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일반기술 물리학 > 기타 광학

천연가스의 구성물 관리를 위한 라만 분광계

상용 천연가스 유통 시스템에서 복잡한 다중성분 기체의 구성물과 물리적 파라미터를 판단하기 위한 로만 분광기를 이용한 분석장치가 설계되었다. 오늘날 수많은 장치가 천연가스의 구성물과 물리적 파라미터(밀도, 칼로리, 습도)를 분석하는데 사용된다. 예를 들면, 다중성분 기체 크로마토그래피(또는 여러 일렬 크로마토그래피), 습도계, 황화수소를 검출하기 위한 화학 실험실 따위가 있다. 이들을 통해서 상용 유통 시스템에서 천연가스를 분석하면 오래 걸리고 복잡하다. 지금 개발하고 있는 레이저 분석기는 위의 모든 장치들을 대신할 수 있는 장치가 될 것이다. 이 장치는 유통되는 천연가스의 품질관리 실질적으로 보장해 줄 것이다(측정시간이 20분). 이 새로운 장치는 완전히 자동으로 작동하며, 원하는 분석내용을 제공하고 정확한 측정감도를 가지고 있다.기체 구성물과 소비량을 측정하는 상용 시스템은 기체, 기름, 화학공업에서 온라인 기체 관리에 사용할 수 있을 것이다.

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특허법인충정
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2000-04-24
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일반기술 물리학 > 기타 광학

헤테로상 처리의 “IN SITU” 조절을 위한 레이저 종합시설

우리는 “기체-고체” 형태나 “액체-고체” 형태의 헤테로상 처리를 조절하기 위한 광범위 “IN SITU” 레이저 종합시설을 제안한다. 이 종합시설은 동시에 고체표면 원소, 상태 구성, 그 고체와 상호작용하는 기체(액체) 매체의 구성 등에 대한 온라인 제어를 제공한다. 오늘날 이용되고 있는 방법은 처리 비용이 높아 도입기간이 길어야 한다. 게다가, 자원 시험 기간이 길기 때문에 헤테로 상태의 시스템에서 일어나는 반응 과정의 메커니즘을 빠른 속도로 묘사할 수 없다. 주어진 새로운 개발 방법은 레이저 분광계(즉, 방사선 분석과 로만 분광계)에 대한 여러 가지 시험된 방법을 결합한 것이다. 주어진 종합시설은 레이저 분석에서 전문성을 가지고 있으므로 위의 결점이 없다. 이 종합시설을 이용하면 사전 표본 선택 과정 없이 작동 중에 직접 헤테로상의 처리를 제어할 수 있다. 종합시설은 새로운 기술 및 물질의 개발에 응용할 수 있을 뿐 아니라, 외부의 물리화학적 처리에도 사용할 수 있다. 즉, 기술적 파라미터의 원격 제어가 필요할 때(전기공학, 화학공업, 야금학, 엔진제조 등)는 언제나 사용할 수 있는 것이다.

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특허법인충정
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2000-04-24
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광학 펄스 반복 주파수 표준

프로젝트 개요 - 본 프로젝트의 목적은 높은 순환주파수 안정성(주파수 반복 안정성을 갖는 발전기 쇼트 광학 펄스)과 동시에, 폐쇄 루프 내 단상 쇼트 광학 펄스의 감쇄되지 않은 순환을 유지시켜 주는 특성을 갖는 새로운 기기를 개발 및 연구하려는 것이다. 개발된 장치는 최신식 광학 통신 채널 등을 연구하기 위한 리퍼런스 측정기기로 이용할 수 있다. 기술적 접근 및 방법론 - 본 프로젝트는 Sia “Isari”로 작성된(1970년대 초기에), 폐쇄 루프 내 단상 쇼트 광학 펄스의 감쇄되지 않은 순환을 유지시켜 주는 광학기기의 제작에 관한 제안서에 기초하고 있다. 뒤에 가서 “Izmeritelnaya Technika”, 1997, No. 8, p.p./ 38-41에 본 프로젝트 및 기타 제안의 기초가 된 러시아어판 논문 “광학순환장치와 그 측정기법의 가능성”(Danelyan A.G., Garibashvili D.I., Kartvelishvili K.Z., Danelyan V.A.)이 발표되었다.양자전자공학 및 광학섬유공학 분야의 새로운 컴포넌트를 개발 하거나 그 성능을 검사할 때 사용되는 서비스용 기기(캘리브레이터); 광학 통신 시스템; 기상학 분야에서 광학 펄스 주파수 반복 표준으로 이용; 기타.

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특허법인충정
등록일
2000-04-24
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일반기술 물리학 > 기타 광학

파장 분할다중된 광 신호의 파장, 광 세기와 광 신호대잡음비를 측정하는 장치

본 발명은 자연방출광 판별신호와 대역통과 광 가변필터를 사용하여 파장 분할 다중 방식의 광통신 시스템에서 파장 분할 다중된 광신호의 파장과 광 세기와 광신호 대 잡음비(optical signal-to-noise ratio)를 측정하는 장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명은, 파장 분할 다중된 광신호 중 일부분을 분기하는 분기수단과, 상기 분기수단에서 분기되지 않은 파장 분할 다중된 광신호를 증폭하여 자연방출광과 함께 출력하는 광 증폭수단, 특정 파장의 상기 자연방출광을 반사하여 자연방출광 판별신호를 출력하는 반사수단, 광신호를 한 방향으로만 진행시켜 광섬유에서의 레일레이(Rayleigh) 산란이나 불연속 점에서의 광신호 반사에 의하여 측정에 오류가 발생하는 것을 막는 광 고립기(optical isolator), 투과 파장이 제어신호에 따라 가변되어 상기 분기수단에서 분기된 파장 분할 다중된 광신호와 상기 자연방출광 판별신호가 합쳐진 광 스펙트럼을 출력하는 대역통과 광 가변필터, 상기 제어신호를 상기 대역통과 광 가변필터에 제공하는 제어신호 발생기, 상기 대역통과 광 가변필터에서 출력되는 광 스펙트럼을 전기신호로 변환하는 광/전 변환수단, 및 상기 광/전 변환수단으로부터 출력되는 상기 전기신호와 상기 제어신호 발생기로부터 상기 제어신호를 이용하여 광신호의 파장과 광 세기와 광신호 대 잡음비를 계산하는 신호 처리기를 포함한다.

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한국과학기술원
등록일
2000-04-24
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일반기술 물리학 > 기타 광학

모아레방법에 의한 초고속 삼차원 디지타이징 기술

본 기술은 측정대상의 기하학적 3차원 형상을 영사식모아레법을 이용하여 측정하는 것이다. 디지털 영상처리기술을 응용하여 고속정밀측정이 가능하고, 동전과 같은 미세한 물체에서 인체와 같이 큰 물체에 이르기까지 다양한 측정영역을 가지는 장점이 있다.측정원리인 영사식모아레법은 측정물체 위에 직선격자를 투영하고 형상에 따라 변형된 격자의 상을 다시 기준직선격자 위에 겹쳐봄으로써 높이정보인 모아레무늬를 얻고, 모아레무늬의 해석을 위해서 위상천이법을 적용하여 측정분해능을 향상시켰다. 그리고, 모아레무늬를 형성 획득하는 광학계가 독립적으로 존재하고 있기 때문에 측정물체의 크기에 유연하게 대처할 수 있다. 또한, 미세형상에 대한 3차원측정의 경우 고배율광학계의 사용으로 인해 발생하는 모아레무늬 이외의 격자성분 및 각종 우연오차의 제거를 수행하는 동시에 모아레무늬 위상천이를 구현하는 기술을 개발하여 고정도 고속 측정기술을 구현하였다.본 측정시스템에서는, 정확한 위상천이를 구현하는 위상천이격자를 새로이 제안하여 실제측정을 통해 그 효율성을 입증하였고, 성능면에서 측정영역대비 0.1%의 측정반복능을 가지고 5000 point/sec의 고속측정을 수행한다.

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한국과학기술원
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

홀로그래피를 이용한 분무입자의 직경 및 속도의 측정

운동상태 입자의 크기 및 속도를 측정하기 위한 광학적 측정 시스템은, LDV, PDPA 등의 점계측 측정장비를 비롯한, 2차원 유동장의 속도 분포 및 유동 패턴에 대한 해석이 가능한 PIV의 개발까지 날로 발전되어 가고 있다. 최근에는, PIV 시스템의 2차원적인 제한성을 해결할 수 있는 방법으로써, HPIV(Holographic Particle Image Velocimetry) 시스템의 잠재적 가능성에 대한 많은 연구가 진행되고 있다. HPIV 시스템은 두 펄스에 의한 입자 이미지를 3차원적으로 기록, 입자의 3차원 속도 성분까지 측정함으로써, 유동장의 3차원적인 해석이 가능한 시스템이다. 이외에도, 해석 대상 유동장을 등배로 기록하더라도, 기록 후 어느 때라도, 다양한 광학적 확대 도구를 이용, 이미지를 해석할 수 있는 장점도 있다. 본 연구에서는 입자의 크기 및 속도 측정을 위한, 새로운 이 기준광 이중 펄스 홀로그래피 시스템을 개발하였다. 이 시스템은 기준광이 한 방향인 기존의 홀로그래피 시스템과는 다르게, 빛의 편광 성질을 이용하여 두 방향의 기준광을 이용함으로써, 첫 번째 펄스에 의한 입자 이미지와 두 번째 펄스에 의한 입자 이미지를 분리할 수 있는 특징을 가지고 있다. 따라서, 각 펄스에 대한 이미지를 완전히 분리시킴으로써, 중첩에 의한 복잡성, 속도 방향 판별의 어려움 등을 해소시킨 시스템이라고 볼 수 있다. 개발된 홀로그래피 시스템의 효용성 검증을 목적으로, 충돌하는 두 액주(liquid jet)에 의하여 형성되는 분무(spray) 중, 액적(droplet)의 크기 및 속도를 측정하였다. 이러한 형식의 미립화 노즐은 로켓 엔진에서 많이 사용되고 있는 충돌 제트 인젝터(impinging-jet injecter)로써, 고속의 두 액주가 서로 충돌하면서, 그 충돌의 힘에 의하여 액체를 미립화시키는 노즐이다. 충돌 젯트에 의하여 형성되는 분무는, 파동적인 특징을 뚜렷하게 보였으며, 분사 각도가 클수록, 액주 속도가 빠를수록, 오리피스 직경이 작을수록, 크기는 작고, 빠른 액적이 생성되었다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

광학기술을 이용한 정밀측정 및 검사자동화

레이져를 이용한 광간섭 측정기술은 고체나 열, 유체뿐아니라 초고속 항공공학 분야에서도 널리 이용되고 있다. 광학기술의 주요 장점은 점 측정이 아니고 대상물 전체에 대한 측정 데이터를 추출할수 있는 면측정이고, 비접촉 측정이며, 또 고해상도의 필름이나 CCD 카메라를 이용하여 레이져 광원 파장의 1/100정도까지 구현할수 있는 초정밀 측정이 가능한 것이다. 본 광학 실험실에서 광간섭 기술을 이용하여 측정할수 있는 변수들은 변위, 온도, 압력, 밀도, 진동패턴, 입자속도등으로 이를 위하여 힐륨-니온, 아르곤-이온, 다이오드 및 CO2 레이져를 비롯하여 각종 미터기 및 광학 부품들을 구비하고 있다. 각 변수들을 올바르게 측정하기 위해서는 그에 적합한 광계측 시스템의 구축과 측정 결과로 얻어지는 간섭무늬 이미지에 대한 해석이 필수적인데, 본 광학 실험실은 홀로그래픽 간섭계 주축으로 위상전위, 트윈만-그린, 피죠, 마크-젠다 간섭계등의 구축에 대한 여러 가지 노하우를 가지고 있으며 간섭이미지 해석을 위한 여러가지 실시간용 프로그램을 개발해 놓고 있다. 검사자동화는 이러한 측정기술을 바탕으로 본 실험실이 속해 있는 자동화 공학과의 중심기술인 센서, PLC, 로봇응용 기술등과 함께 구현할 수 있다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

광학창과 컴퓨터 비젼을 이용한 미소형상 측정 시스템

근래에 들어, 많은 과학 분야와 공학 분야에서 3차원 미소 형상 측정의 응용이 활발히 진행되고 있다. 특히, 공학 분야에서는 마모, 마찰, 윤활, 피로, 실링, 광학적 성질 등의 분야에서 표면 형상의 크기, 패턴 등이 작용의 정도를 크게 지배하고 있는 것으로 밝혀지면서 측정의 필요성이 더욱 대두되고 있다. 본 연구에서는 빛의 번짐을 이용하여 깊이를 측정하는 알고리즘을 개발하였다. 빛의 번짐을 이용한 깊이의 측정은 조명과 광학계 사이에 광학창을 부착하여, 신뢰성과 정밀도를 확보하였으며, 단순한 측정 환경을 가지는 측정 시스템을 개발하였다. 깊이 측정 시스템과 2차원 측정 시스템을 통합하여, 범용 미소 형상 측정 시스템을 개발하였으며, 이를 반도체 웨이퍼의 표면 검사에 응용하여, 성능을 입증하였다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

인공지능과 이미지 프로세싱을 이용한 광학이미지 자동해석

레이저를 이용한 광간섭 계측기로부터 나오는 영상이미지는 종종 복잡한 간섭 띠무늬패턴(fringe pattern)으로 구성되어 있을뿐만 아니라 심한 잡음이 중첩되어 있어 단순한 이미지프로세싱 프로그램으로는 해석이 용이치 않으며 많은 수작업이 필요하다. 이러한 이유로 이제까지 실시간 해석이 요구되는 자동화 측정 및 검사에 널리 응용되지 못하고 있다. 현재 사용되고있는 해석 방법 중에는 간섭 띠무늬 추적, 위상 전이, 퓨리에 변환, 회기분석등이 있는데 이들 모두가 국부적인 영상 정보에만 의존하는 알고리즘적인 프로그램이기 때문에 잡음의 크기가 크거나 심하여서 간섭 띠무늬패턴이 왜곡될 경우 이를 처리 못하고 있다. 이러한 경우는 사실상 이미지프로세싱의 문제가 아니라 전체적인 간섭 띠무늬패턴을 다루어야 하는 이미지이해(image understanding)의 문제이다. 이를 위해서는 인공지능(artificial intelligence)과의 접목이 필요하며 인공지능 중에서도 전문가시스템이나 신경망회로가 적합하다. 잡음이 많은 광간섭 이미지 해석의 최적의 방법은 이미지 프로세싱으로 필터링, 영상분할 및 형상추출등으로 이미지를 향상시켜 인공지능 시스템의 입력데이타를 만들고 전문가시스템이나 신경망회로에서는 이미지프로세싱 단계에서 처리못한 잡음들을 제거하여 최종의 위상데이타 즉 실제적인 변위, 온도, 압력등의 값으로 얻어내는 것이다. 즉 알고리즘적인 이미지 프로세싱과 인공지능 시스템이 동시에 구현되는 고속 전이처리 (hybrid processing) 시스템의 개발이 필요하다. 본 광학 실험실에서는 이를 위한 패키지 프로그램을 개발해 놓고 있으며, 실제 상황에 따라 수정 및 친숙화(customization) 작업을 수행하고 있다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

전자처리 스페클 패턴간섭법을 이용한 구조물해석의 비접촉 변형계측 자동화시스템

어떤 물체에 외부 환경적으로 압력이나 열을 가감하게 되면, 그 물체는 구조적인 변형을 가진다.흔히 그러한 물체를 구성하는 물질의 탄성이나 점성을 측정하여 그 물질의 특성을 알아야 그 물체에 어떤 힘이나 열을 주며 형성되는 역학적 관계를 분석할 수 있는 것은 잘 알려진 사실이다. 주로 실용화되어 사용하는 측정 방법이 스트레인 게이지 방법이나 내열 격자를 이용하는 모아레법 정도이다. 그런데 새로운 재질들이 우주항공산업이나 원자력 압력용기 등의 매우 열악한 초고운 상태에서 사용되고자 하면서, 근래까지의 변위 측정 방법으로는 초고온 상태에서의 계측이 불가능해 졌다. 따라서 초고온 상태에서의 변위 또는 진동 측정 기술의 개발이 새로운 차원에서 재검토 되었고, 광학적인 빛의 간섭 현상을 과학적으로 응용하게 되었다. 최근에 그 새로운 광학기술들이 소개되고 있는 것이 주로 두 가지가 있는데 그 중 하나가 ESPI(Electronic Speckle Pattern Interferometry, 전자반점 형상간섭법)으로서 레이저 광선이 광학적으로 거친 표면으로부터 반사될 때에 형성되는 매우 불규칙한 빛의 세기의 분포인 스패클을 분석함으로서 물체의 변형 또는 진동상태를 측정하는 간섭계이다. 변형과 진동의 측정은 그 자체로도 물성 측정의 기본이 되는 측정일 뿐만 아니라 회로기판, 타이어, 스피커 등과 같은 다양한 공산품의 품질 검사와 터빈 날개, 복합 판재 등과 같은 구조물의 결함검출과 같이 다양한 분야에 응용될 수 있는 측정이다. 레이저를 광원으로 하는 반점 간섭법과 사진법에서 얻어지는 정보는 Young 줄무늬같은 화상 자료로 나타난다. 측정하고자 하는 물체의 표면에서 반사 내지 산란되며 형성되는 반점들은 매우 불규칙한 분포를 가지면서도 어떤 일정한 형상의 분포를 표출시킨다. 이 연구의 주요 핵심은 이 화상화된 반점 형상을 어떤 방법으로 처리하여야 가장 분명한 화상 정보를 추출할 수 있는 가를 알아내는 것이다. 이와 같은 목표를 위해 위상 이동법이나 최적 화상 계측 기법 등이 연구 개발되고자 한다. 따라서 광학 응용 기술의 연구 발전으로 외국에 대한 기술적 우위를 확보하고, 나아가 산업 현장으로의 실용화를 위해 국가 정책적으로도 매우 시급한 연구 분야라 할 수 있다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

화상처리를 이용한 난류유동의 속도장 측정기법

유체 particle들의 거동을 화상처리기법을 이용하여 복잡한 유동의 순간 속도장을 구할 수 있는 측정기법을 개발하고 이것을 복잡한 난류유동 및 물체 주위 유동의 속도장 측정에 적용한다. 이 연구에는 PTV(particli Tracking Velocimetry)m digital PIV(particle Image Velocimetry), HPIV(Holographic Particle Image Vilocimetry)의 개발과 그 응용연구를 포함한다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

Electronic SpecklePattern Interferometry(ESPI)법에 의한초고온하에서의 내영구조재료의 열변형계측 시스템

초음속으로 비행하는 초고속 항공기와 같은 우주왕복 수송기의 실현을 향한 공력가열에 의한 가혹한 열부하의 환경에 견딜만한 경량한 내열 구조 양식의 확립이 필수의 과제로 있다. 이것들에 부수하는 실험적 연구에 있어서 크나 큰 장애로 되는 것은 초고온 하에서의 구조의 변형이나 변위의 측정 방법이 확립되어져 있지 않다는 점이다. 본 연구에서는 이 중요한 문제의 해결법으로 기대되어지는 레이저 스패클 간섭법을 기초로 한 변형 전후의 스패클 패턴의 간섭을 화성 처리 장치와 컴퓨터를 이용하여 행한 전자식 스패클 패턴 간섭법에 의한 초고온하에서의 내열구조재료의 열변형 계측 시스템 개발을 목표로 한다. 본 연구진은 레이저 스패클 간섭법에 의한 변형, 변위 측정에 관한 변위의 방향과 크기에 관한 정보를 주는 Young's 간섭계를 이용하여 화상해석에 관한 연구를 수행한 바 있고, 또 고온 하에서의 측정의 응용에 관하여도 약간의 기초를 행하였다. 게다가 레이저스페클간섭법에 의한 고온하의 변형 측정에 있어서도 섭씨 1000도를 넘는 초고온하에서의 적용을 목표로 연구를 행하고자 한다. 연속파 아르곤 레이저를 물체의 확산면에 조사하면 결상중앙에 불규칙한 입자 모양의 스페클이 발생한다. 이 스패클은 물체의 변형에 따라 이동하며, 이러한 위상의 스패클 패턴이 변하는 성질을 이용하여 외력이 가해질 때 물체의 면내 변위 정보를 스패클 패전 간섭법이라 한다. 광학에의한 패턴 계측의 대표적인 광탄성 피막법이나 모아레법 등과 비교하면 피측정물의 표면에 사전처리가 필요없고 완전한 비접촉 측정이 가능하며 감도 또한 높다는 특징을 가지고 있다. 본 연구에서는 일반적인 범용의 저가인 아르곤 레이저를 사용하여 공간 요란의 문제를 해결할 수 있도록 진공조를 제작 설치함으로서 고온의 시험편에 의한 공기 요란의 문제를 해결 할 것이다. 또한 시험편의 적열로 인해 발생되는 문제를 해결하기 위해서, 아르곤 레이저외 광선만을 투과하도록 간섭 필터를 카메라 렌즈 앞에 설치하여 보다 우수한 줄무늬를 얻을 수 있도록 할 것이다. 따라서 본 연구에서는 연속파레이저 가간섭성에 의해서 발생되는 스페클 패턴을 이용하여 측정면 전체에 걸쳐서 나타나는 줄무늬 상을 조사함으로서 전체에 걸쳐서 나타나는 줄무늬 상을 조사함으로서 전체적인 재료의 역학적인 거동을 살펴보게 될 거이다. 간섭에 의해서 만들어지는 줄무늬 해석에 있어서는 CCD 카메라와 컴퓨터를 이용하는 전자적안 화상처리 장치를 개발하여 정량적인 데이터 값을 얻을 것이다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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일반기술 물리학 > 기타 광학

Hole-drilling 방법을 이용한 잔류응력 측정 기술

잔류응력은 기계/구조물의 안전성에 큰 영향을 미친다. 잔류응력은 재료의 제조, 성형, 가공, 열처리, 조립 등의 과정에서 발생하기 때문에 일반적인 해석방법과 응력측정방법으로는 결정할 수 없다. 잔류응력을 측정하는 방법으로는 X-ray를 이용하는 방법, 초음파를 이용하는 방법, 자기장을 이용하는 방법, 기계적인 절단방법, 구멍뚫기방법 등이 이용되고 있으나, 이중 구멍뚫기방법(hole drilling method)이 재료를 최소한으로 손상시키면서 가장 정확한 방법으로 많이 이용되고 있다. 연구자는 정확한 구멍뚫기 기술, 측정된 변형률로 잔류응력을 결정하는 방법, 특히 깊이 방향으로 변하는 잔류응력에 대한 측정, 유한요소해석을 이용한 data 처리 방법 및 알고 있는 응력장에 대한 본 방법의 검증시험에 대하여 많은 연구경험이 있으며 냉간가공된 강관의 잔류응력 측정, 원자력 발전소 증기발생기의 U-tube에 대한 잔류응력 측정, 자동차 suspension부의 잔류응력 측정 및 용접부의 잔류응력 측정 등의 실제 구조물에 성공적으로 응용한 사례가 있다. 본 기술은 재료의 개발, 성형 등 기계가공이나 열처리 후의 잔류응력 측정 등의 분야에서 응용될 수 있으며, 앞으로 박막의 잔류응력 측정에도 관심을 가지고 있다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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노온(爐溫) 계측장치

고온이 되는 노의 온도를 계측하는 경우에는 정확한 온도를 상시 얻는 것이 곤란했다. 그래서 노의 계측하고 싶은 부분에 냉각 액체가 들어있는 계측관을 배설하여, 그 계측관의 노내 입구 및 출구에 제1 및 제2온도계를 설치하고, 또 유량계를 설치한다. 그리고 제1·제2 온도계, 유량계의 정보를 연산기에 수용해 연산처리하여 정확한 노내 온도를 상시 얻을 수 있다. 제1도에 있어, 컴버스터1의 노벽내에 냉각매체로 열흡수량을 계측하는 전열관9 (흡열계측관) 를 설치한다. 또한 계측관9의 노내 입구와 출구에 각각 제1 및 제2온도계10, 11을 설치하고, 또 입구에 유량계12를 설치한다. 제1, 제2온도계10, 11 및 유량계12의 정보를 연산기2로 보내 그곳에서 정확한 온도를 산출한다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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전자 스탭

스탭은 수광위치에서 발광하기 때문에 사람이 유지해 둘 필요가 없다. 수광소자의 출력유지회로에 의해 유지되기 때문에 발광소자는 일정 시간 연속하여 발광하여 판독을 용이하게 한다. 스탭에 부착되어 있는 눈금에 준하여 수광소자와 발광소자를 조합해 설치한다. 기준 망원경으로부터 레이저광을 받아 스탭의 발광소자가 점등하기 때문에 그 위치를 관측할 수 있다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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레벨 센서

종래의 전자식 스탭에서는 수광 위치가 소정의 센서 위치가 되도록 스탭의 고저를 입력으로 설정했다. 본 발명에서는 어레이화와 그 수광 위치 검출 회로에 의해 높이 위치를 자동 계측할 수 있다. 측량용 전자식 스탭에 있어, 수광소자를 높이 방향으로 어레이 배치하고, 또 그 출력을 멀티 플랙서 처리에 의해 수광 위치를 같이 정할 수 있도록 했다. 입력에 의해 수광 위치를 검출·조정할 필요가 없다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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광분포 측정장치

발광체에서 발사하는 빛을 반투명의 스크린에 대어서, 이 스크린에 비춘 상을 촬영장치로 촬영하고, 그 촬영상보다 빛의 강함의 분포를 측정하는 광분포 측정장치에 있어서, 전술한 발광체의 광축을 Z축에 서로 수직상태의 축을 X축, Y축으로 한 경우에, 전술한 스크린을 이들 X축, Y축, Z축의 각 방향에 이동시키는 스크린 이동수단과, 전술한 스크린의 전술한 Z축에 대한 각도를 가변시키는 스크린각도가변수단을 갖춘 것이다.광원인 발광체와, 피측정물인 스크린과의 사이의 위치관계에 관해서의 모든 요소를 가변할 수 있도록 하여, 실제의 사용상황에 아주 가까운 광분상태를 측정할 수 있는 광분포 측정장치를 제공한다. 발광체의 광축을 포함한 3차원 공간내에서 스크린을 3축의 모든 방향에도 자유로이 이동할 수 있도록 하여, 나아가 광축에 대한 스크린의 각도도 조절할 수 있는 구성으로 했기 때문에, 스크린 각도를 파로메타로 하는 입체적 광분포 특성을 용이하게 얻을 수가 있으며, 광원의 실제의 사용상황에 극히 가까운 특성을 얻을 수가 있다.

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등록일
2000-04-29
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광분포 측정장치

발광체에서 방사되는 빛을 렌즈계와 줌장치가 된 촬영장치로 촬영한 촬영상보다 빛의 강도분포를 측정하는 장치에 있어서, 전술한 촬영장치의 렌즈계의 광축상에서 서로 직교하는 회전중심축의 주위에 회동하는 두 개의 경사면을 설정하여, 전술한 경사면 중의 한쪽의 경사면에 전술한 직교하는 회전중심축의 교점부근에 발광체를 유지하도록 한 유지테이블을 갖춘 것을 특징으로 한다.발광체의 임의의 방향의 지향성 강도분포를 직접 측정함과 동시에, 발광체의 임의의 방향을 향하도록 하여, 새어나온 빛 등의 미약한 빛의 발생부분도 직접 알 수 있는, 보다 소형의 정밀한 광분포 측정장치를 제공한다.스크린을 사용하지 않고, 직접 임의의 방향의 빛의 강도분포 측정을 행하기 위해, 스크린상의 군데군데 얼룩 등의 영향을 받지않고, 발광체의 세부까지 선명한 임의방향의 광강도분포를 구할 수가 있다.

보유기관
특허법인충정
등록일
2000-04-29
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방사온도계용 변환기

관수형 즉 온도변환식에 의거하여 방사에너지를 온도로 변환하여, 이 관수형을 최신의 교정데이터에 의하여 바꿔 쓸 수 있게 하므로써, 늘 최신의 교정데이터에 의해 오차없는 측정을 한다.[구성] 검출기의 출력신호1은, 증폭기3과 LPF4 및 A/D변환기5를 넣어서 변환부7에 입력시킨다. 한편, 데이터입력설정부2에는, 미리 교정데이터 혹은 파라메터가 입력되어 있으며, 기억부6은 이들 데이터를 기억한다. 그리고 이들의 교정데이터 혹은 파라메터에 의거하여 관수형이 결정되고, 변환부7에 써넣어진다. A/D변환기5로부터의 디지털신호는, 변환부7의 관수형 즉 온도변환식에 의거하여 온도로 변환된다. 상기 관수형은 최신의 교정데이터에 의하여 바꿔쓰여지므로, 변환 후의 온도는 오차가 적게 된다.방사온도계의 리니아라이저에 관한 기준특허이다. 종래, 전자회로에서 하던 리니아라이스를 S/W에서 할 수 있도록 하여, 교정결과에서 곡선(관수)의 바꿔쓰기를 용이하게 할 수 있도록 했다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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자기에 의한 균열, 전위의 검출방법 및 장치

피측정물의 균열, 전도의 측정 장소주변에 자기센서를 2차원적 또는 3차원적으로 배치하고, 자기의 경시적 변화로부터 자기의 강도, 위치를 산출한다. 그리고 그 자기발생위치의 이동속도와 강도를 균열·전위의 크기와 진행속도의 지도하는 것을 특징으로 하는 기계구조재료용의 균열·전위의 검출장치.일반적인 기계구조재료의 검출은 각종 피파괴검사장치로 미소파괴의 발생장소를 발생후 검출하는 방법이 일반적이다. 그렇지만 본 특허에서는 이것을 사전에 피대상의 자장변동과 컴퓨터처리로 사전관찰할 수 있는 능력을 갖고 있다.

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특허법인충정
등록일
2000-04-29
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