스 제거용 필터에 관한 것이다.