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일반기술 화학공정 > 기타 고분자 공정 기술

다공성 실리콘 및 이의 제조방법

본 기술은 단차가 구비된 다공성 실리콘 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 실리콘에 불순물 주입을 실시하고 전해질액에 침지시킨 후 양극산화를 통하여 실리콘의 전기저항치를 변화시킴으로써 기공의 직경을 조절하거나 실리콘 두께방향으로 직경이 달라지는 각 기공이 정렬되도록 형성된 수직정렬형 다공성 실리콘 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 기술은 실리콘의 상단면을 관통하는 제 1 기공, 제 1 기공의 하단면을 관통하며, 제 1 기공의 직경보다 크거나 작도록 형성되는 제 2 기공, 제 2 기공의 하단면을 관통하며, 제 1 기공의 직경과 동일 또는 유사한 크기로 형성되는 제 3 기공, 제 1 기공, 제 2 기공, 제 3 기공으로 구성되는 기공부를 하나 이상 포함한 것을 특징으로 하는 수직정렬형 다공성 실리콘에 관한 것이다.본 기술에 따라 실리콘에 이중구조를 갖는 기공부를 형성시킴으로써, 종래의 다공성 실리콘에 비하여 표면적이 향상된 실리콘을 가질 수 있을 뿐만 아니라, 각 기공별로 전자소재의 주입이 가능하여 주입된 전자소재의 경계선을 용이하게 형성시킬 수 있는 효과가 있다.

보유기관
연세대학교
등록일
2007-12-27
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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

기능성 나노입자 발생을 이용한 유해가스 제거 방법

본 기술은 유해가스를 저감하는 기술로 흡착 또는 분해의 방법을 사용함에 있어서 그 역할을 담당하는 기능성 물질인 나노입자의 지속적인 공급을 통해 지속적인 유해가스 저감에 관한 안정성 및 유지의 편리성을 향상시키는 기능성 나노입자 발생을 이용한 유해가스 제거 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.<주요특징>본 기술은 필터가 구비된 공조장치 내의 유해가스를 제거하는 방법에 있어서,- 1차 미세공 탄소 나노입자를 생성시킨 후 급냉각시켜 미세공 탄소 응집 나노입자를 생성하는 미세공 탄소 응집 나노입자 생성 단계- 미세공 탄소 응집 나노입자를 필터에 공급 및 포집시켜 필터 주변의 유해가스를 미세공 탄소 응집 나노입자에 의해 흡착 제거하는 유해가스 흡착제거 단계를 포함하는 미세공 탄소 응집 나노입자 발생을 이용한 유해가스 제거 방법과 1차 금속계 나노입자를 생성하여 급가열시킨 후 고온환경에서 1차 금속계 나노입자를 산소와 반응시켜 금속산화물 나노입자인 광촉매 나노입자를 생성하는 광촉매 나노입자 생성 단계- 광촉매 나노입자를 필터에 공급 및 포집시키고 자외선, 가시광선 또는 자연광을 조사하여 필터 주변의 유해가스를 분해 제거하는 유해가스 분해제거 단계를 포함하는 광촉매 나노입자 발생을 이용한 유해가스 제거 방법과, 미세공 탄소 응집 나노입자와 광촉매 나노입자를 병합 이용한 유해가스 제거 방법이 제공된다. 개시된 유해가스 제거 방법에 따르면, 미세공 탄소 나노입자 및 광촉매 나노입자의 지속적 공급을 이용한 유해가스의 흡착 및 분해제거가 가능하여 고성능의 유해가스 제거효율의 유지가 가능하다.

보유기관
연세대학교
등록일
2007-12-27
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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

나노 임프린트 방식을 이용한 다결정 나노 패턴 제조방법

본 기술은 나노 임프린트 방식을 이용하는 간단한 공정을 통해 비정질 실리콘의 결정화 과정시 나노 패턴을 함께 형성하는 새로운 나노 패턴 방법을 구현함으로써, 비정질 실리콘 기반에서 복잡한 포토리소그래피 공정 없이도 간단하게 전하 이동도 특성이 뛰어난 다결정 실리콘 나노 패턴을 제조할 수 있는 나노 임프린트 방식을 이용한 다결정 나노 패턴 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 본 기술은, 비정질 실리콘 기반에서 TFT를 제조하기 위한 다결정 나노 패턴 제조방법에 있어서, 절연 기판상에 비정질 실리콘층을 형성하는 단계와, 비정질 실리콘층을 포함하는 기판상에 전사될 패턴을 가지는 임프린트 마스크를 올려놓는 단계와, 임프린트 마스크가 놓여진 기판에 레이저를 조사하여 임프린트 마스크를 투과한 레이저가 조사된 부분의 실리콘을 용융시킴에 따라 임프린트 마스크의 패턴을 따라 교합된 실리콘 패턴을 얻는 동시에 비정질 실리콘층을 결정화하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 방식을 이용한 다결정 나노 패턴 제조방법을 제공한다.나노 임프린트 방식을 이용한 다결정 나노 패턴 제조방법에 의하면, 나노 임프린트 방식을 비정질 실리콘의 결정화 과정에 적용하여 결정화 및 나노 패턴을 동시에 형성하는 새로운 나노 패턴 방법을 구현함으로써, 비정질 실리콘 기반의 TFT 제조시 복잡한 포토리소그래피의 공정 없이도 간단하게 전하 이동도 특성이 뛰어난 다결정 실리콘 나노 패턴을 제조할 수 있는 장점이 있고, 또한 기존 설비를 이용하여 대량으로 패턴을 생산할 수 있는 장점이 있으며, 이를 통해 초소형, 초경량화 된 디스플레이의 실현에 대한 요구에 적극 대처할 수 있는 효과가 있다.

보유기관
연세대학교
등록일
2007-12-27
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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

용접시 변형을 억제하기 위해 나노입자를 이용하여 용접하는 방법

본 기술은 두 재료의 용접시 용접봉, 용접모재, 용접부위 등에 나노입자를 넣는 새로운 형태의 용접방법을 구현하여 용접시의 열전도율을 줄임으로써, 결국은 열확산율을 낮춤으로써, 용융 메탈과 용접 메탈 간의 격자매치를 위한 충분한 시간을 확보할 수 있으며, 이에 따라 균열 또는 비틀림 변형을 줄일 수 있는 나노입자를 이용하여 용접하는 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.본 기술은 두 재료의 용접시 용접봉, 용접모재, 용접부위 등에 나노입자를 넣는 새로운 형태의 용접방법을 구현하여 용접시의 열전도율(thermal conductivity)을 줄임으로써, 결국은 열확산율(thermal diffusivity)을 낮춤으로써, 용융 메탈과 용접 메탈 간의 격자매치를 위한 충분한 시간을 확보할 수 있으며, 이에 따라 용접 후 용접구조물의 균열 또는 비틀림 변형을 줄일 수 있는 나노입자를 이용하여 용접하는 방법을 제공한다. 본 기술에서 제공하는 용접 방법은 용접시 나타나는 균열 및 비틀림 현상을 억제함으로써, 용접부위의 기계적 강도와 용접구조물의 안정성을 향상시킬 수 있는 등 용접에 쓰이는 모든 기계 부품의 안정성과 내구성을 높일 수 있다.

보유기관
연세대학교
등록일
2007-12-27
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