일반기술
화학공정 > 기타 촉매 기술
실험실용 순환 촉매 장치 CATACON-1.1C는 대기압 하에서 탄화 수소, 탄산기체, 공기분자산소를 가진 수소와 같은 다양한 기상 물질의 완전 산화용 고체 불균질 촉매의 일정한 촉매 활동의 속도 제어에 사용됨. CATACON-1.1C 는 새로운 촉매의 설계와 기존 촉매의 성능 제어에 있어서 매우 효과적이다Technical parameters: 1)일정한 반응 속도 조절 가능, cm3/s*g(cat): 10-5 - 101 2)일정한 반응의 속도 오차, rel.%; around 10 3)산화물의 공칭 농도, vol.%: 1, 4)유량계에 의한 공칭 고정 IRM 소비율, L/: 1.0, 2.0, 5.0, 10, 20, 50, 5)산화물 농도의 허용 범위, vol.%:0.05 - 0.95, 6)반응 온도 범위,oC:100 - 600 Reactor parameters: -재료: 스텐레스강, 테프론 -촉매 부피, ml:up to 40 -순환 펌프 용량(베드 압력차 0.01 MPa에서), L/h: 약 1000 Analyzer parameters: -형태: 열화학적 검출장치 -가스 운반체: 정제 공기 -산화 기체 농도의 동적 제어, vol.%: 0.02-2.0 -분석 시간, s: 약 20 크기, mm: 600*500*400 무게, kg: about 40
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- 배재대학교
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- 2002-04-02
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일반기술
화학공정 > 기타 촉매 기술
다양한 화학제품 제조를 위한 탄소계 범용 흡착제와 촉매재료가 제시됨. 흡착제, SIBUNIT는 의약, 식품생산, 생활 및 산업폐수의 정화, 그리고 비철금속의 제조등에 응용될 수 있다. SIBUNIT-계 촉매는 수소첨가, 물정화, 탈염소공정 등에서 높은 활성을 나타낸다. SIBUNIT 는 특히 산촉매, 황화물 촉매, 그리고 활성금속 촉매등의 담체로서 유용하다. 러시아에서 촉매는 상업적 규모로 생산, 소비되고 있다. 다양한 형태의 SIBUNIT 제조법과 물리 화학적 특성 제어방법이 러시아 및 국외특허로 보호되고 있다.SIBUNIT는 기체상 탄화수소로부터 얻어진 미소결정의 유사흑연질 탄소재료이다. 이것은 흑연의 장점(화학적 안정성, 전기 전도도)과 활성 탄소의 장점(기공의 큰 표면적, 높은 흡착능력)을 동시에 가지고 있다. 독특한 특징으로는 고강도, 화학적, 열적 안정성(1000 - 1500 OC까지), 고순도 등을 들 수 있다. 전형적인 물성 : -체적 밀도: 0.3-0.8 g/cm3 -비표면적:0.5-600 m2/g -총 기공 부피: 0.2-1.2 cm3/g -회분, 1.0 % 미만 SIBUNIT는 5-200 m의 분말상이나 직경 0.2-4 mm의 구형과립 (충격저항 3-50 MPa, 마찰저항 0.1-3 %/min)형으로 제공된다. 실린더, 튜브, 삼엽, 사엽, 허니컴 단미등으로 압출할 수도 있다.
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일반기술
전기·전자 > 계측기기
각종 산업부품(주물제품, 핀홀, 용접부, 접속부, 팩킹 등) 및 자동차부품(엔진, 트렌스미션)등의 누설여부를 테스트하는 장비누설 검사방법에는 아래와 같이 일반적으로 다섯가지 방법이 주로 사용된다. 1. 수몰방식에 의한 검사방법 2. 비눗물 도포방식에 의한 검사방법 3. U자관 수주 MANO METER에 의한 검사방법 4. 압력게이지에 의한 검사방법 5. 차압방식에 의한 검사방법본 기술은 이상의 다섯가지 방식 중 "5. 차압방식에 의한 검사방법"에 해당하는 방식으로 '전자동 / 높은 정도 / 높은 생산성' 의 특징을 가진다.
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- 2002-04-02
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일반기술
전기·전자 > 반도체 재료 (B63)
"Raduga-5"는 금속, 합금, 혼합체, 반금속, 고합금 반도체등 임의의 도전 재료의 이온 다발과 플라즈마 형성을 위해 고안되었다. Source 작동 원리는 금속 플라즈마와 높은 평균출력을 가진 금속 이온의 펼스형(주기적)이나 연속 전류 다발의 방향류의 뒤이은 방출을 수반하는 진공방전에 의한 플라즈마의 연속 발생에 근거하고 있다 "Raduga-5" 는 독립적이나 혹은 진공방전, 마그네트론 및 기타 플라즈마 발생장치와 결합하여 금속의 표면 특성을 조절에 이용될 수 있다. 이온빔의 펄스형 주기적 형성과 결합한 플라즈마 연속 발생 모드는 source를 다음과 같이 효과적으로 이용할 수 있게 해 준다 -다양한 코팅 증착 표면 준비 –고준위 농도를 가진 이온선 공정은 코팅과 기판간의 최적 일시층 생성 목적으로 모든 재료에 원자를 주입한다. -동적 이온 혼합 모드에서 코팅 생성 –코팅의 플라즈마 증착 고농도 주입 원자는 다른 종류의 코팅에 대한 최적 전이층을 생성할 목적으로 재료내에 서 이루어진다. 이온 조사 모드와 플라즈마 증착의 결합은 고준위의 부착력과 코팅속도를 달성하기 위하여 한가지 이상의 부가적인 진공 방전 플라즈마원의 이용하는것을 포함한다.Technical parameters: 연속 진공 방전 플라즈마의 발생 방법 -가속 전압 펄스의 진폭:40 kV -펄스에서 이온 전류의 진폭:up to 1 A -평균 이온 전류:up to 80 mA -이온빔의 평균 출력, kW:up to 3 고전류원의 변수는 다음과 같다:-아크 방전 전류 150 A -가속 전압 50 kV -가속 이온 에너지 150 keV -펄스 이온 전류 up 1 A -빔의 방출 단면적 200 cm2 -펄스 지속 시간 200/400 ms -펄스 반복 속도 200 s-1 -코팅 증착 속도 0.05 mm/min
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- 2002-04-02
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일반기술
기계 > 기타 산업·일반기계
도우넛 형 제품(슬리트 코일, 타이어, 전선 등)의 자동 포장 설비전자동높은 생산성
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- 2002-04-02
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일반기술
건설·교통 > 원격 탐사·측량 기술 (J71)
누출 검출기는 지하나 해저선 누출의 원격 검출과 파이프라인 내의 물체의 위치이동 제어를 목적으로 개발되었다.. 이 소자는 지진검출기와 함께 완성된다. 이것은 파이프라인 내를 움직이는 물체에 대해 제어모드 작업이 진행되면 들을 수 있게 하고 석유 파이프라인 위의 토양표면에 설치된 지진 검출기에 의해 위치 조절이 되도록 하며 제어 지점으로부터 1000m 혹은 그 이상 떨어져있는 지점에서 이동 물체가 접근해 오는 것을 찾아낸다. 파이프라인 축으로부터 50m 거리까지 모터의 이동을 등록하는 것도 가능하다. 작동 원리는 압력차가 존재하는 조건하에서 투명한 결함을 통한 액체나 기체의 유출에 의한 잡음을 등록하는 것에 근거한다. 표시기에는 유동 표시 장치의 도움을 받아 등록된다. 해저선의 모든 누출의 탐색은 무접촉으로 이루어지고(30 m까지); 지중 파이프라인에서는100-300 m 간격을 두고 접촉식으로 탐색한다. 소자의 문턱 감도는 (보정된 홈을 통한 물의 유속)시간당 8 - 25리터이다. 파이프 내어서 분실된 물체의 제어는 실시간 시계,디지탈 표시장치, 소리발생장치가 부착된 붙박이 장치에 의해 이루어진다.누출 검출기의 구성 음파 발생기, 지진계, 누출지시기, 자기홀더, 연결선. 장치 감도는 거리 50 m 누출 8-25 l/hour. 전체 크기: 전력공급장치를 포함한 표시장치 340x225x70 mm 음파발생기 30x30x295 mm 자기홀더 125x143x80 mm 지진계 55x55x115 mm 무게: 전력공급장치를 포함한 표시장치 4 kg 음파발생기 0.7 kg 자기홀더 0.22 kg 지진계 0.8 kg 유사제품 없음
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- 2002-04-02
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일반기술
기계 > 기타 산업·일반기계
고속탈수분리장치(하수처리, 화공, 식품, 제약, 환경, 광산)전자동높은 분리 효율
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- 2002-04-02
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
희귀금속 및 IV-VI족 내열금속과 레늄의 불화 공정의 물리 화학적인 근거에 대한 연구가 수행되었다. 또 가스 불화물 기술과 유기불화물 합성에 있어서 그 산업적 생산 및 응용 기술도 디자인 되었다.불화물 기술에서의 관심사항은 주어진 금속의 고불화물의 높은 활용 전망과 기존 기술과 비교할 때 필연적인 장점이다. 예를 들면, 내열금속의 육불화물은 분말을 얻는데 보편적으로 사용되고 있다. 바나듐족의 오불화물 합금원소첨가 기술이 초전도 합금이나 기상의수소환원법으로 얻는 초전도 합금 공정, 그리고 기타 응용에 적용되어 왔다. 불화물 처리 기술의 주된 장점은 산업 폐기물에서 순수한 금속 불화물을 생산할 수 있다는 것이다. 내열금속 폐기물을 이용한 불화물 재처리는 주기적작업이나 연속작업이 가능한 장치에서 원소 불소를 이용하여 150-600oC의 온도범위에서 대기압에서 행해진다. 예를 들어, 토륨으로부터 일단계 방법으로 텅스텐을 분리해내는 불화처리 기술이 토륨화 텅스텐의 폐기물 처리공정에 대하여 고안되었다.내열 금속의 불화물을 얻는 연속 작업 장치는 니켈계 합금 튜브이고 내부를 통한 고체, 기체 모두의 이동은 역류에 의해 실현된다. 장치 작동의 중요한 물리적인 원리는 기체의 상승류에서의 고체의 제한된 움직임이며 이는 반응물의 주입 속도를 변화시키면 모든 밀도의 고체의 불화공정을 완료시키기에 충분하다. 이 장치에서 불화처리 공정은 연속적이고 쉽게 자동화될 수 있다. 이 설비는 IV, V, VI족 원소와 레늄의 휘발성 할로겐 화합물의 합성에 이용할 수 있고 또 유기 불화물의 합성에도 이용된다. 이외에도 이 장치는 기상 반응물로부터 분말의 할로겐화 공정과 산화이 연결된 많은 공정에 이용될 수 있다. 주어진 장치를 조합한 폐가스의 응축계와 흡착 정제계도 제시되어 있다. 금속이나 산화물분말로부터 내열금속의 휘발성 불화물을 생산하는 수직형 설비의 설치는 최대 투입량 1 kg/hour을 처리할 수 있다. 이 설비에서 불화처리는 좁아진 입사의 조건에서 일어난다. 기상 반응물의 초과량은 화학양론적인 값에서 15%정도된다. 불화물의 응축후의 최종 포집 및 배가스 정화 단계에서 유사한 설비를 이용하면 불소 이용도를 99%까지 증가시킬 수 있다. 개발된 공정도와 기계 설계는 산업적인 실험단계를 통과하였고 시베리아 화학 산업 단지에 적용되고 있다..Technical parameters:대기압하에서 작동 50 - 600oC의 온도 범위에서 작업가능. 전체 크기 : 장치의 직경과 길이는 생산량에 따라 결정됨 Analogs, technical and economical advantages to compare with analogs:비등층 장치와 유사함. 이경우 비등층의 생성과 지지를 위해서 반응영역에서의 기체의 응축과 가압이 필요하다. 비등층 장치이외에 고상의 조성을 분산시킬 필요가 있고 분말의 부피밀도를 알아야한다. 그러나 제시된 장치는 반응 부에서의 압축 상태와 가스 가압을 필요로 하지 않는다. 이는 다중 분산 조성과 서로 다른 밀도를 가진 분말의 사용이 가능하게 한다.이외에도 내열 금속(몰리브덴, 텅스텐, 레늄)의 관례적인 폐기물 재처리법은 다단계이고, 많은 조작과 설비를 사용하여야 한다. 그러나 제시된 불화물 처리 기술은 고순도의 불화물과 이로부터 고순도의 금속을 얻는데 단지 세 단계의 조작만으로도 가능하다.
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- 배재대학교
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- 2002-04-02
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
최근 판유리의 열손실을 최소화하기위한 광학적 특성, 특히 특수 플라즈마 코팅에 의한 투명도 선택성의 조절이 선진국에서 광범위하게 이용되고 있다. 그러나 디자인, 생산, 기술적인 면에서의 의문점이 아직까지도 충분히 해결되지 못하고 있다. 톰스크대학 연구진이 재료의 광학적 특성을 조절하는 기술과 장치를 개발하였다.동시에, 박막, 코팅 속도, 광학적 특성, 막과 기판간의 부착등에 대한 분석이 동시에 병행되어. 산화물, 질화물, 산질화물 막을 얻는 거의 최적 코팅 모드와 증착법이 개발되었다. 분석에 의하면 마그네트론 스퍼터링 시스템은 제조가 용이하고 파워가 높기 때문에 이 목적에 아주 적합하다. 재료의 이온 플라즈마 공정이 폭넓은 범위에서 나타났다. 입자를 사용함에 있어서 공정을 제어하는 중요한 부분은 1000 eV를 넘지 않는 에너지이다. 주된 장점은 고에너지 입자를 이용한 조절 예를 들어 이온 주입시에 나타나는 엄청난 생산성을 가진 장비를 제공하는 능력을 가지고 있다는 것이다. 다른 유형의 저에너지원을 이용하는 기술적인 가능성에 대한 분석에 따르면, 희박기체 매질에서의 교차 전자기장을 가진 다이오드(보통 마그네트론이라 불림)가 전망이 매우 밝다는 것을 보여주고 있다. 일련의 설비는 판유리 위에 조절용 코팅을 석출시키기 위해 설계되었다. 설비는 다수의 유리 공장에서 성공적으로 작동되고 있으며 거울과 토너용 유리의 상업적인 생산이 가능한 정도의 상태를 보이고 있다.공업용 및 가정용 거울이나 , 판유리상에 토너용 코팅의 최적 분사 모드가 밝혀졌다. 유리 표면, 플라스틱, 세라믹 상에 금속, 산화물, 질화물, 산질화물 층을 만드는 원리가 구상되었다. 적외선 영역에서 반사계수가 90%까지 이르는 단단한 열절약 코팅을 얻는 윈리도 구상되었다.이 기술은 다음과 같이 이용할 수 있다.1.착색 판유리 생산 2.열 절약 유리 생산 3.산업용, 가정용 거울 생산 4.폴리머 필름 상에 광학 조절 코팅 5.유전체 표면에 도전성 코팅플랜트는 판유리 착색과 거울 제조를 위한 것이다. 그 구별되는 특징은 공간의 중앙에 수직으로 위치한 고정장치 시스템과 함께 공급된다는 것이다. “Amethyst” 플랜트와는 다르게 “Amethyst-3” 시스템은 두 개의 이동 평면 마그네트론이 있어서 플랜트의 성능이 향상되었다는 것이다.Technical parameters:공정 가능 최대 치수, m: 1.3´1.6 (2.08 m2)샘플 처리량, units: 2 (Amethyst), 4 (Amethyst-3)코팅…………………………………………….……비자성금속과 그 산화물, 질화물증착 속도 (stainless steel target), mm/s: 1.0×10-3성능: m2/hour:6 (Amethyst), 16 (Amethyst-3)최대 전력 소비량, kW:20 (Amethyst),22 (Amethyst-3)작업 표면 온도, °C: 30-100 "Jashma” 유니트는 기술개발이나 prototype 생산을 위해 개발된 마그네트론 스퍼터링 시스템 중 가장 최신형의 완벽한 것이다. 이것의 가장 중요한 특징은 다음과 같은 작업 효율을 제공한다는 것이다.•디스크 형 유동형 혹은 고정 연장형 마그네트론을 이용한 코팅•가스 이온 주입•이온 촉진 코팅
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- 2002-04-02
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일반기술
전기·전자 > 소자응용 기술
정보 발생량 제어시 이전 블록에 대한 버퍼점 유도와 현재 블록에 대한 발생량을 예측한 값을 이용하여 정보 발생량을 조절하기 위한 부호화장치영상의 급격한 변와에 따른 화질저하를 막을 수 있고 영상 내용 변하에 따른 버퍼점 유도의 변동폭이 줄어드는 효과를 얻을 수 있다.
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- 고등기술연구원연구조합(사)
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
재료 > 섬유·고무·페인트재료
케이블과 전선에 사용되는 고분자 절연체(폴리아미드, 폴리에틸렌) 의 방사 변형 - 전자를 방사하면 선형의 분자사이에 결합이 형성되며 삼차원적이고 공간적인 구조가 형성되며 분자의 분자량이 증가한다. 이로인해 고분자의 융점이 상승하며 금이가는 것을 방지 할 수 있다. 그리고 전기적인 특성이 10배나 증가한다.고무로 만든 전자 기계적인 생산품의 방사 가황 - 한편으로는 공정의 시간을 매우 단축 시킬 수 있으며(10시간에서 15분으로), 다른 한편으로는 황을 넣지 않은 채 가황 공정을 진행 할 수 있다. 게다가, 일반적인 고무와 비교해서 방사 고무는 노화와 변형에 더욱 강하며 더 좋은 열적 안정성을 보여 준다.매우 강한 세라믹을 생산하기 위한 방사-열처리 기술 - 세라믹은 틀을 만드는데 사용된다(케이블 산업에서 드로우잉 형틀로 사용). 세라믹으로 만들어진 형틀은 “시브카벨”에서 시험되었으며, 합금과 비교해 보았을 때, 더 나은 마모 저항성과 KIC=20.5MPam1/2값을 보이며 크랙 저항성을 보여 주었다. 게다가, 세라믹은 2배나3배정도 값이 싸다. 고체 유전체에서 방사 유도에 의한 전하의 특성 분석과 중화 방법 - 이 공정은 방사 변형에서 명확하게 문제를 일으키고 있으며 방사되는 물질에 과량의 전하가 축척되어 내부의 파열을 가져올 수 있다. 러시아의 중요 기업들(응용 역학의 사이언티픽 프로덕션 아말감매이션(SPA), “토성” SPA) 의 순서에 따라서, 구조 물질과 우주에서 사용되는 방사 장비(케이블 장비 포함)에 요소들의 지상 평가를 실시해, 방사 효과, 급격한 온도변화, 강한 빛에 대한 저항성을 점검했다. 궤도상에서 더 오래 사용할 수 있는 새로운 인공위성의 개발을 위해 매우 필요한 기술이다. 실시된 모든 조사는 실험실에 있는 장비를 사용해 시행했다(• 선형 전자 가속기”ALU-4”(Ee= 4MeV, Pbeam = 4.0 KW)• 구조물로 사용되는 유전물질과 우주 항공에 사용하는 요소와 연결 부분을 검사하기 위해 실험 조건을 외부 우주의 조건과 비슷하게 했다 : 진공(10-6 torr), 가속 전자(Ee=150 KeV), protons(Ep=30 KeV), 저온 수소 플라즈마(Tpl=4K), 햇볕(스펙트럼 A0), 저온 T=100 K)물질의 방사 처리 실험을 오랫동안 실행한 결과, 실험실의 구성원들은 첫째, 공업적인 방사-화학 기술을 개발 할 수 있었다. 둘째, 이러한 공정에 적합한 공업적 생산장비를 설계할 수 있었다.
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- 배재대학교
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
전기·전자 > 소자응용 기술
부호화된 데이터를 일정한 속도로 전송하는 버퍼의 점유도와 부호화된 데이터의 발생량에 따라 적응적으로 양자화가 이루어지는 영상데이타 부호화 장치기존에 비해 양자화 스텝사이즈 파라미터를 미세하게 조절할 수 있어, 보다 효율적인 부호화를 기대할 수 있다.
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- 고등기술연구원연구조합(사)
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
전기·전자 > 소자응용 기술
PC 영상전송장치에 있어서 공통적으로 사용되는 영상 부호와/복호화부에 있어서, 영상 부호화/복호화부를 통한 버스의 제어구조를 변경하여 영상전송장치에서 많이 사용되는 자동응답 기능의 구현과 응용을 용이하게 할 수 있는 PC(Personnal Computer)영상전송장치의 자동응답회로 및 그 신호처리방법PC의 프로그램상에 자동응답기능이나 영상의 저장 및 재생등의 각 기능에 따른 판단 및 분기등의 프로그램생성이 증가되는 문제점을 해소할 뿐만 아니라 프로그램상에 각 버스의 관리로 인한 PC 자체의 부하가 커지게 되는 문제점을 해결하고 나아가 자동응답기능의 구현과 응용에 일조할 수 있도록 한다.
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- 고등기술연구원연구조합(사)
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
회전성형공법을 이용한 화학 기기장치, 배관재,부속품 등의 내부를 내식용 재료(ETFE,PP,PE)로 피 LINING물 내부에 원료를 투입, 고정시키고 밀폐된 성형로에서 적정 온도로 가열, 회전(자전,공전)시켜 내부를 LINING 시키는 성형공법으로 특히 SEESAW TYPE의 회정성형기는 당사가 벤처기업으로 인정받은 기술임화학 기기장치, 배관재, 부속품 등을 회전성형공법으로 내부 LINING 한 제품은1)라이닝 두께, 조절이 용이하며2)이읍매가 없는 고품질의 제품을 얻을 수 있으며3)밀착감도가 높아 진공 부분에의 적용이 가능하며4)잔류물력에 의한 왜곡현상이 적으며5)복잡한 형상의 구조물 내부의 LINING이 가능하고6)납기가 단축되며(특히 대형 장치물)7)TOTAL COST가 절감됨
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- 부산기술이전센터
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
본 장비는 천연 광물 원료의 분급, 분쇄 및 활성화, 고체 혼합물의 현탁액 제조시의 균질화, 세라믹 생산을 위한 원료 재료의 제조 등에 광범위하게 활용가능하며 분쇄성능이 우수한 분쇄 장치임. 용량이 50 에서 5000 kg/h인 연속형이며, 진동에너지에 원심 가속력을 추가로 가하여 분쇄 성능을 향상시킨 장치임. 고 에너지 응력과 수명이 긴 것이 장점 분체 기술에서 광범위하게 응용 가능한 장치임.Main technical characteristics:-작업 범위:연속 혹은 단속 -입력, kW:5-30 -분쇄 작업 드럼의 수:1-2 -드럼의 부피, l:1.2-50 -연속 작업시 드럼당 생산능력, kg/h:5-2500 -작업 가능한 입자의 크기,mm:less than 7-20 -분쇄체의 원심 가속력, m/s2 :up to 100 -작업후 출구에서의 입자 크기,석영의 경우,mcm:less than 20
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- 배재대학교
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
분쇄의 신기술과 고체의 활성화 기술을 공급함. 세라믹 미분쇄(0.1-1.0 microns), 건조 재료와 현탁액의 혼합과 균질화, 그리고 신물질의 기계화학적 합성, 기계적 합금화 등에 응용 가능한 일련의 유성밀 활성체(AGO-2, AGO-3, AGO-5)를 개발하였다.첨부한 화일 자료 참조
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- 배재대학교
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
기존의 연마 다이아몬드 분말 제조 기술은 동일한 입자를 갖는 가루를 만들기 위해 분말 가루를 분쇄하고 그 일부를 분리하여 일정한 입자로 만드는 방법이다. 본 기술진이 제안한 공정 기술은 회전 타원기(ovalizer)를 이용한다. 이로 인한 결과물로 얻어진 다이아몬드 분말은 그 주요 성분이 훨씬 뛰어나다. 사용되는 타원기들은 단순하며, 신뢰성이 높고, 투자의 효율성, 환경친화적인 저연료 생산, 기존 기술의 향상 등으로 양질의 제품을 생산하는데 유용하다.동일 크기 입자 함량은 85-90% 증가. 무결함 입자가 가질 수 있는 정도의 정적 강도 계수. 공정에 적합하도록 입자의 표면이 깨끗하다(극소 거칠기). 좋은 유동성과 높은 비중을 가질 수 있는 분말 준비 처리
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- 배재대학교
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
재료 > 기타 금속재료
다단의 Formaing roller로 구성된 공정을 이용하여 평탄 상태의 소재가 움직이면서 입력의 형상으로 성형하는 기법으로 초고장력 강판을 적용하여 초경량 고안전 자동차용 bumper beam을 제조하는 기술1)Roll flower 자동설계2)3-roll bender에 의한 곡률 성형3)Bumper beam의 요구 길이 자동 설정 및 절단4)연속 생산시스템
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- 부산기술이전센터
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
보건·의료 > 의약품 제제 개발 기술
다목적 세라믹스나 높은 치료능력을 가진 Bi계 의약품을 제조하기 위한 고순도, 반응성 Bi 화합물을 합성하는 최신 기계-화학적 접근 방법이 개발되었다. 순도가 낮은 금속으로부터 Bi를 효과적으로 정제하기 위한 문제는 질산염 용액의 가수분해반응에 의해 해결되었다. 일반적인 물성을 가지는 폭넓은 범위의 Bi의 고순도 무기 및 유기 염과 착산화물이 얻어졌다.-Bismuth oxide, Bi2O3, 금속불순물 함량 < 5.10-5 mol % -Bismuth nitrate와 Basic Bismuth nitrate, Bi(NO3)3 and [Bi6O5(OH)3](NO3)5 -Bismuth oxo-carbonate, Bi2O2CO3, 음이온 불순물 함량 < 1.10-4 mol% -Bismuth oxo-chloride, BiOCl, 비표면적 (m2 /g): from 0.6 to 4.4 -Bismuth hydroxo-chromate, Bi(OH)CrO4, 비표면적 (m2 /g): from 0.6 to 4.4 -Bismuth citrate, BiC6 H5O7, 비표면적 (m2 /g): from 0.6 to 4.4 -Complex bismuth oxides (Bi2CuO4, Bi4Ge3O12, Bi2GeO20, Bi2Mo3O12, BiVO4, Bi4Ti3O12 and etc.) 비표면적 (m2 /g): from 0.6 to 4.4
- 보유기관
- 배재대학교
- 등록일
- 2002-04-02
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일반기술
기계 > 용접·조립 기술
독창적인 저온 접합물 조성이 제시됨. 접합물 조성의 제조 기술은 간단하다. 성분 (액상과 분말) 은 마노 유발에 넣어서 서로 혼합한다. 보통 1분이내에 분말이 액상에 완전히 젖게 된다. 이것으로 접합물 반죽 완성됨.Major characteristics of cold solders:사용 가능 온도 범위: 150-400oC (조성에 따라); 25oC에서 경화시간: 약 8-24 h (조성에 따라);밀도: 6-7 g/cm3 표준 조건에서의 비저항: 10-20 cm (조성에 따라) 이는 순수한 금속의 비저항과 유사함. Advantages: -70 to +200oC의 온도 범위에서 금속 수준의 전도도제조와 사용의 간편성낮은 접합 온도넓은 응용 범위융제 불사용
- 보유기관
- 배재대학교
- 등록일
- 2002-04-02
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