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화학공정 > 기타 화학공정
본 발명은 액정디스플레이 칼라필터용으로 제조되는 안료분산 포토레지스트 조성물에 관한 것으로서, 특히 안료분산 포토레지스트 조성물을 제조하기 위해 만들어지는 안료분산 조성물을 제조시 작업성, 작업환경 등의 개선을 위해 안출된 기술로서, 보다 상세하게는 감광성 수지조성물과 안료분산 조성물을 혼합하여 제조되는 안료분산 포토레지스트 조성물에 있어서, 안료분산 조성물의 제조시 분산매로 초순수를 사용하고 안료, 수용성고분자 분산체 및 기타 첨가제를 가하여 혼합, 분산, 여과 공정을 거친 후, 동결 건조에 의해 수분을 제거함으로써 얻어지는 가공안료를 그대로 안료분산 조성물로 사용하거나 또는 상기 가공안료를 유기용제에 분산 용해한 것을 안료분산 조성물로 사용하는 것을 특징으로 하는 기술이다, 본 기술을 포함한 기술군은 액정 텔레비젼 수상기, 대화면 텔레비젼 수상기, 비디오 모니터, 카메라, 스캐너, 랩탑형 워드 프로세서, 노트북 개인용 컴퓨터, 차량 탑재형 텔레비젼 수상기, 게임기 등 다양화하게 활용되어 제품화되고 있다. 여기서 사용되는 컬러필터의 품질향상, 제조비용의 절감 등 기술적 문제에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다. 이와 같은 제조방법은 기존에 분산매로 유기용제를 사용하는 방법에 비해 미세안료까지 분산 가능하고 분산작업이 용이하며 화재발생 우려가 적고 작업환경을 개선하는 등의 여러가지 이점을 지니고 있으며 근래 들어 액정 칼라디스플레이에 대한 관심이 고조되고 있어 그 중요성이 증대되고 있다. 본 기술은 감광성 수지조성물과 안료분산 조성물을 혼합하여 제조되는 안료분산 포토레지스트 조성물로 구성되며 , 그 구성 내용은 다음과 같다. - 첫째, 안료분산 조성물 : 안료분산 조성물의 제조시 분산매로 초순수를 사용 - 둘째, 안료, 수용성고분자 분산체 및 기타 첨가제를 가하여 혼합, 분산, 여과 공정을 거침 - 셋째, 동결 건조에 의해 수분을 제거함으로써 얻어지는 가공안료를 그대로 안료분산 조성물로 사용하거나 또는 상기 가공안료를 유기용제에 분산 용해한 것을 안료분산 조성물로 사용본 발명은 액정디스플레이 칼라필터용으로 제조되는 안료분산 포토레지스트 조성물에 관한 것으로서, 특히 안료분산 포토레지스트 조성물을 제조하기 위해 만들어지는 안료분산 조성물을 제조시 작업성, 작업환경등의 개선을 위해 안출된 것이며 구체적으로 감광성 수지조성물과 안료분산 조성물 혼합하여 제조되는 안료분산 포토레지스트 조성물에 있어서, 안료분산 조성물의 제조시 분산매로 초순수를 사용하고 안료, 수용성고분자 분산체 및 기타 첨가제를 가하여 혼합, 분산, 여과 공정을 거친 후, 동결 건조에 의해 수분을 제거함으로써 얻어지는 가공안료를 그대로 안료분산 조성물로 사용하거나 또는 상기 가공안료를 유기용제에 분산 용해한 것을 안료분산 조성물로 사용하는 것을 특징으로 하는 한 기술로서 기존 기술보다 그 응용분야의 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다. - 첫째, 미세안료까지 분산 가능하고 - 둘째, 분산작업이 용이하며 - 셋째, 화재발생 우려가 적고 - 넷째, 작업환경을 개선하는 효과
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- 한국산업기술진흥원
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- 2007-05-18
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화학공정 > 기타 화학공정
본 발명은 노트북 PC의 모니터 등에 널리 채용되고 있는 컬러액정디스플레이의 부품의 하나인 컬러 필터를 제조시 감광성 착색조성물을 유리 기판에 도포하고 자외선을 조사하여 광경화시킨 후에 비노광부분의 제거에 사용되는 현상액에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 탄산나트륨과 탄산수소나트륨을 알카리금속염으로 사용하고 그 위에 음이온계 또는 비이온계 계면활성제와 4,7-디하이드록시-2,4,7,9-테트라메틸-5-데킨을 소량 함유한 것임을 특징으로 하는 감광성 착색조성물의 현상액 및 그 현상방법에 관한 것으로 기존의 현상액에 비해 현상성과 해상도가 크게 개선된 장점을 지니는 기술이다. 본 기술은 액정텔레비젼 수상기, 대화면 텔레비젼 수상기, 비디오모니터, 카메라, 스캐너, 랩탑형 워드프로세서, 게임기 등의 분야에 다양하게 응용되어 제품화되고 있다. 본 기술을 포함한 기술군은 그 사용형태가 다양화되고 있고, 여기서 사용되는 컬러필터의 품질향상, 제조비용의 절감 등 기술적 문제에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있고 근래 들어 액정 칼라디스플레이에 대한 관심이 고조되고 있어 더욳 그 중요성이 증가하고 있다. 본 기술은 종래 현상액의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 비노광부의 감광성 착색조성물에 대한 용해성이 우수하고 제거된 안료의 재부착을 방지할 수 있어 현상성과 해상도가 개선된 현상액을 제공하는 것을 목적으로 하는 것으로서 감광성 착색조성물의 현상액으로 2종의 알칼리금속염, 계면활성제, 및 4,7-디하이드록시-2,4,7,9-테트라메틸-5-데킨 등으로 구성됨을 특징으로 한 것이다. - 첫째, 알칼리 금속염 : 수산화리튬, 수산화칼륨 등 - 둘째, 계면활성제 : 비노광부의 착색수지가 쉽게 탈락 현상이 용이해지며 깨끗한 화상을 얻을 수 있는 효과를 가짐 - 셋째, 4,7-디하이드록시-2,4,7,9-테트라메틸-5-데킨을 첨가 : 침투력 및 세척력을 강화함과 함께 기포발생을 방지칼라필터용 감광성 착색조성물(Photosensitive Color Composition for Color Filter) 본 발명은 아크릴계 바인더 수지, 광중합성 모너머, 광중합 개시제, 안료, 분산제, 유기용제 등으로 구성된 감광성 착색조성물을 유리기판에 도포하고 자외선을 조사하여 감광성 착색조성물을 부분적으로 광경화시킨 후에 비노광 부분을 제거하는 컬러 필터 제조의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 현상액에 관한 것으로서, 특히 현상성과 해상도가 개선된 감광성 착색조성물의 현상액 및 현상방법에 관한 것이다. 본 기술이 응용분야에 있어 기존 기술보다 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다. - 첫째, 현상성과 해상도가 우수하여 - 둘째, 깨끗한 화상을 얻을 수 있으며 - 셋째, 고품질의 컬러 필터를 얻을 수 있고 - 넷째, 접착제 밀착불량을 일으키는 등의 불량 원인을 제거할 수 있다.. - 다섯째, 침투력 및 세척력을 강화함과 함께 기포발생을 방지
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- 2007-05-18
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화학공정 > 기타 화학공정
본 발명은 액정텔레이젼 수상기, 비디오 모니터, 카메라등에 사용되고 있는 액정디스플레이 칼라필터용 안료분산 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 신규의 감광성 수지 조성물과 안료분산조성물을 사용하여 기존보다 고감도의 안료분산레지스트를 제공하는 것을 그 목적으로 한 것이다. 보다 상세하게는 소정 일반식으로 표현되는 삼중합체 수지와 다관능성 아크릴레이트 모노머 또는 올리고머와 불포화기를 하나 이상 함유한 폴리엔계 화합물과 다관능성 티올계 화합물, 그리고 광중합개시제와 포스핀계 또는 포스페이트계 증감제 및 기타첨가제, 유기용제로 구성된 감광성수지 조성물과, 안료와 고분자 분산제와 안료유도체 분산제와 소포제, 침강방지제, 계면활성제 및 기타 첨가제를 함유한 안료분산 조성물로 구성된 것임을 특징으로 한다.본 기술을 포함한 기술군은 액정 텔레비젼 수상기, 대화면 텔레비젼 수상기, 비디오 모니터, 카메라, 스캐너, 랩탑형 워드 프로세서, 노트북 개인용 컴퓨터, 차량 탑재형 텔레비젼 수상기, 게임기 등 그 사용형태가 다양하게 응용되어 제품화되고 있다. 본 기술은 안료분산 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 기존의 포토레지스트 조성물에 비해 감도, 내열성, 분광특성, 분산안정성, 색도도등 제반물성이 우수한 성능을 지니고 있고 현저히 개량되는 효과가 있는 바, 정보화 사회에 살고 있는 요즘, 그 정보의 중요성은 나날이 증가하고 있는 실정이며, 특히 디스플레이에 대한 요구는 칼라화와 더불어 소형화, 경량화, 박리화가 강하게 대두되고 있다. 그 중에서도 액정 칼라 디스플레이는 그 요구에 충분히 부응할 수 있는 것으로 주목받아 실용화가 급격히 진행되고 있어 그 중요성이 증가하고 있다. 액정 텔레비젼 수상기, 대화면 텔레비젼 수상기, 비디오 모니터, 카메라, 스캐너, 랩탑형 워드 프로세서, 노트북 개인용 컴퓨터, 차량 탑재형 텔레비젼 수상기, 게임기 등 그 사용 형태가 다양화되고 있으며, 그 성능에 대해서도 더욱 우수한 품질이 요구되고 있는 실정이다. 특히, 이 분야에 있어서의 칼라필터는 중요한 핵심 부품의 하나이고, 이와 아울러 화상 품질의 향상, 사용 환경조건의 확대에 따른 신뢰성의 확보를 위한 품질의 안정화, 프로세스의 간단화에 따른 제조비용의 절감 등의 문제 해결이 최대 과제가 되고 있어 본 기술의 중요성이 증대되고 있다.액정디스플레이 칼라 필터용 안료분산 포토 레지스트 조성물(Pigment Dispersed Photoresistent Composition for LCD Color Filter)본 발명은 액정텔레비젼 수상기, 비디오 모니터, 카메라 등에 사용되고 있는 액정디스플레이 칼라필터용 안료분산 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 신규의 감광성 수지 조성물과 안료분산조성물을 사용하여 기존보다 고감도의 안료분산레지스트를 제공하는 것을 그 목적으로 하는 것으로 본 기술이 응용분야에 있어 기존 기술보다 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다. - 첫째, 감도, 내열성, 분광특성, 분산안정성, 색도도등 제반물성이 우수한 성능을 지님 - 둘째, 광중합 속도가 보다 빠르고 산소에 의한 영향을 거의 완전하게 방지할 수 있도록 한 안료분산 포토레지스트 조성물을 제공 - 셋째, 고정밀 미세패턴형성이 가능하다. - 넷째, 기타 물성의 개선 효과가 크다.
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- 2007-05-18
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화학공정 > 기타 화학공정
본 발명은 근자외선 또는 가시광선 등의 복사선에 의해 염소 또는 브롬들의 라디칼을 생성하는 발색단으로 디아조페닐기가 치환된 4,6-비스(할로메틸)-s-트리아진계 화합물을 광중합 개시제로 사용한 감광성 조성물에 관한 것이다. 보다 상세하게는 즉, 본 발명은 바인더수지, 다관능성화합물, 광중합개시제, 증감제 및 기타 첨가제로 구성되는 감광성 조성물에 있어서, 발색단으로 디아조페닐기가 치환된 4,6-비스(할로메틸)-s-트리아진계 화합물을 광중합 개시제로 사용한 것임을 특징으로 한 것이다. 본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 액정 디스플레이, 컬러필터용 안료분산레지스트, 드라이필름 레지스트 및 기타 인쇄, 복사 등 화상 형성계 분야에 응용되어 제품화 되고 있다.본 기술은 기존의 할로겐 라디칼 생성제 등 광중합 개시제보다 감도가 우수하고 패턴을 제작하여 노광(露光), 현상 후의 표면 상태가 양호하다는 등 물성의 개선 효과를 나타낼 수 있음로서 그 중요성이 증가하고 있다.본 발명은 바인더수지, 다관능성화합물, 광중합개시제, 증감제 및 기타 첨가제로 구성되는 감광성 조성물에 있어서, 발색단으로 디아조페닐기가 치환된 4,6-비스(할로메틸)-s-트리아진계 화합물을 광중합 개시제로 사용한 것임을 특징으로 한 것으로서, 기존의 광중합 개시제를 사용한 경우보다 감도가 우수하고 패턴을 제작하여 노광, 현상 후의 표면 상태가 양호하는 등의 장점을 지닌 것이다. 본 기술을 포함한 기술군은 현재 주로 액정 디스플레이 컬러필터용 안료분산레지스트, 드라이필름 레지스트 및 기타 인쇄, 복사 등 화상 형성계 분야에 응용되고 있으며 본 기술이 위 응용분야의 기존 기술보다 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다. - 첫째, 감도가 우수하다 - 둘째, 패턴을 제작하여 노광(露光), 현상 후의 표면 상태가 양호 - 셋째, 기타 물성의 개선 효과가 크다.
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- 한국산업기술진흥원
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- 2007-05-18
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화학공정 > 기타 화학공정
본 발명은 터치패널(TOUCH PANEL)의 도트 스페이서(DOT SPACER) 제조에 유용한 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 기존에 비해 감도가 우수하고 현상후 패턴이 양호한 특성을 나타내도록 하는 것을 발명의 목적으로 한 기술로서, 보다 상세하게는. 불포화 유기산 에스테르와 불포화 유기산 및 수산기 함유 불포화 화합물을 공중합시켜 제조한 공중합물을 둘 이상의 이소시아네이트기를 함유하는 화합물 하나 이상과 하이드록시기를 하나 이상 함유하는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물과 반응시켜 제조한 감광성 수지에 다관능성 올리고머, 다관능성 티올계 화합물, 광중합개시제 및 중감제 및 기타첨가제와 용제로 구성된 감광성 수지 조성물로서, 터치패널의 도트 스페이서 제조에 사용할 때 감도가 우수하고 현상후 패턴이 양호한 등의 유용한 효과를 얻을 수 있음을 특징으로 하는 기술이다.본 기술을 포함한 기술군은 액정 텔레비젼 수상기, 대화면 텔레비젼 수상기, 비디오 모니터, 카메라, 스캐너, 랩탑형 워드 프로세서, 노트북 개인용 컴퓨터, 차량 탑재형 텔레비젼 수상기, 게임기 등 다양하게 응용되어 제품화되고 있다. 본기술에 있어 수지 조성물은 최종 제품의 성능에 중요한 요인으로 작용하는데, 기존에 사용되고 있는 감광성 수지 조성물은 감도나 현상후 패턴에 있어서 만족스런운 결과를 얻지 못하고 있는 실정이었는 바 감광성 수지 조성물중 바인더 수지에 직접 광개시 반응이 일어날 수 있는 반응기를 도입하여 감도, 현상성, 투명성 등이 우수하고 패턴모양이 양호한 특성을 나타낼 수 있는 등의 사유와 근래 들어 액정 칼라디스플레이에 대한 관심이 고조되고 있고, 여기서 사용되는 컬러필터의 품질향상, 제조비용의 절감 등 기술적 문제에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있어 그 중요성이 증가하고 있다. .본 발명은 바인더 수지의 측쇄에 감광기(불포화기)를 가지는 감광성 수지를 합성하고, 이에 다관능성 아크릴레이트계 올리고머 및 모노머, 다관능성 티올계 화합물, 광중합 개시제 및 증감감제, 열중합 금지제, 접착성 향상제, 유기용제 등을 함유시킨 감광성 수지 조성물을 제공한다. - 첫째, 감광성 수지를 합성 - 둘째, 다관능성 아크릴레이트계 올리고머 및 모노머 - 셋째, 다관능성 티올계 화합물 - 넷째, 열중합 금지제 - 다섯째, 접착성 향상제 및 유기용제본 발명은 터치패널(TOUCH PANEL)의 도트 스페이서(DOT SPACER) 제조에 유용한 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 기존에 비해 감도가 우수하고 현상후 패턴이 양호한 특성을 나타내도록 하는 것을 발명의 목적으로 한 것이다. 구체적으로 불포화 유기산 에스테르와 불포화 유기산 및 수산기 함유 불포화 화합물을 공중합시켜 제조한 공중합물을 둘 이상의 이소시아네이트기를 함유하는 화합물 하나 이상과 하이드록시기를 하나 이상 함유하는 화합물을 반응시켜 얻어지는 화합물과 반응시켜 제조한 감광성 수지에 다관능성 올리고머, 다관능성 티올계 화합물, 광중합개시제 및 중감제 및 기타첨가제와 용제로 구성된 감광성 수지 조성물로서, 터치패널의 도트 스페이서 제조에 사용할 때 다음과 같은 효과를 얻들 수 있다. 감도가 우수하고 현상후 패턴이 양호한 등의 유용한 효과를 얻을 수 있다. - 첫째, 감도가 우수 - 둘째, 현상후 패턴이 양호 - 셋째, 현상성, 투명성 등이 우수 - 넷째, 기타 물성의 개선 효과가 크다.
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- 한국산업기술진흥원
- 등록일
- 2007-05-18
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
본 기술은 플라스틱 포장 시트의 곡선 제작 특수 성형 가공 기술이다. 가공기기의 자체 개발 및 가공 기술로써, 일본내 관련 업계 최고의 생산성과 고객 지향성을 실현하였다.괘선부를 따라 접기 편리하고, 강도가 강하며, 외관, 촉감이 매우 좋다. 또한 투명하여 상품의 확인이 가능하고 고급스럽다.- 대상 소재： 성분: APET 30％、 PP 60％、기타 10％（생 분해 시트 및 기타） - 두께：0.2~0.5 mm시장 현황 및 전망 화장품, 과자류 및 식품／음료, 기타 잡화 케이스 등 다양하게 응용 및 적용이 가능 하여 시장성은 매우 크다고 판단 된다.- 현재 일본내 예상 시장 규모는３６億枚/年(９０千ｔ) 정도로 추정. - 경쟁 제품: blister pack、cylindrical case, pouch、carton with window * 기술 이전 범위시트 두루마리원반→ 표면처리→ 괘선 가공 공정→ 점착 가공→ 검사 까지 생산 노하우 및 사업 실시권 제공
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- 한국산업기술진흥원
- 등록일
- 2007-05-08
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
- 본 기술은 플라스틱 포장 시트의 곡선 제작 특수 성형 가공 기술이다. 가공기기의 자체 개발 및 가공 기술로써, 일본내 관련 업계 최고의 생산성과 고객 지향성을 실현하였다. 기술의 우수성괘선부를 따라 접기 편리하고, 강도가 강하며, 외관, 촉감이 매우 좋다. 또한 투명하여 상품의 확인이 가능하고 고급스럽다. 기술 요약- 대상 소재： 성분: APET 30％、 PP 60％、기타 10％（생 분해 시트 및 기타）- 두께：0.2~0.5 mm- 일본 특허 번호：３８５４５２７- 미국 ：６６６６８０８ - EU、중국 외 출원 중(PAT pending) 국내외 시장 규모 및 사업성- 현재 일본내 예상 시장 규모는３６億枚/年(９０千ｔ) 정도로 추정.- 경쟁 제품: blister pack、cylindrical case, pouch、carton with window
- 보유기관
- 중소기업청
- 등록일
- 2007-05-30
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
접촉각이 150도 이상이라고 하는 초고성능을 실현하고 장기적인 안정성을 실현, 또 물 이외에 눈이나 얼음등에도 뛰어난 부착방지 효과를 발휘.초발수재료 HIREC은 통신설비를 비롯해서 폭 넓은 분야에서 제품의 성능 향상, 내구성 향상, 미관 유지 등 여러 분야에 효용을 기대 종래기 초발수재료HIREC은 목적이나 용도에 따라서 폭넓은 라인업을 보유, 고객의 사양에 맞는 최적의 제품을 선택 가능의 발수재료에서는 물체와 물방울과의 접촉각이 최대 100도 전후 기술의 우수성 - 뛰어난 초발수 성능효과 - 초발수재료 HIREC은 통신설비를 비롯해서 폭 넓은 분야에서 제품의 성능 향상, 내구성 향상, 미관 유지등 여러분야에 효용을 기대 - 강력히 물을 튀게하는 발수성 - 지금까지 없었던 [내수성, 내후성] - 눈, 얼음의 부착을 적게하고 고드름의 생성을 방지
- 보유기관
- 중소기업청
- 등록일
- 2007-05-30
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
「써프쿨」은 태양광의 근적외선(열선)을 효율있게 잘 반사시키는 특수한 안료를 사용한, 차열(일사 완화) 도료 기술의 우수성 - 지구 환경에 좋은 수용성 도료로, 시공은 간편한 솔, 롤러칠의 방법 가능 - 포장면, 지붕면에 도장하여 내리쬐는 태양광으로부터 생기는 열을 완화하여, 최근 관심이 고조되고 있는 열섬(heat island) 대책으로 적합 - 본 도료의 회색(N-6상당)의 일사 반사율은 52.5%[측정기관:(재)일본도료검사협회]로써, 도쿄도의 쿨루프 추진사업에 있어서의 조건의 하나인 「일사반사율 50%이상」을 만족시키는 고반사율 도료
- 보유기관
- 중소기업청
- 등록일
- 2007-05-30
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
저가격으로 신뢰도가 높은 광 부품 제조에 필요한 접착제. 광 부품 제작에 있어서 사용용도에 따른 요구 조건이 다양한 각각의 조건에 맞도록 제작된 제품으로써, 굴절률의 제어 및 내열 고탄성, 저투습율, 뛰어난 내구성의 발휘가 가능한 특징 기술의 우수성- 고객의 요망에 맞춘 열경화형 수지·접착제나 실재를 제공 가능- 광로 결합용:굴절률1.33~1.70, ±0.005 정도,- 광도파로 형성 수지(光導波路形成樹脂 ) : 굴절률 1.42~1.70,±0.001 정도로 제어 - 정밀 고정용: 경화시나 온도 변화에 대한 고정 위치 변동이 지극히 적기 때문에 서브 미크론 오더의 접착 고정가능- 실재의 용도: 경화나 히트 사이클시에 내부 응력의 발생이 적고, 고온시라도 저투습율을 실현함- 광도하지 형성 수지에서는 점도 조정이 가능하고, 스핀 코트시의 막후 제어성이 뛰어남 사업성광디바이스 제조 기업의 조립공정, 대학·연구 개발 기관으로의 신디바이스의 개발·평가 공정 등에 있어서의 다양한 요구에 적합 가능하기 때문에 시장성은 매우 높음
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- 중소기업청
- 등록일
- 2007-05-30
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화학공정 > 기타 화학공정
다양한 분야에서 기체, 액체의 누설을 방지하는 차단 장치가 필요로 하고 있다. 현재의 유기 고분자 재료에 의한 차단 재는 350도를 넘는 고온에서의 사용은 불가능하였다. 본 기술은 점토를 주성분으로 하여 최소한의 첨가물을 추가한 세라믹 필름(Claist： 등록상표)의 신 기술로써, 고온에서도 사용이 가능하다. 기술의 우수성”Claist”는 1 나노미터 정도의 점토 박막을 적층(積層)하여 제작한다. ”Claist”는 유연성이 매우 높다. 일반적 두께는10-100마이크로미터 정도이나, 적층 함에 따라 두께를 두껍게 조절할 수 있다. 산소, 수소, 질소 등의 가스에 대한 차단성은 고온에서도 유지 되며, 고온에서의 전기 절연성도 발휘한다. * 일본, 미국, 구미, 캐나다 특허 출원 PCT/JP2004/013077,PCT/JP2005/022702,PCT/ JP2006/315338
- 보유기관
- 중소기업청
- 등록일
- 2007-05-30
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- 기상법으로 여러 천이금속(W, Sn, Mo, V, Cu, Ag)이 첨가된 이산화티타늄 나노분말과 그 합성 공정에 관한 것이다. 또한 각각의 천이금속 첨가 이산화티타늄 나노분말의 고성능 광촉매 특성을 발현을 위해 최적의 후열처리 조건 및 최적 함량을 나타낸 것이다. - 이산화티타늄 나노분말은 수질오염 및 대기오염 등 환경문제, 태양전지의 전극 등 에너지 문제 등 당면과제에 있어 뛰어난 광특성 발현으로 꾸준히 주목받고 있다. 합성방법은 매우 다양하다. 기상법외에도 수열법, 공침법등 액상법 및 티타늄탄화물이나 티타늄 금속을 이용한 고상법을 이용해 제작하는 방법 등이 이용되고 있다. 기상법은 화염합성법, 화학기상증착법이 주된 방법이나 가스유량이나 온도, 장치 디자인 등 조건에 따라 다양한 나노구조를 합성할 수 있게 된다. - 띠에너지를 조절하는 방법으로는 주개전위나 받개전위를 형성시키거나 이차상 화합물의 계면 석출에 의한 띠꺾임(band bending) 등을 이용할 수 있다. 띠에너지를 조절하면 빛을 흡수하는 거동 자체를 달리할 수 있는 점 외에도 속도론적으로 광촉매특성에 영향을 미치는 전자-정공 재결합 속도를 줄일 수 있어 고성능 광촉매의 기능을 발휘하게 된다. - 후열처리는 습식법의 경우 기상법 합성에 비해 합성온도가 낮은 편이므로 이에 의해 제조된 이산화티타늄 나노분말의 결정성 증대를 목적으로 시행하는 경우가 대부분이다. 그러나 결정성이 확보된 기상법 제조 이산화티타늄 나노분말의 경우에 있어서도 미세구조를 변화시킴으로써 광촉매 특성발현의 대폭적인 향상에 기여할 수 있다. 종래 기술의 단점 - 기상법으로 제작된 이산화티타늄 나노분말은 크기가 균일하고, 나노크기의 분말을 손쉽게 얻을 수 있으며 결정성이 우수하며 대량생산이 가능한 장점 외에도 미량의 금속원소 등을 첨가 시 균질한 첨가가 가능한 것으로 알려져 있다. 그러나 기상법으로 금속원소를 첨가하는 것은 전구체(precursor)의 종류 선택 및 제어문제가 큰 기술적 문제이다. 기술의 우수성 - 본 연구에서 개발한 이산화티타늄 광촉매 나노분말은 자외선 영역에서 기존의 이산화티타늄 광촉매 나노분말보다 우수한 광촉매 특성을 나타냄은 물론 가시광 영역(할로겐 램프 수준)에서도 우수한 광촉매 특성을 나타낸다. 따라서 새집증후군, 새가구증후군 등 실내 환경문제의 해결에 필요한 high-end 제품에 적용가능한 특징을 갖고 있다. 기술 요약- 본 기술은 제어된 전구체 조작을 통해 천이금속 첨가된 이산화티타늄 나노분말을 합성하고, 이를 고효율 광촉매로 이용하기 위한 것으로서, 후열처리를 통해 원하는 미세구조 디자인을 가능케 하는 데 그 목적이 있다. 국내외 시장 규모 - 국내: 100억원 이상 - 국외: 1억불 이상 사업성 - 이산화티타늄 광촉매는 이미 세계적으로 많이 연구되어 왔고 독일의 Degussa, 일본의 Ishihara Sangyo 등 유수 업체가 우수한 제품을 제조, 판매하고 있음. - 이산화티타늄 광촉매의 무한한 가능성을 염두에 두고 Degussa, Ishihara Sangyo가 제조하는 이산화티타늄 나노분말보다 우수한 광촉매 분말을 제조하기 위한 기술개발이 활발함. - 대부분의 이산화티타늄 광촉매는 자외선 영역에서 효과적이며 일부 제품의 경우 가시광 영역에서도 효과가 있는 것으로 알려져 있음. 태양빛 중 5% 이내인 자외선 외에 가시광을 효율적으로 활용하기 위한 고성능 이산화티타늄 광촉매 개발이 연구의 주 대상이 되고 있음. - 이용가능한 빛의 파장대를 확장하고 광촉매 효율을 높이기 위하여 이산화티타늄 광촉매의 전자구조를 변경하는 연구가 활발함. 이를 위하여 티타늄(Ti) 이온을 다른 천이금속으로 치환하거나 산소(O) 이온을 질소, 탄소로 대체하는 연구가 진행되고 있음.
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- 2007-05-30
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- 본 기술의 목적은 기존의 보고된 Akt1 카이네이즈 저해제 화합물과 핵심 골격 구조가 상이한 퓨로[2,3-d]피리미딘에 다양한 치환기를 도입하여 저해 활성이 현재까지 보고된 우수한 Akt1 카이네이즈 저해제와 동등 내지 우수한 정도의 탁월한 저해활성을 가지는 C-4 위치에는 저급 알킬아민 또는 치환체를 포함하는 아닐린기, C-5 및 C-6 위치에는 페닐기 또는 헤테로아릴기가 치환되어 있는 신규 퓨로[2,3-d]피리미딘계 화합물 및 중간물질인 4-할로퓨로[2,3-d]피리미딘 화합물을 제공하는 동시에 이들의 제조하는 방법을 제공한다. 기술의 우수성 - 퓨로[2,3-d]피리미딘계 화합물은 ATP 결합 자리 경쟁제로서의 새로운 골격구조를 가지는 Akt1 카이네이즈 저해제로서 다수의 화합물이 20-30 μM 대의 우수한 IC50 값을 지니고 있어서 현재까지 보고된 우수한 Akt1 카이네이즈 저해제와 동등 내지 우수한 정도의 탁월한 저해활성을 나타낸다. 기술 요약 - 퓨로[2,3-d]피리미딘계 화합물은 ATP 결합 자리 경쟁제로서의 새로운 골격구조를 가지는 Akt1 카이네이즈 저해제로서 현재까지 보고된 우수한 Akt1 카이네이즈 저해제와 동등 내지 우수한 정도의 탁월한 저해 활성을 나타내므로 PI3 카이네이즈의 활성화 및 PDK 카이네이즈 인산화를 통해 활성화된 세포사멸 제어 및 세포성장 촉진 등의 암세포 활동에 필수적인 요소인 Akt1 카이네이즈를 억제함으로서 항종양제로서 적용 가능하다. 국내외 시장 규모 - 세계적으로도 Akt1 카이네이즈 저해제 개발은 이제 시작 단계에 불과하므로 본 발명의 퓨로[2,3-d]피리미딘계 화합물은 그 저해효과에 비추어 볼 때 선도물질로서 가치가 충분하며 이를 기반으로 임상에 사용 가능한 저해제를 개발할 경우 PI3 카이네이즈의 활성화 및 PDK 카이네이즈 인산화를 통해 활성화된 세포사멸 제어 및 세포성장 촉진 등의 암세포 활동에 필수적인 요소인 Akt1 카이네이즈를 억제할 수 있는 새로운 개념의 항암제로서 세계시장을 독점할 수 있을 가능성이 있으며, 2000년을 기준으로 한 국내 및 국외 항암제 시장규모는 국내 900억원 및 국외 180억불 이상 (IMS Health Report)으로 추정된다. 화합물은 아직까지 개발되어 있지 않은 상태이다. 국내외 시장 규모 - 세계적으로도 Akt1 카이네이즈 저해제 개발은 이제 시작 단계에 불과하므로 본 발명의 퓨로[2,3-d]피리미딘계 화합물은 그 저해효과에 비추어 볼 때 선도물질로서 가치가 충분하며 이를 기반으로 임상에 사용 가능한 저해제를 개발할 경우 PI3 카이네이즈의 활성화 및 PDK 카이네이즈 인산화를 통해 활성화된 세포사멸 제어 및 세포성장 촉진 등의 암세포 활동에 필수적인 요소인 Akt1 카이네이즈를 억제할 수 있는 새로운 개념의 항암제로서 세계시장을 독점할 수 있을 가능성이 있으며, 2000년을 기준으로 한 국내 및 국외 항암제 시장규모는 국내 900억원 및 국외 180억불 이상 (IMS Health Report)으로 추정된다. 사업성 - Akt1은 3가지 Akt family 단백질 중의 하나로서 세린-쓰레오닌 kinase 중의 하나이다. 지난 수년 사이 밝혀진 PI3 카이네이즈 신호전달 체계는 암 세포의 성장과 사멸에 대한 많은 이해를 제공하고 있다. 이러한 이해는 여러가지 항암 치료제의 표적을 제시하였다. 그러나 Akt1 카이네이즈 저해제의 항암제 개발 해외 연구동향은 매우 초기 단계로서 저해 화합물 구조가 2003년 말부터 보고되기 시작했으나 거의 모두가 IC50 값이 μM 단위로서 매우 우수한 저해 활성을 나타내는 화합물은 아직까지 개발되어 있지 않은 상태이다.
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- 2007-05-30
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- 2세대 형 CFC계 물질인 HFC에 비해 대기 중 수명이 짧으며 오존층을 파괴하지 않고 지구 온난화 영향력도 낮은 함불소 화합물인 트리플루오로메틸트리알킬실란의 제조 방법에 관한 것으로 기존 염소계 세정제를 대체 혹은 감축시킬 수 있는 차세대 CFC 대체 혼합세정제 물질임. 종래 기술의 단점 - 기존 기술의 경우 원료로 발암물질을 사용하거나 수율이 매우 낮은 한계를 갖고 있음. 기술의 우수성 - 본 기술의 경우 Mg, Cu, Zn, Al등의 금속과 요오드 이온 촉매를 사용하여 보다 짧은 시간 내에 고 수율로 트리플루오로메틸트리알킬 실란을 제조할 수 있는 장점이 있음. 기술 요약 - 기존의 트리플루오로메틸트리알킬실란의 제조방법은 클로로트리메틸실란과 트리플루오로메틸할라이드를 헥사에틸포스포러스트리아미드의 존재하에 반응시켜 트리플루오로메틸트리알킬실란을 합성하는 방법이 있으나 이때 원료인 헥사에틸포스포러스트리아미드가 발암물질로 알려져 있어 공업적으로 적용하기에는 한계가 있음. 전기화학적인 방법으로 트리플루오로에틸트리알킬실란을 합성하는 방법 또한 발암물질인 HMPA를 사용한다는 점과 전기화학장치와 같은 추가비용 발생 등의 문제를 갖고 있음. 국내외 시장 규모 - 국내: 10억원 이상 - 국외: 100만불 이상 사업성 - 트리플루오로메틸트리알킬실란을 이용한 세정기술은 아직 확립되어 있지 않지만 현재 지구온난화 문제가 심각해짐에 따라 온난화지수가 큰 2세대 세정제의 사용이 제한된다면 트리플루오로메틸트리알킬실란과 같은 차세대 세정제의 시장이 크게 증가하리라고 예측됨.
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- 본 발명은 다성분계 산화물 세라믹스에 뮬라이트 분말을 첨가하여 제조한 알루미나/뮬라이트 복합체에 관한 것으로서, 기존의 다성분계 산화물 세라믹스의 내충격성을 향상시킨 복합체에 관한 것이다. 본 발명에 의해서 35~60 중량%의 산화알루미늄, 35~60 중량%의 이산화규소, 0.5~2.0 중량%의 산화마그네슘, 0.5~2.0 중량%의 산화칼륨 및 0.5~2.0 중량%의 산화나트륨으로 이루어지고 상기 혼합물대비 2~30 중량%의 뮬라이트분말이 더 첨가되어 경량화 효과도 달성하면서 우수한 방탄효과를 가진 알루미나/뮬라이트 복합조성물이 제공된다. - 본 발명은 다성분계 산화물 세라믹스에 뮬라이트 분말을 첨가하여 제조한 알루미나/뮬라이트 복합체에 관한 것으로서, 기존의 다성분계 산화물 세라믹스의 내충격성을 향상시킨 복합체에 관한 것이다. 본 발명에 의해서 35~60 중량%의 산화알루미늄, 35~60 중량%의 이산화규소, 0.5~2.0 중량%의 산화마그네슘, 0.5~2.0 중량%의 산화칼륨 및 0.5~2.0 중량%의 산화나트륨으로 이루어지고 상기 혼합물대비 2~30 중량%의 뮬라이트분말이 더 첨가되어 경량화 효과도 달성하면서 우수한 방탄효과를 가진 알루미나/뮬라이트 복합조성물이 제공된다.
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- 본 발명은 탄소재 발열체 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 핏치를 전구체로 하여 탄화시킨 저온 발열체의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 핏치 전구체를 제공하는 단계, 상기 핏치 전구체로부터 메조페이스화된 핏치를 제조하기 위한 제1열처리 단계, 상기 열처리된 핏치를 소정의 발열체 형상으로 성형하는 단계, 상기 핏치 성형체를 산화 안정화하기 위해 산화 분위기에서 열처리하는 제2열처리 단게 및 핏치 성형체를 탄화 열처리 하는 단계를 포함하는 탄소재 저온 발열체 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 핏치 내에 휘발 성분을 제거하여 탄소 수율을 높이고 열처리에 의한 뒤틀림이나 부풀림이 발생하지 않는 탄소재 저온 발열체의 제조가 가능하다. - 본 발명은 탄소재 발열체 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 핏치를 전구체로 하여 탄화시킨 저온 발열체의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 핏치 전구체를 제공하는 단계, 상기 핏치 전구체로부터 메조페이스화된 핏치를 제조하기 위한 제1열처리 단계, 상기 열처리된 핏치를 소정의 발열체 형상으로 성형하는 단계, 상기 핏치 성형체를 산화 안정화하기 위해 산화 분위기에서 열처리하는 제2열처리 단게 및 핏치 성형체를 탄화 열처리 하는 단계를 포함하는 탄소재 저온 발열체 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 핏치 내에 휘발 성분을 제거하여 탄소 수율을 높이고 열처리에 의한 뒤틀림이나 부풀림이 발생하지 않는 탄소재 저온 발열체의 제조가 가능하다.
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- 본 발명은 항균용인 100나노미터급 수산화 아파타이트의 제조방법에 관한 것으로서, 칼슘염과 인산염을 사용하여 침전법으로 수산화 아파타이트를 제조하는 방법에 있어서 교반속도 및 혼합속도를 조절하여 수산화 아파타이트 생성시 균일 핵생성에 의해 입자를 미립화시켜 항균제의 담체로 사용시 항균특성을 향상시킬 수 있는 수산화 아파타이트의 제조 방법에 관한 것이다. 항균 효과를 나타내는 은 이온 등 전이금속 이온들을 생체에 직접 응용하려면 이온상태로 적용하여야 한다. 상기와 같이 이온상태로 있도록 하려면 수용액이나 이온교환 특성이 있는 담체에 보관하여야 하는데, 특히 이온 교환성 담체를 사용할 경우 고체 상태의 재료에도 항균 특성을 내재화 할 수 있는 길이 열리므로 항균 재료의 사용범위를 크게 넓힐 수 있을 것이다 - 본 발명은 항균용인 100나노미터급 수산화 아파타이트의 제조방법에 관한 것으로서, 칼슘염과 인산염을 사용하여 침전법으로 수산화 아파타이트를 제조하는 방법에 있어서 교반속도 및 혼합속도를 조절하여 수산화 아파타이트 생성시 균일 핵생성에 의해 입자를 미립화시켜 항균제의 담체로 사용시 항균특성을 향상시킬 수 있는 수산화 아파타이트의 제조 방법에 관한 것이다. 항균 효과를 나타내는 은 이온 등 전이금속 이온들을 생체에 직접 응용하려면 이온상태로 적용하여야 한다. 상기와 같이 이온상태로 있도록 하려면 수용액이나 이온교환 특성이 있는 담체에 보관하여야 하는데, 특히 이온 교환성 담체를 사용할 경우 고체 상태의 재료에도 항균 특성을 내재화 할 수 있는 길이 열리므로 항균 재료의 사용범위를 크게 넓힐 수 있을 것이다.
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- 본 발명은 대표적인 강유전체 화합물인 티탄산지르콘산납을 대체할 수 있는 화합물로서 납을 함유하지 않은 비스무스나트륨산화티타늄 화합물을 합성하는 방법을 제시한 것이다. 비스무스 화합물(산화비스무스, 질산비스무스, 비스무스아세테이트, 비스무스알콕시드 등)과 나트륨화합물(탄산나트륨, 나트륨, 나트륨아세테이트, 나트륨알콕시드 등)을 질산과 함께 혼합하는 제1공정과, 티타늄 화합물(염화티타늄, 티탄산, 티타늄알콕시드 등)을 티타늄/(나트륨+비스무스) 몰비가 1:1이 되도록 첨가하고 알코올 류의 용매에 용해시킨 후 60도 정도에서 반응시키는 제2공정을 통하여 비스무스나트륨산화티타늄 화합물을 합성할 수 있다. 상기 비스무스나트륨산화티타늄 화합물을 건조/열처리 과정을 통하여 분말화 할 수 있고, 실리콘과 같은 기판 위에 코팅하여 건조/열처리 과정을 통하여 박막화 할 수 있다. - 본 발명은 대표적인 강유전체 화합물인 티탄산지르콘산납을 대체할 수 있는 화합물로서 납을 함유하지 않은 비스무스나트륨산화티타늄 화합물을 합성하는 방법을 제시한 것이다. 비스무스 화합물(산화비스무스, 질산비스무스, 비스무스아세테이트, 비스무스알콕시드 등)과 나트륨화합물(탄산나트륨, 나트륨, 나트륨아세테이트, 나트륨알콕시드 등)을 질산과 함께 혼합하는 제1공정과, 티타늄 화합물(염화티타늄, 티탄산, 티타늄알콕시드 등)을 티타늄/(나트륨+비스무스) 몰비가 1:1이 되도록 첨가하고 알코올 류의 용매에 용해시킨 후 60도 정도에서 반응시키는 제2공정을 통하여 비스무스나트륨산화티타늄 화합물을 합성할 수 있다. 상기 비스무스나트륨산화티타늄 화합물을 건조/열처리 과정을 통하여 분말화 할 수 있고, 실리콘과 같은 기판 위에 코팅하여 건조/열처리 과정을 통하여 박막화 할 수 있다.
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화학공정 > 기타 화학공정
- 본 발명은 제올라이트 촉매를 사용하여 상압에서 폴리디메틸실란으로부터 폴리카보실란을 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 설명하면, Si/Al비가 30~200인 제올라이트를 이용하여 320~450도 상압에서 폴리디메틸실란을 Kumada 전환 반응하여 폴리카보실란을 제조하는 방법에 관한 것이다. 연구한 결과 제올라이트를 폴리디메틸실란의 Kumada 전환반응 촉매로 사용하였을 때 기존의 촉매인 polyborodiphenylsiloxane 촉매에 비하여 최종생성물에 대한 수율이 높고 생성물의 분자량 조절이 용이함을 발견하였다. - 본 발명은 제올라이트 촉매를 사용하여 상압에서 폴리디메틸실란으로부터 폴리카보실란을 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 설명하면, Si/Al비가 30~200인 제올라이트를 이용하여 320~450도 상압에서 폴리디메틸실란을 Kumada 전환 반응하여 폴리카보실란을 제조하는 방법에 관한 것이다. 연구한 결과 제올라이트를 폴리디메틸실란의 Kumada 전환반응 촉매로 사용하였을 때 기존의 촉매인 polyborodiphenylsiloxane 촉매에 비하여 최종생성물에 대한 수율이 높고 생성물의 분자량 조절이 용이함을 발견하였다.
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화학공정 > 기타 화학공정
- 본 발명은 반도체 장치 등에서 사용되는 내플라즈마성 부재에 관한 것으로, 보다 상세하게는 쿼츠 모재상에 졸겔법에 의해 형성된 플라즈마 내식성 코팅층을 포함하는 플라즈마 내식성 부재에 관한 것이다. 본 발명은 쿼츠 모재와, 상기 쿼츠 모재상에 형성되는 조밀한 제1층과, 상기 쿼츠 모재와 상기 제1층과의 사이에 개재되며 상기 제1층보다 높은 기공율을 갖는 완충층으로 구성된 코팅 구조를 포함하는 플라즈마 내식성 부재를 제공한다. 본 발명에 따르면 쿼츠 모재에 형성된 코팅층에 발생한 잔류 응력을 완화시킬 수 있다. - 본 발명은 반도체 장치 등에서 사용되는 내플라즈마성 부재에 관한 것으로, 보다 상세하게는 쿼츠 모재상에 졸겔법에 의해 형성된 플라즈마 내식성 코팅층을 포함하는 플라즈마 내식성 부재에 관한 것이다. 본 발명은 쿼츠 모재와, 상기 쿼츠 모재상에 형성되는 조밀한 제1층과, 상기 쿼츠 모재와 상기 제1층과의 사이에 개재되며 상기 제1층보다 높은 기공율을 갖는 완충층으로 구성된 코팅 구조를 포함하는 플라즈마 내식성 부재를 제공한다. 본 발명에 따르면 쿼츠 모재에 형성된 코팅층에 발생한 잔류 응력을 완화시킬 수 있다.
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