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물리학 > 분광학(C13, C44)
트랜스미션 측정의 높은 생산성은 새로운 섬광 탐지기를 기초로 한 고속 분광계 섹션의 적용에 의한 것이다. MS-2000을 포함한 뫼스바우어 스펙트럼 분광 시간은 보통의 뫼수바우어 분광계보다 5-10배 이하로 걸린다. 펜티엄 PC 온라인을 포함한 전체 자동 조작 ; "가상 장치" 모드의 편리한 작동 ; 인터넷을 경유한 작동이 가능소형 사이즈와 무게는 러시아 space mission "Mars-96"에 사용된 cosmic 뫼스바우어 분광계를 제작한 고안자에 의해 개발된 오리지널 기술의 적용에 의한 것이다. 분광계는 방사선 방사 Co-57의 공급원을 포함한다. 동 공급원은 사용자에 어떠한 위험도 제공하지 않으며 또한 방사능에 의한 환경 오염도 없다. 요하네스버그의 대학교(남아프리카), Palatskogo 대학교(체코), Derby 대학교(영국), Uppsaly 대학교(스위스), BSU에서 분석적 연구에 사용되었다.뫼스바우어 측정의 고 정밀도. 방열로부터 높은 보호성을 가지며, 외부 진동에 이중으로 보호된다.분광계는 과학적 연구(화학, 물리학, 지구물리학, 생태학)와 응용 연구(야금, 지질학, 화학 산업 등), 그리고 교육적 목적을 위한 트랜스미션 뫼스바우어 스펙트럼의 집적과 프로세싱을 위해 설계되었다. 뫼스바우어 분광계를 제작한 고안자에 의해 개발된 오리지널 기술의 적용에 의한 것이다. 분광계는 방사선 방사 Co-57의 공급원을 포함한다. 동 공급원은 사용자에 어떠한 위험도 제공하지 않으며 또한 방사능에 의한 환경 오염도 없다.
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- 티알씨코리아
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- 2004-05-17
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물리학 > 분광학(C13, C44)
ExciPro-D 시스템은 일시적 흡수(광학적 밀도) 변화 측정을 위한 femtosecond 또는 피코세컨드 펌프-탐사침 흡수 분광학에 사용된다. 두 개의 광다이오드 배열은 femtosecond 백색 광선(연속체) 발생기에서 발생된 reference 스펙트럼 측정을 위한 이미지 분광계 이후에 배치된다. Photoinduced 광학적 밀도 변화는 샘플 excitation 전후에 측정된 탐사침과 reference 스펙트럼에서 측정된다. ExciPro-T는 펌프-탐사침 측정을 위한 광학적, 기계적 구성요소의 kit이며, 이것은 femtosecond 연속 발생기와 순환 샘플 셀, Ti:sapphire 증폭된 펄스를 위한 second harmonic 발생기를 포함한다. 모든 원소는 ExciPro-D system이 설치되어 있는 광학적 delay line이 있는 브레드보드 위에 설치된다. CDP Corp.는 ExciPro-T 설비와 테스트 측정, 개인 트레이닝 코스에 도움을 준다.ExciPro-D는 10-5 DOD(rms) 광학적 밀도 변화 민감성을 부여하며, 연속적 파동 비간섭성(램프) 광을 갖는 광다이오드 arrays가 발광시 기본 라인 소음 측정한다.ExciPro-T는 펌프-탐사침 측정을 위한 광학적, 기계적 구성요소의 kit이며, 이것은 femtosecond 연속 발생기와 순환 샘플 셀, Ti:sapphire 증폭된 펄스를 위한 second harmonic 발생기를 포함한다. 모든 원소는 ExciPro-D system이 설치되어 있는 광학적 delay line이 있는 브레드보드 위에 설치된다. CDP Corp.는 ExciPro-T 설비와 테스트 측정, 개인 트레이닝 코스에 도움을 준다.
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- 2004-05-17
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물리학 > 분광학(C13, C44)
femtosecond와 연속 파동 Ti:sapphire 진동기와 진동기 kits의 TISSA 시리즈는 다양한 분광학에의 응용과 초단파 펄스 확대를 위한 저가의 광 공급원의 제공과 다용한 용도로의 사용을 위해 개발되었다. 그 외 다른 곳에의 적용을 위해서는, TISSA20은 MPA50 Ti:sapphire multipass 증폭기를 위한 seed 공급원으로써 추천되며, TISSA100과 TISSA50은 FOG100 up-conversion 형광성 시스템을 위한 자극원으로 추천된다. Ti:sapphire 진동기 kit의 TISSA 시리즈는 시간과 가격의 훌륭한 절충안으로써 제시된다. TISSA kit는 모든 중요한 광학적, 기계학적 구성요소를 포함하며, 상세한 설명서의 의해 사용자가 직접 aligned하고 조정할 수 있다. 완벽한 조정은 TISSA 진동기에 부합하는 전형적이 출력 특징을 나타내도록 한다. 모든 kit 구성요소는 일년간 보증된다.Femtosecond Ti:sapphire 진동기 TISSA 시리즈의 특징은 다음과 같다. - 광학적 활동 석영 판금을 포함하는 펌프 빔 편광의 회전- 전자 시동장치- 상술된 파라미터에 대한 일년간의 보증- harmonic 발생기와 autocorrealtor는 옵션이다. Ti:sapphire 진동기 kit의 TISSA 시리즈는 시간과 가격의 훌륭한 절충안으로써 제시된다. TISSA kit는 모든 중요한 광학적, 기계학적 구성요소를 포함하며, 상세한 설명서의 의해 사용자가 직접 aligned하고 조정할 수 있다. 완벽한 조정은 TISSA 진동기에 부합하는 전형적이 출력 특징을 나타내도록 한다. 모든 kit 구성요소는 일년간 보증된다.
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- 티알씨코리아
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- 2004-05-17
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물리학 > 분광학(C13, C44)
MPA50 Ti:Sapphire 증폭기 시스템은 두 개의 반사경 초점 공유 multipass Ti:Sapphire 증폭기 구성을 베이스로 하여 CDP Corp.에 의해 디자인되었으며, 다른 활동 매개물에서의 효과적인 femtosecond 펄스 증폭을 위해 개발되었다. 주요 기술적 특징- 두 개의 반사경 초점 공유 디자인- 30-fs 펄스의 증폭- 단일 샷 autocorrelator (옵션)- Harmonic 발생기 (옵션)- Nd:YAG 펌프 레이저는 요구됨- TISSA20 시드 레이저는 추천함- 사용설명서- 출력 펄스 폭: TISSA20 시드 펄스를 위한 < 50 fs - 작동 파장: 780-840 nm- 펄스 반복율: 10-50 Hz, 1kHz- 출력 펄스 에너지: 10-50Hz에서 1.0mJ, 1kHz에서 0.3mJ- 출력 편광: 수평MPA50은 펄스 stretcher과 multipass 증폭기, 펄스 컴프레셔, 펄스 소모기를 포함하는 완벽한 증폭기 시스템이다. MPA 50 Femtosecond Multipass Ti:Sapphire 증폭기의 주요 기술적 특징은 다음과 같다. 두 개의 반사경 초점 공유 디자인; 30-fs 펄스의 증폭; 단일 샷 autocorrelator (옵션); Harmonic 발생기 (옵션); Nd:YAG 펌프 레이저는 요구됨 ; TISSA20 시드 레이저는 추천함; 사용설명서; 출력 펄스 폭: TISSA20 시드 펄스를 위한 < 50 fs ; 작동 파장: 780-840 nm ; 펄스 반복율: 10-50 Hz, 1kHz ; 출력 펄스 에너지: 10-50Hz에서 1.0mJ, 1kHz에서 0.3mJ ; 출력 편광: 수평
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- 티알씨코리아
- 등록일
- 2004-05-17
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물리학 > 분광학(C13, C44)
동 장치는 흡수 밴드를 포함하는 물질의 분석을 위해 개발된 것으로, 흡수 밴드의 범위는 공동 작용하는 광 이미터(고체 상태 이미터 타입 LE 20...42)를 포함하는 광학적 커플(optopairs)의 부분과 같은 1.0-5.0 미크론이다. PRMX 이중 성분 탐지기는 두 개의 감광성 원소, 두 개의 built-in된 폭이 좁은 밴드 간섭 필터로 이루어진다. : 하나의 필터는 테스트된 물질(베이스 채널)의 흡수 밴드에 가까이 있으며, 또 다른 필터는 흡수 밴드(reference 채널)에서 멀리 떨어져 있다. Cooled 옵션은 열 센서를 포함하는 소형 single stage 열전 냉각기를 포함한다. 필터의 민감성 원소는 열전 모듈의 냉각 표면 위에 배치되며, 열 센서는 열 안정화를 위해 사용된다. Uncooled 변경은 TO-8 일렉트로닉 패키지 또는 특수 패키지 사용의 베이스 위에서 설계된다. 고객의 요구에 의한 specified 스펙트럼 특징을 갖는 광 검출기는 스펙트럼 범위 1.0-4.3 미크론 범위에서 설계된다. 간섭 필터의 트랜스미션 대역 너비는 20nm 이거나 그 이상이다.광 검출기의 특성은 다음과 같다. - 고 민감도- 고속 감응- 높은 안정성- 민감한 원소의 열 안정화 동 기술이 사용되는 곳은 다음과 같다. - IR 분광학- 온도의 비접촉 측정- 화재 탐지- 가스 , 유동체 분석- 과학기술 시스템의 자동 모니터링필터의 민감성 원소는 열전 모듈의 냉각 표면 위에 배치되며, 열 센서는 열 안정화를 위해 사용된다. Uncooled 변경은 TO-8 일렉트로닉 패키지 또는 특수 패키지 사용의 베이스 위에서 설계된다. 고객의 요구에 의한 specified 스펙트럼 특징을 갖는 광 검출기는 스펙트럼 범위 1.0-4.3 미크론 범위에서 설계된다. 간섭 필터의 트랜스미션 대역 너비는 20nm 이거나 그 이상이다.
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- 티알씨코리아
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- 2004-05-12
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물리학 > 분광학(C13, C44)
기존의 가간섭성 반스토크스 라만 분광법(CARS)의 감도는 측정하고자 하는 신호를 압도하고, 관찰하고자 하는 공명신호를 왜곡시키는 비공명 백그라운드의 존재로 인해 제한되는 문제점을 가지고 있다. 전체 CARS 신호는 분자의 라만 단면과 직접적으로 관련될 수 없는 공명과 비공명이 복잡하게 혼합되어 있어서, CARS 스펙트럼의 분석을 매우 복잡하게 한다. 본 기술은 비공명 백그라운드가 완전히 억제되고 전체 공명 진동 신호가 분리되어 증폭되는 이미징 가간섭성 반스토크스 라만 분광법을 제공한다.본 기술은 CARS 신호의 헤테로다인 검출에 기초를 두고 있다. 헤테로다인 필드는 독립적으로 생성되며, 샘플로부터 나오는 신호와 혼합되는 특징적인 CARS 필드이다. 헤테로다인 필드의 위상을 조절함으로써, 서로 다른 신호들을, 간섭을 통해 억합하거나 증폭할 수 있다. 본 기술은 헤테로다인 위상 조절을 이용하여 공명신호에 대한 영향은 전적으로 억압하면서 공명신호를 선택적으로 증폭한다. 따라서, 크기가 분자의 라만 단면과 선형적으로 스켈일링되는 공명 진동 신호만으로 이루어진 CARS 이미지와 스펙트럼을 생성할 수 있다.
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- (주)피앤아이비
- 등록일
- 2005-07-20
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물리학 > 분광학(C13, C44)
주기적인 천공을 통해 표면 플라즈몬이 존재하는 표면에 수직한 포인팅 벡터의 광자에 의해 표면 플라즈몬의 공명 여기가 발생한다. 이러한 공명으로 인한 대칭적인 금속 필름에서 실질적으로 미세파장 크기의 홀들을 통한 광자 전송의 향상은 여러 광학 분야에서 유용하게 사용될 수 있다. 대칭적인 전도성 필름은 발광 파장에 비해 넓은 영역에 걸쳐 광자를 모으면서도 파장보다 큰 영역에 비발광면에서 광자를 방출하는 문제점이 있다. 본 기술은 비조사면에서 간극으로 방출을 구속하면서 미세파장의 간극을 통해 특별한 광자 전송 광원을 제공한다. 그와 같은 간극은 점광원으로 역할을 하는 것이 아니라 세미 시준광을 방출하고 방출된 광은 사라지는 것이 아니라 전파되기 때문에, 원방영역에서 사용할 수 있다.일반적인 전도성 필름은 발광 파장에 비해 넓은 영역에 걸쳐 광자를 모으게 되고, 파장보다 큰 영역의 비발광면에서 광자를 방출하는 단점이 있다. 그러나, 본 기술은 비조사면에서 간극으로 방출을 구속하면서 미세파장의 간극을 통해 특별한 광자 전송 광원을 제공할 수 있음을 특징으로 한다. 본 기술의 표면 플라즈몬 향상 조명(SPEI)은 광학 데이터 저장장치, 포토리소그래피 및 매우 높은 분해능을 가지는 광학 현미경에 대한 새로운 해결수단으로서 사용될 수 있으며, 특별한 광자전송의 기초가 되는 공명현상의 직접적인 결과로써, 표면 플라즈몬 향상 조명은 매우 민감하고 다중화된 바이오센서의 기본적인 기술로서 사용될 수 있다.
- 보유기관
- (주)피앤아이비
- 등록일
- 2005-07-20
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일반기술
물리학 > 분광학(C13, C44)
본 기술은 증폭되지 않은 펨토초 레이저를 이용하여 투명 물질 내에 점열원을 형서하여 3차원으로 도파로와 광학소자를 직접 라이트하는 방법을 제공한다. 기존에는 레이저 발진기로부터 출력되는 초단파 펄스는 물질 내에 조밀하게 포커싱되어, 가열이 국부적으로 되며 물질 전체에서 굴절률이 변하게 된다. 본 기술은 증폭되지 않은 레이저를 사용하여 장비에 드는 비용을 줄일 수 있으며 공정을 쉽고 신뢰성 있게 사용할 수 있다. 또한, 레이저 발진기를 사용하여, 증폭된 레이저로 달성할 수 있는 것보다 더 높은 매칭 속도를 얻을 수 있다.본 기술은 증폭되지 않은 레이저를 사용함으로써, 비용을 절감할 수 있고, 레이저 발진기를 사용함으로써, 높은 매칭 속도를 얻을 수 있는 기술에 관한 것이다. 본 기술은 열유도 굴절률 변화의 메커니즘으로 인한 누적 열효과를 이용할 수 있도록 한것을 특징으로 한다. 더 많은 펄스들이 단일점에 인가될수록 온도가 상승한 물질의 부피가 증가됨에 따라, 변화된 굴절률을 가지는 물질의 부피를 증가시키게 된다. 따라서, 최소 배선폭을 레이저의 초점에 의해 결정하는 기존의 기술과는 달리, 본 기술은 작업자가 각 최소 배선폭을 결정할 수 있는 등 다수의 장점을 가지고 있다.
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- (주)피앤아이비
- 등록일
- 2005-07-20
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물리학 > 분광학(C13, C44)
* 원리 및 구성 본 기술은 클러스텀 빔 증착장치를 이용하여 폴리아닐린 박막을 제조함에 있어서 표면 거침도가 작고 균일한 두께를 가지는 폴리아닐린 박막에 대한 것으로 본 기술에 의한 폴리아닐린 박막은 중량 평균 분자량 5000∼130,000인 폴리아닐린 에머랄딘 베이스가 들어 있는 크루서블을 전압 인가에 의해 가열하여 폴리아닐린가 증기화되고 폴리아닐린 증기가 크루서블 상부의 노즐을 통과하며 클러스터를 만든다. 접지되어 있는 상온 기판에 폴리아닐린 증기가 증착되며 환원된 형태의 폴리아닐린이 만들어진다. * 개발 배경 파이 공액 고분자 재료는 플라스틱의 장점과 금속 또는 반도체로서의 특성을 가지며 대표적인 전도성 고분자에는 폴리아세틸렌(PA), 폴리아닐린 (PANI), 폴리피롤 (Ppy )등이 있다. 폴리아닐린의 경우 비교적 값싼 모노머로부터 높은 수율로 쉽게 합성할 수 있으며, 프로톤화 도핑 또는 산화도핑을 통해 비교적 쉽게 전도성을 부여할 수 있다는 장점이 있다. 이러한 폴리아닐린 박막은 주로 스핀코팅에 의해 제조할 수 있으나, 다른 전도성 고분자와 마찬가지로 폴리아닐린의 전도성의 발현은 고분자쇄를 따른 π-전자 디로칼라이제이션에 기인하기 때문에 그 분자쇄가 강직하므로 용해성이 떨어지며 따라서 균일한 박막을 얻기 어렵다는 문제점이 있다.* 중요성 및 독창성 본 기술에 의해 제조된 폴리아닐린 박막은 표면 거침도가 매우 우수하고 두께가 균일하며 용매효과가 전혀 없기 때문에 소자의 수명을 연장시킬 수 있고 간단한 도핑과정만으로도 전기적 특성이 크게 향상되어 소자에 매우 유용하게 응용할 수 있다.* 적용제품 및 경쟁제품 본 기술에 의한 폴리아닐린 박막은 용매효과가 없으면서 기존의 공정에 비해 표면이 균일하며, 디펙트가 거의 없어 전기적 특성이 우수하여 다층박막의 제조에 적합하고 전자소자의 성능을 높일 수 있다.* 주요 적용 제품- 폴리아닐린 박막* 특징 및 장점- 간단한 공정을 통해 균일한 두께의 환원된 폴리아닐린 박막을 제조할 수 있다.- 다층박막의 제조에 적합하며 전자소자의 성능을 향상시킬 수 있는 폴리아닐린 박막을 제조할 수 있다.- 소자의 수명을 연장시킬 수 있다.- 간단한 도핑과정만으로도 전기적 특성이 크게 향상된다.
- 보유기관
- 고려대학교
- 등록일
- 2006-05-18
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일반기술
물리학 > 분광학(C13, C44)
본발명은 액정화면의 광 반사율을 측정하는 장치에 관한 것으로, 컴퓨터용 LCD모니터, 액정화면의 표면이 갖는 반사율을 자동으로 측정하여 제품의 신뢰성을 향상시킬수 있도록 하는 액정화면의 광 반사율을 측정하는 장치에 관한 것이다. 일반적으로 LCD화면의 표면에는 보호를 위한 보호필름이 코팅되거나 반사방지용 필름이 코팅되어 사용되고 있다. 이때 표면의 빛에 의해 반사되어 화면의 영상이 잘 보이지 않는 문제점이 있는바, 본발명의 목적은 LCD화면의 표면이 갖는 반사율을 자동으로 측정하기 위한 액정화면의 광 반사율을 측정하는 장치를 제공하는 것이다.컴퓨터용 LCD모니터 또는 각종 LCD 액정화면의 표면이 갖는 반사율을 자동으로 측정하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있도록 하는 액정화면의 광 반사율을 측정하는 장치가 개시되어 있다. 본 발명은 액정화면의 표면으로부터 반사되는 빛의 반사량을 측정하기 위하여 암실에 별도의 측정지지대를 설치하고 상기 측정지지대에 액정화면을 위치시킨 상태에서 측정지지대를 회전시키면서 선택된 액정화면의 측정점을 액정화면의 상부에서 여라각도로 측정함으로써 액정화면의 표면으로부터 반사되는 빛의 반사량을 신속하고 정확하게 측정할 수 있다.
- 보유기관
- 호서대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
물리학 > 분광학(C13, C44)
본 발명은 광학 분석장비인 타원해석기(ellipsometer) 중 진공자외선(vacuum uv: VUV)영역에서 작동하는 진공 자외선 분광타원해석기(VUV spectroscopic ellipsometer)에 관한 것이다. 일반 분광타원해석기와는 달리 진공자외선 분광타원해석기에 있어서는 광원에서 나온 진공자외선이 공기 중의 산소에 의해 흡수되는 것과 공기중 불순물과 반응하여 그 부산물이 광학부품을 오염시키는 것이 큰 문제이다. 기존의 진공자외선 분광타원해석기에서는 이 문제를 해결하기 위하여 전체 광학시스템을 밀폐된 대형 구조물 속에 넣고, 그 속에 액체 질소로부터 기화시킨 고순도의 질소를 흘리는 방식을 취하고 있다. 이 방식의 문제점으로 장비의 대형화, 액체 질소 사용의 불편함, 과다한 운영 유지비용 등을 들 수 있다. 따라서, 본 발명의 목적은 기존 장비에서 파생되는 많은 문제점을 해결하고자 하는데 있다. 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 광원, 편광발생기, 시편장착대, 편광해석기, 분광기, 그리고 검출기로 구성이 된다. 본 발명에서는 공기에 노출되는 광경로와 광경로 상에 위치하는 광부품이 차지하는 최소한의 공간만을 챔버 속에 넣고 진공을 유지하거나, 기존 시스템에 비해 상대적으로 매우 적은 양의 질소를 흘림으로써, 기존 시스템에서 사용하는 대형 밀폐구조물과 그에 따른 액체 질소 기화시스템의 사용을 피하고자 한다. 이렇게 함으로써, 소형이면서도 운용이 매우 간편한 진공자외선 분광타원해석기를 실현시킬 수 있다.본 발명에 따른 광경로 보호형 진공자외선 타원해석기는 그 구조상 대부분의 광경로가 진공 또는 고순도 질소 충전상태를 항시 유지하게 되어 진공자외선과 공기와의 접촉을 차단하게 되므로 공기 중 산소에 의한 진공자외선의 흡수를 방지할 수 있다. 또한 광경로상에 놓인 최소한의 광부품만이 이 보호된 공간에 포함되고 또한 이 광부품의 재료로 기체방출(outgassing)이 적은 것을 사용함으로써 불순기체의 발생을 최소화하여 청정 상태를 유지할 수 있다. 단, 시편 교체를 위해 빈번히 대기에 노출시켜야 하는 공간은 시편 챔버로 구성하고, 소형 돌출관을 이용하여 진공 또는 고순도 질소로 보호된 깨끗한 광경로를 시편 표면근처까지 연장함으로써 본질적으로 공기와 접할 수 있는 광경로를 최소화시킬 수 있다. 이렇게 함으로써 실제적으로 진공자외선이 기체와 반응할 수 있는 공간이 최소화되고, 시편교환시 이 공간만 관리를 하면 된다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-18
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일반기술
물리학 > 분광학(C13, C44)
본 기술은 Hartmann 센서와 null 광학계를 이용한 비구면 형상 측정장치이다. 하트만 센서를 사용하여 광학요소의 표면 가공 상태를 측정함에 있어서 제작하고자 하는 목표 광학요소와 동일한 패턴으로 광선을 반사하는 CGH (Computer Generated Hologram)을 설계하고 상기 CGH에서 반사된 광선의 파면을 측정하여 기준좌표 매트릭스를 얻고, 이를 측정 대상 광학요소에서 반사된 광선의 파면을 측정해서 얻는 시험좌표 매트릭스와 대비하여 상기 측정 대상 광학요소의 표면 가공 상태를 단시간 내에 판정할 수 있는 장치이다. 이를 위하여 본 기술은 입사광을 생성하는 간섭계와 간섭계에서 생성된 입사광을 확대시키거나 집속하는 렌즈 배열과 이를 통과한 입사광을 반사하여 목표 광학요소와 동일한 파면을 갖는 광선을 생성하는 CGH, 상기 간섭계와 상기 CGH를 잇는 광축에 직각되는 광선을 수광하는 하트만 센서, 상기 광선을 나누어 그 중 일부는 상기 간섭계로 진행시키고 다른 일부를 상기 하트만 센서로 진행시키는 광 분할기로 구성된다.본 기술은 하트만 센서를 이용하여 비구면 광학 부품의 형상을 측정함에 있어서 CGH를 사용하여 이상적인 표면 가공특성을 갖는 목표 광학요소를 대체하도록 함으로써 목표 광학요소의 직접적인 제작의 어려움을 해소함과 동시에 단시간 내에 측정 대상 광학요소의 표면 상태를 정밀하게 판정할 수 있도록 하는 것이다. 최근 광학산업의 동향은 경량화와 소형화를 추구하면서도 고품질의 영상을 얻으려는 경향이 뚜렷하다. 이에 따라 광학부품에 비구면의 사용이 빠르게 늘어나고 있는 추세이다. 따라서 본 기술을 사용하면 작고 측정하기 어려운 비구면의 측정도 가능하여 비구면을 이용한 광학제품 개발 초기 단계부터 정확히 면의 상태를 파악할 수 있어 제품 개발비용을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 제품 생산 과정에서 발생할 수 있는 문제점을 파악하는데 용이하므로 생산성 안정화에 크게 기여할 수 있다.
- 보유기관
- 한국표준과학연구원
- 등록일
- 2007-02-15
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일반기술
물리학 > 분광학(C13, C44)
본 기술은 Hartmann 센서와 null 광학계를 이용한 비구면 형상 측정장치이다. 하트만 센서를 사용하여 광학요소의 표면 가공 상태를 측정함에 있어서 제작하고자 하는 목표 광학요소와 동일한 패턴으로 광선을 반사하는 CGH (Computer Generated Hologram)을 설계하고 상기 CGH에서 반사된 광선의 파면을 측정하여 기준좌표 매트릭스를 얻고, 이를 측정 대상 광학요소에서 반사된 광선의 파면을 측정해서 얻는 시험좌표 매트릭스와 대비하여 상기 측정 대상 광학요소의 표면 가공 상태를 단시간 내에 판정할 수 있는 장치이다. 이를 위하여 본 기술은 입사광을 생성하는 간섭계와 간섭계에서 생성된 입사광을 확대시키거나 집속하는 렌즈 배열과 이를 통과한 입사광을 반사하여 목표 광학요소와 동일한 파면을 갖는 광선을 생성하는 CGH, 상기 간섭계와 상기 CGH를 잇는 광축에 직각되는 광선을 수광하는 하트만 센서, 상기 광선을 나누어 그 중 일부는 상기 간섭계로 진행시키고 다른 일부를 상기 하트만 센서로 진행시키는 광 분할기로 구성된다.본 기술은 하트만 센서를 이용하여 비구면 광학 부품의 형상을 측정함에 있어서 CGH를 사용하여 이상적인 표면 가공특성을 갖는 목표 광학요소를 대체하도록 함으로써 목표 광학요소의 직접적인 제작의 어려움을 해소함과 동시에 단시간 내에 측정 대상 광학요소의 표면 상태를 정밀하게 판정할 수 있도록 하는 것이다. 최근 광학산업의 동향은 경량화와 소형화를 추구하면서도 고품질의 영상을 얻으려는 경향이 뚜렷하다. 이에 따라 광학부품에 비구면의 사용이 빠르게 늘어나고 있는 추세이다. 따라서 본 기술을 사용하면 작고 측정하기 어려운 비구면의 측정도 가능하여 비구면을 이용한 광학제품 개발 초기 단계부터 정확히 면의 상태를 파악할 수 있어 제품 개발비용을 줄일 수 있을 뿐만 아니라 제품 생산 과정에서 발생할 수 있는 문제점을 파악하는데 용이하므로 생산성 안정화에 크게 기여할 수 있다.
- 보유기관
- 한국표준과학연구원
- 등록일
- 2007-02-23
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일반기술
물리학 > 분광학(C13, C44)
본 기술은 고분해능 원자힘 현미경의 주사속도가 늦은 점을 고주파수 수정진동자를 이용하여 주사속도를 전자현미경 정도의 속도까지 향상시키려는 것이다. ㅇ 기술 요약 및 특징: 본 기술은 주사탐침 현미경(SPM)용 고주파 진동 탐침에 관한 것으로, 고유진동수가 1MHz ~ 100MHz의 범위이고, 두께가 0.01mm ~ 2.0mm의 범위인 고주파 수정진동자와, 수정진동자에 부착된 전극과, 수정진동자에 부착된 탐침을 포함하여 구성되는 원자현미경용 고주파 탐침 진동 소자를 제공한다. 본 발명에 의하면, 시료 표면을 이동하는 진동 탐침의 주사 속도가 크게 개선되어 실시간으로 관측 뿐만 아니라 움직이는 물체의 관측도 가능하게 된다.
- 보유기관
- 서울대학교
- 등록일
- 2008-01-31
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