일반기술
환경 > 대기오염제어·관리 기술 (N32, F36)
본 발명은 열경화성 수지가 첨가된 무기물 소결 여과재 및 그 제조방법에 관한 것으로, 제올라이트, 백토 등의 무기물 미립자와 미세분말 형태의 열경화성 수지를 균일하게 혼합하여 가열, 가압, 경화에 의해 다공성 구조로 성형하여 이루어진 것을 특징으로 하는 것으로, 다양한 용도로 사용가능하면서도 여과능력 및 기계적 물성이 우수하고, 저렴한 비용으로 용이하게 제조할 수 있는 것이다.1. 모래, 백토, 페라이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 입도 5 - 600 ㎛ 범위의 무기물 미립자와미세분말 형태의 열경화성 수지를, 이 열경화성 수지의 함량이 여과재 전체 중량의 5 - 50 중량%가 되도록 하는 비율로균일하게 혼합하고, 가열, 가압 및 경화에 의해 다공성 구조로 성형한 것을 특징으로 하는 액체 처리용 무기물 소결 여과재.2. 제1항에 있어서, 상기 열경화성 수지가 페놀 수지, 에폭시 수지, 멜라민 수지 및 우레아 수지로 구성된 군에서 선택된 1 또는 2 이상의 수지인 것을 특징으로 하는 무기물 소결 여과재.3. 모래, 백토, 페라이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택된 입도 5 - 600 ㎛ 범위의 무기물 미립자와미세분말 형태의 열경화성 수지를 준비하는 단계, 이들 무기물 미립자와 열경화성 수지를, 이 열경화성 수지의 함량이 여과재 전체 중량의 5 - 50 중량%가 되도록 하는 비율로 균일하게 혼합하는 단계, 및이 혼합 재료를 성형기에 투입하고 가열, 가압하여 성형하는 단계를 포함하는 무기물 소결 여과재의 제조방법
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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일반기술
전기·전자 > 영상·음향기기
조명광, 투명 셔터판과 포개어져 있는 확산판, 및 렌즈 또는 반사경의 특성을 가진 광학 소자와 포개어져 있는 투명 평판 표시판의 구조를 가진 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치가 제공된다. 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치의 시역(Viewing Zone)은 광학 소자에 의해 확산판의 영상이 형성되는 부분이다. 조명광, 셔터판, 및 확산판을 포함하는 조명부를 복수개 배치함으로써 다자 시청용으로 만들기가 용이하며, 빔 주사기를 사용하여 셔터판을 사용하지 않고도 다시점 영상 시청용 시역의 형성이 가능하며, 또한 광 효율도 높일 수 있다.1. 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치에 있어서,조명 광원;상기 조명 광원으로부터의 광을 선택적으로 투과 또는 차단하기 위한 셔터판;상기 셔터판의 크기와 실질적으로 동일하고, 상기 셔터판을 통과한 광을 균일하게 확산시키기 위한 확산판;상기 확산 판으로부터의 광로 상에 배치되어 시역을 형성하기 위한 광학 소자; 및상기 광학 소자의 크기와 실질적으로 동일하고, 다시점 영상을 표시하기 위한 투명형 영상 표시판을 포함하고,상기 투명형 영상 표시판 상의 다시점 영상은 시간 멀티플렉싱 방식에 의해 표시되며,상기 시역은 상기 투명형 영상 표시판의 전면에 위치하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.2. 제1항에 있어서, 상기 광학 소자와 상기 투명형 영상 표시판은 그 위치가 서로 바뀔 수 있는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 셔터판은 복수의 띠형 셔터로 구성되고, 상기 복수의 띠형 셔터들의 각각은 서로 독립적으로 동작하며, 상기 복수의 띠형 셔터들은 그 각각의 긴 변이 선정된 간격으로 인접하여 서로 평행하도록 배치되는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.4. 제3항에 있어서, 상기 셔터판의 각각의 띠형 셔터를 통해 광이 투과되는 시간은, 상기 띠형 셔터에 대응하는 상기 영상 표시판의 다시점 영상이 표시되는 동안으로 제한되도록 상기 영상 표시판의 동작과 동기화되어 있는 입체및 다시점 3차원 영상 표시 장치.5. 제3항에 있어서, 상기 셔터판 내의 띠형 셔터의 개수는 다시점 영상의 개수와 동일하거나 큰 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 셔터판은 액정형 셔터판을 포함하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광학 소자는 프레넬 렌즈를 포함하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시장치.8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 투명형 영상 표시판은 액정형 영상 표시판을 포함하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.9. 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치에 있어서,복수의 조명부,상기 복수의 조명부로부터의 광로 상에 배치되어 복수의 시역을 형성하기 위한 광학 소자, 및 상기 광학 소자의 크기와 실질적으로 동일하고, 다시점 영상을 표시하기 위한 투명형 영상 표시판을 포함하고,상기 투명형 영상 표시판 상의 다시점 영상은 시간 멀티플렉싱 방식에 의해 표시되며,상기 복수의 시역은 상기 투명형 영상 표시판의 전면에 위치하고,상기 복수의 조명부 각각은 조명 광원, 상기 셔터판, 및 상기 확산판으로 이루어진 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.10. 제9항에 있어서, 상기 각각의 조명부의 셔터판은 서로 동기화되어 동작하는 입체 및 다시점 3차원 영상표시 장치.11. 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치에 있어서,조명 광원;상기 조명 광원으로부터의 광을 선정된 폭만큼 통과시키기 위한 슬릿;상기 슬릿으로부터의 광을 전방으로 전달하기 위한 영상용 렌즈;상기 영상용 렌즈로부터의 광을 반사하기 위한 빔 주사기; 상기 빔 주사기로부터 반사된 광을 전방으로 균일하게 확산시키기 위한 확산판;상기 확산 판의 전면에 배치되어 시역을 형성하기 위한 광학 소자; 및상기 광학 소자의 크기와 실질적으로 동일하고, 다시점 영상을 표시하기 위한 투명형 영상 표시판을 포함하고,상기 투명형 영상 표시판 상의 다시점 영상은 시간 멀티플렉싱 방식에 의해 표시되며,상기 시역은 상기 투명형 영상 표시판의 전면에 위치하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.12. 제11항에 있어서, 상기 광학 소자와 상기 투명형 영상 표시판은 그 위치가 서로 바뀔 수 있는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.13. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 셔터판은 액정형 셔터판을 포함하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시장치.14. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 광학 소자는 프레넬 렌즈를 포함하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.15. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 투명형 영상 표시판은 액정형 영상 표시판을 포함하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.16. 제11항 또는 제12항에 있어서, 수직 슬릿을 통과하여 상기 확산판 상에 나타나는 영상의 폭이 하나의 다시점 영상의 표시 기간동안 상기 영상이 움직이는 거리보다 짧게 되도록 상기 슬롯의 폭이 설정되는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.17. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기 빔 주사기는, 상기 수직 슬릿의 영상을 상기 확산판의 왼쪽 끝에서오른쪽 끝으로 또는 그 역으로 반복 주사하는 역할을 하는 입체 및 다시점 3차원 영상 표시 장치.18. 제17항에 있어서, 상기 빔 주사기의 동작은 영상 표시판의 다
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기계 > 단위기계 요소부품
본 발명은 반도체 레이저에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 활성층 영역(11)위에 형성된 그레이팅에 의해 레이저 빔을 방출하는 반도체 레이저에 있어서, 레이저 빔(15)이 한쪽방향으로만 방출되도록 그레이팅(14)을 링 형태로 형성시키므로써 반사에 의한 광손실을 줄일 수 있으며 유효 광출력을 훨씬 높일 수 있는 반도체 레이저에 관한 것이다.1. 활성층 영역(11)위에 형성된 그레이팅에 의해 레이저 빔을 방출하는 반도체 레이저에 있어서, 레이저 빔(15)이 한쪽방향으로만 방출되도록 그레이팅(14)을 링 형태로 형성시키는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저.2. 제1항에 있어서, 상기 링형 그레이팅(14)의 주기가 하기의 식을 만족하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저.mλ = 2neff d cosθ여기서, neff : 그레이팅을 포함하는 영역의 유효굴절율 d : 그레이팅 주기 θ : 빔의 입사각 λ : 빔의 파장 m : 정수3. 제1항에 있어서, 상기 그레이팅(14)의 선단부(16)가 경면에 수직인 축과 약 0 내지 40°범위의 각을 이루는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저.
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
본 발명은 솔-젤법과 초임계 건조법을 이용하여 제조한 알루미나 에어로젤 담체에 니켈을 담지하거나 니켈-알루미나 혼성 에어로젤 촉매를 제조하는 방법에 관한 것으로 본발명에 따라 제조된 니켈-알루미나 촉매는 반응 활성이 우수하고 수명이 현저히 향상되는 효과가 있다.청구항 1. 1∼40%의 니켈을 포함하고 나머지를 알루미나로 하여 100%로 구성되는 메탄의 이산화탄소 개질 반응용 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매.청구항 2. 가열된 알코올 용매에 알루미늄알콕사이드를 용해시키는 제 1단계; 제 1단계에서 제조된 용액에 물, 산 및 알코올을 부가하여 가수분해함으로써 투명한 솔을 형성하고 이 솔에 니켈염 함유알코올 용액을 부가하는제 2단계; 제 2단계에서 형성된 솔을 상온으로 냉각시킨 후 물 함유 알코올을 가하여 젤을 형성시키는 제 3단계;제 3단계에서 제조된 젤을 숙성시키는 제 4단계; 제 4단계에서 숙성된 젤을 초임계 건조시키는 제 5단계; 및 제 5단계에서 건조된 젤을 불활성 분위기로 일차 열처리하고 공기 또는 산소분위기로 이차 열처리하는 제 6단계로 구성되는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조 방법.청구항 3. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 단계의 알코올 용매의 온도를 40-90℃되게 유지하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 4. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1단계의 알루미늄알콕사이드로서 알루미늄 이소프로폭사이드 또는 알루미늄sec-부톡사이드를 사용하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 5. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1단계에서 사용된 알루미늄/알코올 비를 0.4∼0.6mmol/ml되게 하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 6. 제 2 항에 있어서, 상기 제 2단계에서 알루미늄에 대한 물의 양을 몰 비로 0.2∼0.8되게 넣어 투명한 솔을형성하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 7. 제 2 항에 있어서, 상기 제 3단계에서 상온에서 알루미늄에 대한 물의 양을 몰 비로 0.5∼1.5되게 넣어 단시간에 균일한 젤을 형성하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 8. 제 3 항에 있어서, 상기 제 6단계에서 초임계 건조된 에어로젤을 200∼500℃에서 불활성 분위기로 일차 열처리하고 500℃ 이상에서 공기 또는 산소 분위기로 이차 열처리하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 9. 제 2항 내지 8항중 어느 하나의 제조방법에 의해서 제조되고, 1∼40%의 니켈을 포함하고 나머지를 알루미나로 하여 100%로 구성되는 메탄의 이산화탄소 개질 반응용 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매.청구항 10. 메탄 15∼30%, 이산화탄소 15∼30% 및 나머지를 질소로 하여 100%로 구성되는 반응물을 반응 온도 600∼800℃, 접촉시간 0.0005∼0.005g·min·1-1로 제 1항 의 촉매를 사용하여 합성가스를 제조하는 방법.청구항 11. 메탄 15∼30%, 이산화탄소 15∼30% 및 나머지를 질소로 하여 100%로 구성되는 반응물을 반응 온도 600∼800℃, 접촉시간 0.0005∼0.005g·min·1-1로 제 9항 의 촉매를 사용하여 합성가스를 제조하는 방법.
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재료 > 기타 고분자재료
폴리에스테르 중합체를 제조할때에 안티몬 화합물과 티타늄화합물로 구성된 복합촉매 그리고 반응조건에 따라 이 복합촉매에 제3의 화합물을 첨가하여 폴리에스테르를 제조하기 위한 것이다. <구성>테레프탈산 또는 이를 주성분으로 하는 디카르복실산 및 그 유도체와 에틸렌글리콜 또는 이를 주성분으로하는 글리콜 및 그 유도체를 에스테르화 반응시켜 비스테레프탈레이트 및/또는 그 저중합체가 주성분으로 된 에스테르화물을 얻고 이를 계속해서 중축합 반응시켜 폴리에스테르를 제조할 때 복합촉매가 에틸렌글리콜 또는 에틸렌글리콜을 주성분으로 하는 용매에 안티몬화합물과 티타늄화합물을 용해시켜 제조된 안티몬화합물과 티타늄화합물의 복합촉매이며 티타늄화합물이 식(I)로 표시되는 화합물인 것으로 구성한다. <효과>에스테르화 반응 및 중축합 반응시간이 함께 크게 단축되면서 중합체의 색상이 매우 우수하다.1. 테레프탈산 또는 이를 주성분으로 하는 디카르복실산 및 그 유도체와 에틸렌글리콜 또는 이를 주성분으로하는 글리콜 및 그 유도체를 에스테르화 반응시켜 비스(베타-히드록시에틸)테레프탈레이트 및/또는 그 저중합체가 주성분으로 된 에스테르화물을 얻고 이를 계속해서 중축합 반응시켜 폴리에스테르를 제조할때 촉매로서 안티몬화합물과 티타늄화합물로 구성된 복합촉매를 사용하는 폴리에스테르의 제조방법에 있어서, 복합촉매가 에틸렌글리콜 또는 에틸렌글리콜을 주성분으로 하는 용매에 안티몬화합물과 티타늄화합물을 용해시켜 제조된 안티몬화합물과 티타늄화합물의 복합촉매이며, 티타늄화합물이 다음식으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.(RO)4Ti[HP(O)(OR')2]2상기식에서, R은 같거나 서로 다르며 지방족 또는 지환족 알킬기 및 방향족아릴기를 나타내며, R'은 지방족 또는 지환족알킬기 및 방향족 아릴기를 나타내며, R과 같거나 다를 수 있다.2. 제1항에 있어서, 안티몬화합물로서 삼산화안티몬, 안티몬트리아세테이트 중에서 선택하여 반응시키는 것을특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.3. 제1항에 있어서, 상기 티타늄화합물이 테트라이소프로필 디(디옥틸)포스파이토 티타네이트인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.4. 제1항에 있어서, 복합촉매의 사용 양이 최종적으로 얻어지는 폴리에스테르에 대하여 100-1,000피피엠이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.5. 제1항에 있어서, 안티몬화합물과 티타늄화합물의 중량비가 0.01-100이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.6. 제1항에 있어서, 복합촉매가 용해된 글리콜용액을 반응시 20-200℃로 가열시켜 반응에 첨가하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
안티몬 화합물과 일반식 (Ⅰ)의 티타늄 화합물과 일반식 (Ⅱ)의 주석 화합물로 구성된 복합 촉매를 특수하게 제조하여 사용함으로써 폴리에스테르의 투명성, 생산성을 향상시킬 수 있는 방법을 제공한다. <구성>테레프탈산 또는 그 유도체와 에틸렌글리콜 또는 이를 주성분으로 하는 글리콜 또는 그 유도체를 20-200도C의 온도, 안티몬 화합물, 일반식 (Ⅰ)의 티타늄 화합물 및 일반식 (Ⅱ)의 주석 화합물로 구성된 복합 촉매의 존재하에서 에스테르화반응시켜 에스테르 화합물을 제조하고, 이 에스테르 화합물을 중축합 반응시켜 폴리에스테르를 얻는다. 상기식에서 R1, R2, R3은 각각 메틸, 에틸, 노르말 프로필, 이소프로필 등을 나타내며, X는 산소, 황, 할로겐 원소 등을 나타낸다. 안티몬 화합물은 삼산화안티몬, 안티몬트리아세테이트 등이, 티타늄 화합물로는 티타늄에틸렌글리콕시드 등이, 주석 화합물로는, 디부틸틴옥시드, 디페닐틴술피드 등이 사용 된다.1. 테레프탈산 또는 그 유도체와 에틸렌글리콜 또는 이를 주성분으로 하는 글리콜 또는 그 유도체를 에스테르화 반응시켜 에스테르화합물을 얻고 상기 에스테르 화합물을 중축합 반응시켜 폴리에스테르를 제조하는 방법에 있어서,안티몬화합물, 일반식(Ⅰ)의 티타늄화합물 그리고 일반식(Ⅱ)의 주석화합물로 구성된 복합촉매의 존재하에서 에스테르화반응을 진행시키는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.(R1O)4Ti ㆍ 2HP(O)(OR2)2(R3)2SnX상기 일반식에 있어서 R1, R2, R3은 각각 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec.-부틸, tert-부틸, n-아밀, 아세틸이소프로필, 펜틸, 헥실, 헵틸, 2-에틸헥실, 옥틸, 데실, 도데실, 트리데실, 옥타데실, 스테아릴, 알릴,2,2-디알릴옥시메틸부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 나프틸, 페닐, 벤질 또는 도데실벤질기를 나타내며 X는 산소, 황 할로겐 원소 또는 에테르, 티오 및 에스테르 결합을 갖는 화합물을 나타낸다.2. 제1항에 있어서, 안티몬화합물을 삼산화안티몬, 안티몬트리아세테이트로 구성되는 군에서 선택하는 것을특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.3. 제1항에 있어서, 복합촉매의 사용양을 최종적으로 얻어지는 폴리에스테장르 대하여 250-1,000 피피엠이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.4. 제1항에 있어서, 복합촉매를 글리콜에 용해하여 20-200℃로 가열시켜 반응에 첨가하는 것을 특징으로 하는폴리에스테르의 제조방법
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
압전 복합 재료를 PZT압전 세라믹스와 PVdF 압전 고분자 사이의 결합력 증진을 위해 실란을 결합제로 첨가하는 한편 고분자 매트릭스 내에서의 전기 전도도 향상을 위해 카본 미립자를 첨가한 원료 조성을 대량 생산이 용이한 압출 성형법을 이용하여 유연성 있는 0-3 연결성을 갖는 쉬트형으로 제조할 수 있도록 한다. <구성>78.5용량%의 PVdF 고분자 매트릭스에 20용량%의 PZT 분말과 1.5용량%의 카본을 균일하게 분산시킨 후, 고온용 압출 성형기를 사용하여 섭씨 210도에서 약100 마이크로미터의 두께의 쉬트형으로 제조한다. 이 때, PZT 원료는 압전 트랜스튜서용으로 사용되는 조성의 하소된 분말을 섭씨 1250도에서 2시간 동안 소결시킨 후, 증류수를 사용하여 비분쇄한 후 건조한 실란을 첨가하여 만든다. <효과>압출 성형법에 의해 제조됨에 따라 대량 생산이 용이해 진다.1.압전세라믹스 입자를 압전 고분자내에 분산시켜 복합화한 압전 세라믹-고분자 복합재료에 있어서, 아번 고분자로 PVdF를 메트릭스로 하여 치대 5중량%의 실란이 첨가된 PZT압전 세라믹스 입작 10~60 용량%분산됨고 아울러 최대 3용량%의 카본이 첨가되어 이루어짐을 특징으로하는 압전 세라믹-고분자 복합재료.2.압전 세라믹스 입자를 압전 고분자 내에 분산시켜 복합화한 압전 세라믹-고분자 복합재료의 제조방법에 있어서 PZT 압전 세라믹스에 최대 5중량%의 실란을 알콜과 함께 첨가하여 PZT입자의 표면에 실란이 코팅되도록한 후,PVdF 압전 고분자에 10~60용량%의 실란처리된 PZT와 최대3용량%의 카본미립자를 첨가하여 건식 혼합한 다음 압출성형법으로 50~300㎛두께의 쉬트형으로 성형함을 특징으로 하는 압전 세라믹-고분자 복합재료의 제조방법.3.제2항에 있어서, 압출성형시의 온도는 210 ℃인 것을 특징으로 하는 압전 세라믹-고분자 복합재료의 제조방법.
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일반기술
전기·전자 > 집적회로설계 기술 (B63)
본 발명은 전자선 증착된 막이나 스퍼터링된 막을 중간 삽입층로 이용하여 실리콘 직접 접합 공정과, 이러한 직접 접합 공정을 이용하여 소자를 진공 실장하는 공정 및 실리사이드 제조 공정에 관한 것이다. 본 발명에 의할 경우, 종래 직접 접합 방법으로 접합할 수 없었던 금속 등의 막이나 실리콘 기판이 아닌 유리 기판 등의 다른 기판에 대해서도 접합이 가능하고, 이러한 직접 접합 방법을 이용하여 고진공을 요하는 진공 소자를 진공 실장할 수 있으며 또한, 내화성 금속 실리사이드를 산화되지 않게 형성할 수 있는 장점이 있다.1. 접합될 두 장의 기판을 깨끗이 세척하고 한쪽 기판에 중간 삽입층을 형성하는 공정과, 이후 상기 두 장의기판 표면을 친수화하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판을 서로 맞닿게 하여 초기 접합을 이루는 공정과, 이후 초기 접합이 이루어진 기판쌍을 열처리 하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정.2. 제1항에 있어서, 상기 중간 삽입층은 전자선 증착된 막이나 스퍼터링된 막을 이용하는 것을 특징으로 하는중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정.3. 접합될 두 장의 기판을 깨끗이 세척하고 한쪽 기판에 중간 삽입층을 형성하고 진공을 실장할 수 있도록 기판을 식각하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판 표면을 친수화하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판을 서로 맞닿게 하고진공을 실장하는 공정과, 이후 진공이 실장된 기판쌍을 열처리 하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정을 이용하는 전계방출 소자의 진공 실장 공정.4. 제3항에 있어서, 상기 중간 삽입층은 전자선 증착된 막이나 스퍼터링된 막을 이용하는 것을 특징으로 하는중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정을 이용하는 전계방출 소자의 진공 실장 공정.5. 접합될 두 장의 기판을 깨끗이 세척하고 한쪽 기판에 내화성 금속 및 중간 삽입층을 증착하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판 표면을 친수화하는 공정과, 이후 친수화 처리 된 상기 두 장의 기판을 서로 맞닿게 하여 직접 접합을 하는 공정과, 이후 열처리 공정으로 실리사이드막을 형성하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 중간 삽입층을이용한 직접 접합 공정을 이용하는 실리사이드 제조 공정.6. 제5항에 있어서, 상기 중간 삽입층은 전자선 증착된 막이나 스퍼터링된 막을 이용하는 것을 특징으로 하는중간 삽입층을 이용한 직접 접합 방법을 이용한 실리사이드 제조 공정
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재료 > 기타 금속재료
자동차, 중장비 및 기차 등의 제동 시스템에 사용되는 마찰재로, 특히 고하중, 고속의 가혹한 조건하에서 우수한 마찰 특성과 내마모성을 지니는 청동계 소결 마찰재의 제조 방법이 기재되어 있다. 이 방법에 의한 청동계 소결 마찰재는 50~80wt%의 구리 분말과 5~15wt%의 주석 분말로 된 청동 기지 금속과 10~50wt%의 마찰 조절제 및 2~10wt%의 고체 윤활제로 구성되어 있으며, 이 때 마찰 조절제는 5~15wt%의 철 분말, 7~15wt%의 몰리브덴 분말, 2~10wt%의 내마모 첨가제 분말 및 2~10wt%의 세라믹 단섬유로 구성되어 있다.1. 접합될 두 장의 기판을 깨끗이 세척하고 한쪽 기판에 중간 삽입층을 형성하는 공정과, 이후 상기 두 장의기판 표면을 친수화하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판을 서로 맞닿게 하여 초기 접합을 이루는 공정과, 이후 초기 접합이 이루어진 기판쌍을 열처리 하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정.2. 제1항에 있어서, 상기 중간 삽입층은 전자선 증착된 막이나 스퍼터링된 막을 이용하는 것을 특징으로 하는중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정.3. 접합될 두 장의 기판을 깨끗이 세척하고 한쪽 기판에 중간 삽입층을 형성하고 진공을 실장할 수 있도록 기판을 식각하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판 표면을 친수화하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판을 서로 맞닿게 하고진공을 실장하는 공정과, 이후 진공이 실장된 기판쌍을 열처리 하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정을 이용하는 전계방출 소자의 진공 실장 공정.4. 제3항에 있어서, 상기 중간 삽입층은 전자선 증착된 막이나 스퍼터링된 막을 이용하는 것을 특징으로 하는중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정을 이용하는 전계방출 소자의 진공 실장 공정.5. 접합될 두 장의 기판을 깨끗이 세척하고 한쪽 기판에 내화성 금속 및 중간 삽입층을 증착하는 공정과, 이후 상기 두 장의 기판 표면을 친수화하는 공정과, 이후 친수화 처리 된 상기 두 장의 기판을 서로 맞닿게 하여 직접 접합을 하는 공정과, 이후 열처리 공정으로 실리사이드막을 형성하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 중간 삽입층을이용한 직접 접합 공정을 이용하는 실리사이드 제조 공정.6. 제5항에 있어서, 상기 중간 삽입층은 전자선 증착된 막이나 스퍼터링된 막을 이용하는 것을 특징으로 하는중간 삽입층을 이용한 직접 접합 방법을 이용한 실리사이드 제조 공정
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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전기·전자 > 제어·자동화
낮은 내압의 소자의 사용을 가능하게 하고 고조파 손실을 감소시키기 위하여, 신경 회로망을 이용하여 3 상 3 레벨 PWM인버터에서 전류를 제어하는 방법이 제공된다. 본 발명에 따라 신경회로망을 이용하여 3상 3 레벨 PWM인버터에서의 출력 전류를 제어하는 방법은 3상 3레벨 PWM 인버터의 각 상에 있어서의 원하는 진폭과 주파수를 갖는 기준 전류와 각 상에 있어서 실제 출력 전류와의 오차를 입력 패턴으로 하고 각 입력 패턴에 대하여 상기 전류 오차를 감소시키도록 하는 스위칭 패턴을 목적 패턴으로 하도록 선정된 학습 패턴에 의하여 신경 회로망을 학습시키는 단계 및 상기 학습된 신경 회로망을 전류 제어기에 이용하여 인버터에서 출력 전류를 제어하는 단계를 포함한다. 본 발명에 따르면, 고조파 왜곡(THD)이 감소되고 빠른 신호 처리가 가능하게 되며 과실 형용 능력이 생기고 강인성이 보장되며 학습 능력을 갖게 되는 3상 3 레벨 PWM 인버터 전류 제어기의 구현이 가능하다.1. 신경 회로망을 이용하여 3 상 3 레벨 PWM 인버터에서의 출력 전류를 제어하는 방법에 있어서, 상기 3 상 3레벨 PWM 인버터의 각 상에 있어서의 원하는 진폭과 주파수를 갖는 기준 전류와 각 상에 있어서의 실제 출력 전류와의 오차를 입력 패턴으로 하고 상기 각 입력 패턴에 대하여 상기 전류 오차를 감소시키도록 하는 스위칭 패턴을 목적 패턴으로하도록 선정된 학습 패턴에 의하여 상기 신경 회로망을 학습시키는 단계, 및 상기 학습된 신경 회로망을 이용한 전류 제어기에 의하여 상기 3 상 3 레벨 PWM 인버터의 출력 전류를 제어하는 단계를 포함하는 전류 제어 방법.2. 제1항에 있어서, 상기 전류를 제어하는 단계는 각 상에 대한 3개의 기준 전류를 발생시키는 단계, 각 상에대한 3개의 실제 출력 전류와 상기 3개의 기준 전류와의 오차들을 구하는 단계, 상기 3개의 실제 출력 전류와 상기 3개의기준 전류와의 오차들을 상기 신경 회로망을 이용한 전류 제어기에 입력시키는 단계, 상기 신경 회로망을 이용한 전류 제어기에서 상기 입력된 오차들을 입력 패턴으로 하여 출력 패턴을 발생시키는 단계, 상기 발생된 출력 패턴에 따라 상기 3상 3 레벨 PWM 인버터의 스위칭 패턴을 발생시키는 단계, 및 상기 발생된 스위칭 패턴에 따라 상기 3 상 3 레벨 PWM 인버터에서의 스위칭 상태를 변경시키는 단계를 포함하는 방법
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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화학공정 > 기타 화학공정
기존 촉매를 능가하는 활성 및 선택도를 가질 뿐만 아니라 안정면에서도 훨씬 우수한 에스테르 및 알데히드를 수소화시켜 알콜을 제조하는데 사용되는 촉매를 제공한다. <구성>CuO 0.1 내지 80 중량 퍼센트, ZnO 0.1 내지 60 중량 퍼센트, CoO 0.1 내지 80 중량 퍼센트, FeO 0.1 내지 20 중량 퍼센트 및 YO(여기서 Y는 W, Pd, Pt, Ru, Cs, Mg, Ca 또는 Ba임), 0 내지 5 중량 퍼센트로 조성으로 구성되며, 알콜 제조방법은 이 촉매를 사용하여 섭씨 120 내지 280도의 반응 온도, 21.4 내지 273.2ATM의 압력에서 에스테르를 수소화 반응시키는 공정으로 구성된다. <효과>카르복실산 에스테르, 지방족 에스테르, 고리 형태의 에스테르, 히드록사카르복실산 에스테르 및 알데히드로부터 높은 수율로 알콜을 제조할 수 있다.1. 높은 선택성2. 내구성
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화학공정 > 기타 화학공정
에스테르 수소화에 의한 알코올 제조에 있어서 활성 및 선택도는 물론, 안정성면에서도 월등한 Cu-Co-Zn-Fe계열의 수소화 촉매에 관한 것이며, 이 촉매를 이용하여 에틸렌 글리콜을 제조하기 위함이다. <구성>0.1-80 중량%의 CuO, 0.1-60 중량%의 ZnO, 0.1-80 중량%의 CoO, 0.1-20 중량%의 FeO 및 0-5중량%의 YO(Y는 W, Pd, Pt, Ru, Cs, Mg, Ca 또는Ba임)로 조성되는 촉매를 사용하고, 이렇게 활성, 선택도 및 안정성이 개선된 에스테르의 수소화 반응용 촉매(350도C에서 2-3시간 환원시킨 후 사용)의 존재하에서 120-280도C의 반응 온도 및 20.4-272.0 ATM(300-4,000 PSIG)의 압력에서 히드록시카르복실산 에스테르를 수소화 반응시킴으로써 알코올을 제조한다. 이때 용매로 알코올을 사용하는데, 이 용매는 반응 중에 일어날 수 있는 중합 반응을 방지하여 부반응을 억제하고, 반응에 필요한 수소의 공급을 원활하게 해주는 역할을 하며, 사용량은 에스테르의 0.1-20배 정도이다.1. 에스테르의 수소화 반응용 촉매 존재하에 에스테르를 수소화하여 알콜을 제조하는 방법에 있어서, 0.1 내지 80중량%의 CuO, 0.1 내지 60중량%의 ZnO, 0.1 내지 80중량%의 CoO, 0.1 내지 20중량%의 FeO 및 0 내지 5중량%의 YO(여기서, Y는 W, Pd, Pt, Ru, Cs, Mg, Ca 또는 Ba임)로 조성되는 촉매를 사용하고, 120 내지 280℃의 반응 온도 및 20.4 내지 272.0atm(300 내지 4,000psig)의 압력에서 히드록시카르복실산 에스테르를 수소화 반응시키는 것을 특징으로 하는 알콜의 제조 방법.2. 제1항에 있어서, 상기 반응 온도는 150 내지 260℃이고, 압력은 88.4 내지 204.0atm(500 내지 3,000psig)인 것을 특징인 방법.3. 제1항에 있어서, 상기 촉매를 350℃에서 2 내지 3시간 동안 환원시킨 다음 사용하는 것이 특징인 방법.4. 제1항에 있어서, 상기 에스테르의 수소화 반응이 알콜 용매 중에서 액상으로 수행되는 것인 방법.5. 제4항에 있어서, 상기 수소화 반응 에스테르의 0.1 내지 20배 양의 알콜 용매 중에서 수행되는 것인 방법
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- 한국과학기술연구원
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- 2000-12-15
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화학공정 > 기타 화학공정
단축 공정에 의해 다량의 메틸 아세테이트 아세트산, 및 무수 아세트산의 병산하고, 또한 촉매 및 반응 조건을 조절하여, 필요한 생성물을 선택적으로 대량 생산하는 방법을 제공한다. <구성>로듐 화합물을 물 또는 유기 용매중에 용해시키고, 생성 용액을 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 전이 금속과 함께 불활성 담체에 담지시킨 후, 소결하여 제조된 로듐 촉매 및 할라이드 조촉매 존재하에 메탄올을 일산화탄소로 일차 카르보닐화 반응시켜 아세트산과 메틸아세테이드를 얻는 제1공정, 반응 혼합물로부터 메틸아세테이트와 조촉매 및 아세트산을 서로 분리하고, 아세트산을 회수하는 제2공정, 분리된 메틸아세테이트중 소정량은 증류시켜, 회수하고, 나머지는 조촉매와 함께 이차 카르보닐화 반응기에 유입시키는 제3공정, 이차 카르보닐화 반응기에 도입된 메틸아세테이트를 조촉매 존재하에 일산화탄소로 50-10,000/hr의 시간당 기체 반응 속도(GHSV) alc 100-400도C에서 이차 카르보닐화 반응시켜 무수아세트산을 얻는 제4공정 및 상기 조촉매와 생성된 무수아세트산을 분리하여 회수하고, 조촉매는 다시 일산화탄소 압력 200psi 이하 및 300도C의 완화된 조건에서 일차 카르보닐화 반응기로 순환시키는 제5공정을 통해 메틸 아세테이트 아세트산, 및 무수 아세트산의 병산한다.1. 로듐 화합물을 물 또는 유기 용매중에 용해시키고, 생성 용액을 알칼리 금속, 알칼리토 금속 또는 전이 금속과 함께 불활성 담체에 담지시킨 후 소결함으로써 제조된 로듐 촉매 및 할라이드계 조촉매 존재하에 메탄올을 일산화탄소로 일차 카르보닐화, 반응시켜 아세트산과 메틸 아세테이트를 얻는 제1공정, 반응 혼합물로부터 메틸 아세테이트와 조촉매 및 아세트산을 서로 분리하고, 아세트산을 회수하는 제2공정, 분리된 메틸 아세테이트중 소정량은 증류시켜, 회수하고, 그 나머지는 조촉매와 함께 이차 카르보닐화 반응기에 유입시키는 제3공정, 이차 카르보닐화, 반응기에 도이된 메틸아세테이트를 조촉매 존재하에 일산화탄소로 이차 카르보닐화 반응시켜 무수 아세트산을 얻는 제4공정 및 상기 조촉매와생성된 무수 아세트산을 분리하여 무수 아세트산은 회수하고 조촉매는 다시 일차 카르보닐화, 반응기로 순환시키는 제5공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 메틸 아세테이트, 아세트산 및 무수 아세트산의 병산 방법.2. 제1항에 있어서, 상기 메틸 아세테이트의 이차 카르보닐화 반응이 50 내지 10,000hr-1의 GHSV 및 100 내지400℃의 온도에서 수행되는 것인 방법.3. 제1항에 있어서, 일차 카르보닐화 반응을 200psi이하의 일산화탄소 압력 및 300℃이하의 완화된 조건에서수행하여 메틸 아세테이트의 수율을 증가시키는 것인 방법.4. 제1항에 있어서, 상기 조촉매와 메탄을 또는 메틸 아세테이트의 반응기에로의 투입비가 몰비로 0.01 : 1내지 10 : 1인 방법.5. 제1항에 있어서, 상기 조촉매는 일차 및 이차 카르보닐화 반응 후 일차 카르 보닐화 반응기로 재순환되는것인 방법.6. 제1항에 있어서, CO가스에 H2를 I내지 50%혼합하는 방법.7. 촉매 존재 하에 기상 메탄올과 일산화탄소를 반응시켜서 아세트산과 메틸 아세테이트를 제조하고 생성된메틸 아세테이트를 일산화탄소와, 반응시켜서 무수 아세트산을 제조하는 방법에 있어서, 촉매로서 로듐 화합물을 물 또는유기 용매중에 용해시키고, 생성 용액을 알칼리 금속, 알칼리토 금속 또는 전이 금속과 함께 불활성 담체에 담지시킨 후소결시킴으로써 제조되는 촉매를 사용하고, 할라이드계 화합물을 조촉매로서 함께 사용하여 상압 내지 1,000psi의 일산화탄소 압력하에 100 내지 400℃의 온도에서 메탄올과 일산화탄소를 1 : 0.1, 내지 1 : 100의 몰비로 반응시키는 것을 특징으로 하는 아세트산, 메틸 아세테이트 및 무수 아세트산의 개선된 제조 방법.8. 제7항에 있어서, 상기 할라이드계 화합물은 CH3I, CH3Br, CH3Cl, I2, Br2, Cl2, HI, HBr 및 HCl로 구성되는군중에서 선택되는 것인 방법.9. 제7항에 있어서, 상기 기상 메탄올 카르보닐화 반응은 150내지 300psi의 일산화탄소 압력하에 150 내지300℃의 온도에서 메탄올과 일산화탄소를 1 : 0.5 내지 1 : 2.3의 몰비로 하여 수행되는 것인 방법.
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화학공정 > 기타 화학공정
일련의 공정으로 메탄올로부터 에탄올을 효율적으로 제조하는 방법을 제공한다. <구성>(A) 로듐 촉매 및 할라이드계 조촉매 (CH3I)의 존재하에 상압 내지 1000PSI의 일산화탄소 압력 및 100-400도C에서 메탄올과 일산화탄소를 1:1 내지 1:100의 몰비로 기상 카르보닐화 반응시켜 아세트산과 메틸아세테이트를 얻는다 ; (B) 메탄올의 카르보닐화 반응 혼합물로부터 아세트산을 분리한다 ; (C) 나머지 반응 혼합물로부터 메틸아세테이트와 할라이드 조촉매를 분리하고, 분리된 조촉매는 카르보닐화 반응기로 재순환시킨다 ; (D) 분리된 메틸아세테이트를 수소화 촉매(Cu-Co-Zn, Cu-Zn-Fe, Cu-Co-Zn-Fe-Ca, Cu-Co-Zn-Mo-Na에서 선택)의 존재하에 메틸아세테이트의 시간당 액체 공간 속도 0.3-6.0, 온도 200-300도C, 압력 350-700PSIG로 수소화 반응을 행함으로써 메탄올과 에탄올을 얻는다 ; (E) 생성된 혼합물로부터 에탄올과 메탄올을 분리회수하고 메탄올은 공정(A)로 재순환 사용한다. <효과>메탄올과 일산화탄소의 카르보닐화 반응에서 직접 메틸아세테이트를 생산함으로써 별도의 에스테르화 단계가 필요없고, 최종 단계에서 얻은 메탄올을 카르보닐화 단계로 재순환 사용함으로써 원료비를 절감할 수 있다.1. 카르보닐화 반응용 로듐 촉매 및 할라이드계 조촉매 조재하에 메탄올을 일산화탄소와 기상 카르보닐화 반응시켜 아세트산과 메틸아세테이트를 얻는 제1공정, 생성된 아세트산과 메틸아세테이트의 혼합물로부터 아세트산을 분리하는 제2공정, 아세트산을 분리시킨 후 나머지 반응 혼합물로부너 할라이드계 조촉매와 메틸아세테이트를 각각 분리하는제3공정, 분리된 메틸아세테이트를 수소화 반응기로 유입시켜 Cu 산화물을 주성분으로 하는 수소화 촉매 존재하에 메틸아세테이트의 LSHV=0.3-6.0, 200-300℃의 온도, 350-700psig의 압력하에 수소화시켜 메탄올과 에탄올을 얻는 제4공정 및 생성된 혼합물로부터 에탄올을 분리하고 메탄올을 회수하여 제1공정에 재순환시키는 제5공정으로 이루어지는 메탄올로부터에탄올을 제조하는 방법.2. 제1항에 있어서, 제2공정과 제3공정이 하나의 공정으로 통합 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.3. 제1항에 있어서, 할라이드 조촉매는 분리후 카르보닐화 반응공정으로 재순환되는 것을 특징으로 하는 방법.4. 제1항에 있어서, 메틸아세테이트의 수소화 반응에 사용되는 수소화 촉매가 Cu-Co-Zn, Cu-Zn-Fe, Cu-Co-Zn-Fe-Ca 및 Cu-Co-Zn-Mo-Na로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는 방법.5. 제1항에 있어서, 상기 할라이드 조촉매가 CH3I인 것을 특징으로 하는 방법
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- 2000-12-15
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화학공정 > 기타 화학공정
비균질산 촉매계에서 기상 메탄올 카르보닐화 반응을 이용하여 아세트산을 제조하는 방법을 제공한다. <구성>활성탄, 점토, 알루미나, 실리카 등의 불활성 담체의 양을 기준으로 0.1 내지 20 중량 퍼센트(로듐 환산)의 로듐 화합물을 수용성 또는 유기 용매 중에 용해시킨 것을 로듐의 양을 기준으로 1 내지 1000 몰 퍼센트의 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 전이 금속과 함께 불활성 담체에 담지시키고, 담체를 섭씨 100 내지 500도에서 소결시켜 기상 메탄올 카르보닐화 반응용 촉매를 제조하고, 촉매를 조촉매인 할로겐 함유 화합물과 함께 사용하여 상압 내지 70.3KG/CM2의 일산화탄소와 수소의 혼합 가스 압력하에서 섭씨 100 내지 400도의 온도에서 메탄올 대 일산화탄소와 수소의 혼합 가스를 1 대 0.1 내지 1 대 100의 몰비로 반응시킨다. <효과>반응 온도와 압력을 더 완화시켜 운전 비용을 절감하고 촉매의 수명도 대폭 연장시킬 수 있다.1. 불활성 담체의 양을 기준으로 0.1 내지 20중량%(로듐 환산)의 로듐 화합물을 수용성 또는 유기 용매중에용해시킨 것을 로듐의 양을 기준으로 1 내지 1,000몰%의 알칼리 금속, 알카리 토금속 또는 전이 금속과 함께 불활성 담체에 담지시키고, 이 담지물을 100내지 500℃에서 소결시키는 것에 의해 제조된 기상 메탄올 카르보닐화 반응용 촉매.2. 제 1 항에 있어서, 상기 로듐 화합물이 RhX3(X=Cl, Br, I), RhX3, 3H2O(X=Cl, Br, I), Rh2(CO)4X4(X=Cl, Br,I), [Rh(CO)X4]Y(X=Cl, Br, I; Y=Na, Li, K), Rh2(CO)8, Rh(NO3)3, [Rh(CO)2X2]Y(X=Cl, Br, I; Y=Li, Na, K), Rh2O3 및 [Rh(C2H4)2X]2(X=Cl, Br, I), Rh[(C6H5)3P]2(CO)X(X=Cl, Br, I), 로듐 금속, RhX[(C6H5)3P]2(CH3Y)2(X, Y=Cl, Br, I), Rh(SnCl3)[(C6H5)3P]3(X=Cl, Br, I), RhX(CO)[(C6H5)3Y]2(X=Cl, Br, I; Y=As, P, Sb), [Rh(CO)2X]2(X=Cl, Br, I), [R4Y][Rh(CO)2X]2(X=Cl, Br,I; R=C1-C12;Y=N,As,P),[R4Y]2[Rh(CO)X4](X=Cl, Br, I; R=C1-C12;Y=N,As,P),Rhx[(C6H5)3P]3(X=Cl,Br,I),Rhx[(C6H5)3P]H2(X=Cl,Br, I), Rhx[(C6H5)3P]3Rh(CO)H,Y4Rh2X2(SnX3)4(X=Cl, Br, I; Y=Li, Na, K)로 이루어진 군중에서 선택되는 것인 촉매.3. 제 1 항에 있어서, 상기 불활성 담체가 활성탄, 점토, 알루미나, 실리카-알루미나로 이루어진 군중에서 선택되는 것이 촉매.4. 제 1 항에 있어서, 상기 로듐 화합물이 불활성 담체의 양을 기준으로 하여 0.6 내지 5중량%의 로듐이 되는양으로 사용되는 것인 촉매.5. 제 1 항에 있어서, 상기 알카리 금속 또는 알카리 토금속이 로듐의 양을 기준으로 하여 200 내지 800몰%의양으로 사용되는 것인 촉매.6. 제 1 항에 있어서, 상기 전이 금속이 로듐의 양을 기준으로 하여 10 내지 500몰%의 양으로 사용되는 것인촉매.7. 촉매 존재하에 기상 메탄올과 일산화탄소를 반응시켜 아세트산을 제조하는 방법에 있어서, 촉매로서 제 1항 기재의 촉매로서 제 1 항 기재의 촉매를 사용하고, 할로겐 함유 화합물을 조촉매로서 함께 사용하여 상압 내지 97.3㎏/㎠(1,000psi)의 일산화탄소와 수소의 혼합 가스 압력하에 100˚ 내지 400℃의 온도에서 메탄올을 일산화탄소 및 수소의혼합 가스와 1 : 0.1 내지 1 : 100의 몰비로 반응시키는 것을 특징으로 하는 아세트산의 개선된 제조 방법.8. 제 7 항에 있어서, 일산화탄소와 수소의 혼합 가스 몰비가 1 : 0.01 내지 1 : 0.25인 것인 방법.9. 제 7 항에 있어서, 상기 할로겐 함유 화합물이 CH3I, CH3Br, CH3Cl, I2, Br2, Cl2, HI, HBr 및 HCl로 이루어진 군중에서 선택되는 것인 방법.10. 제 7 항에 있어서, 상기 기상 메탄올 카르보닐화 반응이 10.5 내지 21.1㎏/㎠(150 내지 300psi)의 압력하에 150 내지 300℃의 온도에서 메탄올과 혼합 가스를 1 : 0.5 내지 1 : 2.3의 몰비로 사용하여 수행되는 것인 방법
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화학공정 > 기타 화학공정
로듐 촉매를 사용하여 메탄올을 카르보닐화 시키는 반응공정에서 촉매를 재생 또는 교환하기 위해 반응공정을 장기간 중단시킴이 없이 연속적으로 초산을 생산할 수 있는 방법에 관한 것이다. [구성]로듐이 불활성 담체에 담지 되어 이루어진 촉매층에 기상 메탄올 카르보닐화 반응 중 추가적으로 로듐 금속 또는 로듐 화합물, 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 전이금속을 포함하는 활성 금속염 혼합물을 공급하여, 로듐 화합물의 양을 불활성 담체의 양을 기준으로 0.1내지 1,000몰%의 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 전이금속 화합물을 분말 형태 또는 이들을 유기 용매에 용해시킨다.1. 로듐이 불활성 담체에 담지되어 이루어진 기상 메탄올 카르보닐화 반응 촉매층에 반응중 추가적으로 로듐화합물 및 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 전이금속을 포함하는 활성 금속염 혼합물을 공급하여, 로듐 화합물의 양을불활성 담체의 양을 기준으로 0.1내지 20중량%(로듐 환산)로 유지시킴으로써 비균질계 기상 카르보닐화 반응용 촉매의 촉매수명 연장 방법.2. 제1항에 있어서, 카르보닐화 반응중 추가적으로 공급되는 상기 활성 금속염 혼합물은 로듐 화합물과 로듐의 양을 기준으로 1내지 1,000몰%의 알칼리금속, 알칼리 토금속 또는 전이금속 화합물을 물 또는 유기 용매에 용해시킨것임을 특징으로 하는 방법.3. 제1항에 있어서, 카르보닐화 반응중 추가적으로 공급되는 상기 활성 금속염 혼합물은 로듐 화합물 분말과로듐의 양을 기준으로 1내지 1,000몰%의 알칼리금속, 알칼리 토금속 또는 전이금속 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.4. 로듐 금속이 불활성 담체에 담지되어 이루어진 촉매층 위에 로듐금속 또는 로듐 화합물 분말과, 로듐의 양을 기준으로 1내지 1,000몰%의 알칼리금속, 알칼리 토금속 또는 전이금속 화합물 분말을 포함하는 활성 금속 혼합물을 적층함으로써 불활성 담체에 담지되어 있는 활성 금속이 반응공정중 촉매층으로부터 유출될 때 적층되어 있는 활성 금속 성분이 촉매층으로 스며들게 하는 것으로 이루어지는 비균질계 기상카르보닐화 반응용 촉매의 촉매수명 연장 방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 금속재료
본 발명은 내마모성 및 내식성이 우수한 밸브시트용 철계 소결합금에 과난 것으로 특히 LPG를 연료로 사용하여 운전되는 엔진의 내식성 및 내마모성이 뛰어난 내마모성 철계 소결합금에 관한것이다.본발명에 의한 LPG용 엔진의 밸브시트는 내마모성이 현저하게 증가되었으며 LPG를 연료로 사용하는 소형엔진의 밸브시트용 소재로 우수한 성능을 발휘하였다.
- 보유기관
- 대우종합기계
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 회토류 소결영구자석의 기계 가공시 발생되는 가공칩을 회수하여 재생 처리한 재생 컴파운드를 이용한 수지자석의 제조방법에 관한것이다.본발명은 가공칩을 회수하여 재생처리한 재생컴파운드를 이용하여 비교적 양호한 자성특서을 갖는 수지자석을 저가로 제조할 수 있으며 또한 산업 폐기물의 오염이 방지되고 종래의 수지자석에 비해 제조비용이 감소되는 효과를 갖는다.
- 보유기관
- 대우종합기계
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 금속재료
본 발명은 소결 밸브시트의 철계 소결합금 및 그 제조방밥에 관한것으로, 특히 납 성분이 없는 무연 가솔린 연료로 사용하여 운전되는 엔진의 밸브시트에 적합하도록 된 서결합금 및 그 제조방법에 관한것이다.본 발명을 적용하여 제작된 밸브시트는 무연 가솔린 엔진에서 시험해 본 결과 종래 방법으로 제작된 밸브시트에 비하여 내마모성이 개선되었으며 기계가공성 및 소결성도 양호한 것으로 판명되었다.
- 보유기관
- 대우종합기계
- 등록일
- 2000-12-15
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일반기술
재료 > 기타 금속재료
본 발명은 철계 소결합금과 그 제조방법에 관한것으로 특히, 가솔린, 디젤, LPG를 연료로 사용하여 작동되는 엔진의 밸브시트와 같이 고온 내마모성이 요구되는 기계부품을 제작하는데 적합한 철계 소결합금과 그 제조방법에 관한것이다.본 발명에 따른 철계 소결합금은 경량화, 고출력 및 고회전수가 요구되는 소형 가솔린 및 LPG엔진의 밸브 시트의 재료로 사용될 수 있을 정도로 충분한 내구성을 가지며 내마모성이 요구되는 다른 부품에도 적용이 가능하다.
- 보유기관
- 대우종합기계
- 등록일
- 2000-12-15
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