일반기술
재료 > 비철재료
1. "알루미늄 그릴 "을 제조하는 기술이다2. 현재,세계적으로 알루미늄 그릴을 생산하는 국가는 호주,대만,일본,중국, 한국등 5개 국가이며, 그 사용 되고있는 제품의 모델은 벌집모양의 Single type 1종류 (두께 7.0-7.5mm)이며, 대부분 안전창(방범창)용으로 사용되고 있는 실정이다3. 본 기술은 기 5개국가가 공통으로 사용 하고있는 Single Type외에도 Double type 10여종의 모델을 개발, 보유하고 있으며,4."알루미늄 그릴"을 제조하는 기술과 제품을 생산할 수 있는 기계장치의 개발과 생산된 제품을 사용할 수 있는 Item까지도 개발하여 생산된 제품의 수요를 창출하였다 (발코니 난간 겸용 샷시창호, 방범창 겸용 미닫이 창호, 방충망겸용 안전창, 알루미늄 그릴휀스, 알루미늄 그릴 방범도어 등)5. 아파트 등 모든 창호의 유리는 대부분 복층유리를 사용하고 있는데, 그 복층유리의 공기층 사이(공간)가 6mm, 8mm,12mm등이나, 그중 6mm 공간의 간봉(16mm페어)이 많이 사용되고 있는바, 안전창용으로 "알루미늄 그릴"을 복층유리의 공간에 삽입하고자 하더라도, 기존 그릴의 두께가 7.0, -7.5mm이기 때문에 복층유리의 공기층 사이에 삽입할 수가없는 실정이었으나, 본 기술에 의한 모델중 두께 4.8mm의그릴은 모든 복층유리의 공기층사이에 삽입할 수가있으므로, 외관이 미려할뿐 아니라 견고하고 더욱 안전하여 그 수요가 급증 할 것으로 보이며,6. Key가 부착된 창문의 잠금장치(크리센트)를 설치하여 Key가 없으면 창문을 열 수 가 없으므로 모든창문의 방범창등 다목적 기능을 갖추었다.7. 본 기술 제품은 1998년 대한주택공사의 ''발코니 난간 겸용 샷시 창호 개발"에 참여하여 2000년" 합동개발 자재로 채택 "(기술 1400-833호) 된 바 있다- 난간을 설치 하지않고, " 복층유리공기층 사이"에 당제품인 "그릴"을 삽입하여발코니 샷시 창호의 하부에 고정 시키므로 " 난간의 역활"을 하도록 개발한 " Item" 이다- 특히 서울시에서는, 아파트의"발코니샷시"를 종전에는 준공후에 입주자가 설치하였으나, 2004년도부터는 건설사가 본공사와 함꼐 설치하도록 규정하고 있어 "난간겸용 그릴 발코니 샷시 창호"의 설치가 급증하여 "그릴"의수요가 많아질 것으로 보인다1. 본기술은 "알루미늄 그릴"을 제조하는 기술과 제품을 생산할 수 있는 기계 장치의 개발과 생산된 제품을 사용할 수 있는 Item까지 개발하므로서 제품의 수요를 창출하였다2."알루미늄 그릴"은 알루미늄 재질로서,가벼웁고 외관이 미려하며 견고하여 반 영구적일 분 아니라, 녹슬지 아니하여 페인트를 칠할 필요가 없어 경제적이다3. 타사 제품과의 차별화된 특징 ◆ 알루미늄 그릴 보유 모델수 : 타국(타사)는 Single type 1종류(두께 :7.0,-7.5mm ) 이지만, 당사는 Single 및 Double type 10종류 (두께 : 4.8, 6.5, 7.0, 7.5mm)의 모델을 보유하고 있다 ◆ 제품과 관련된 Item : 타사는 그릴만을 제조하고 있으나, 당사는 그릴을 제조하는 기술 외에도[발코니 난간 겸용 샷시 창호(대한주택공사와 합동개발)][방범창 겸용 미닫이창호][방충망 겸용 안전창][방충망 겸용 도어][알루미늄 그릴 휀스]등을 개발하여 제품의 수요를 창출하였으며, ◆ 주요기계장치 : 타국 (타사)는 수동식 또는 반자동식 (자동화율 70%정도) 설비이나, 당사는 자동식 (자동화율 90%이상) 설비기술을 보유하고 있다 ◆ 생산능력 : 타국 (타사)는 10-20명의 인원으로 월간 50-70톤 (22일근무)을 생산할 수 있으나, 당사는 6명의 인원으로 월간 120톤 (22일근무)을 생산할 수 있으며, ◆ 기술 및 품질 : 타국 (타사)는 생산성이 저조하고 불량제품이 다량 발생하고 있으나, 당사는 기술이나 생산성이 우위에 있으며 불량제품이 거의 발생하지 않아 국내외적으로 경쟁력을 갖추고 있다
- 등록일
- 2004-11-25
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명은 알루미늄합금과 같은 모재금속의 표면에 염소 및 황을 함유한 고온 암모니아증기분위기중에서도 높은 내식성을 발휘하는 내식피막을 형성하는 방법의 제공에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 모재금속(1)의 표면에 먼저 경도가 높고 내식성이 우수한 Ni-P 또는 Ni-B계의 1차합금도금층(2)을 무전해 도금법에 의해 형성하는 단계와, 상기 1차합금도금층(2) 위에 실란층(3)을 형성하는 단계와, 상기 실란층(3) 위에 풀리우레탄수지, 폴리에폭시수지, 불소수지와 같은 폴리머로 된 폴리머도막층(4)을 형성하는 단계와, 상기 폴리머도막층(4) 위에 상기 1차합금도금층(2)과 같은 합금계의 2차합금도금층(5)을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.금속표면에 황, 염소, 시안이온 등의 음이온을 다량 함유하는 암모니아 용액 또는 증기중에서 뛰어난 표면내식성을 나타내도록 하기 위한 내식피막을 형성하는 방법으로서, 모재금속(1) 표면에 먼저 Ni-P 또는 Ni-B계의 1차합금도금층(2)을 무전해 도금법에 의해 형성하고, 그 위에 폴리우레탄수지, 폴리에폭시수지, 불소수지 등의 폴리머로 된 폴리머도막층(4)을 형성하는 것을 특징으로 하는 알루미늄합금의 내식피막형성방법. 금속표면에 황, 염소, 시안이온 등의 음이온을 다량 함유하는 암모니아 용액 또는 증기중에서 뛰어난 표면내식성을 나타내도록 하기 위한 내식피막을 형성하는 방법으로서, 모재금속(1) 표면에 먼저 Ni-P 또는 Ni-B계의 1차합금도금층(2)을 무전해 도금법에 의해 형성하고, 그 위에 폴리우레탄수지, 폴리에폭시수지, 불소수지 등의 폴리머로 된 폴리머도막층(4)을 형성하는 것을 특징으로 하는 알루미늄합금의 내식피막형성방법.
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- 포항기술이전센터
- 등록일
- 2005-01-27
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일반기술
재료 > 비철재료
* 원리 와 구성 소정의 공간부 내에 슬러리 제조용기를 배치하는 단계와 공간부에 전자기장을 인가하고, 용융금속을 슬러리 제조용기에 주입하는 단계 및 슬러리 제조용기를 공간부 외측으로 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반응고 금속 슬러리의 제조방법 이다. 1) 내측에 공간부를 구비하고,소정의 전자기장을 공간부에 인가하는 적어도 하나의 교반부 공간부에 수용되거나, 공간부로부터 이탈되도록 구비된 적어도 하나의 슬러리 제조용기, 2) 공간부 내로 슬러리 제조용기를 수용시키거나, 공간부 외측으로 슬러리 제조용기를 이탈시키도록 슬러리 제조용기를 승강운동시키는 구동부 3) 슬러리 제조용기가 공간부 내에 배치되고 공간부에 전자기장이 인가되어 있는 상태에서, 또는 슬러리 제조용기가 공간부 내에 배치되고, 공간부에 전자기장이 인가됨과 동시에, 공간부에 배치된 슬러리 제조용기에 용융된 금속재료를 주입하는 주입부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반응고 금속 슬러리 제조장치이다.* 개발배경진동바의 진동력을 용융금속에 전달함으로써, 액상선 온도 이하에서 결정핵을 가진 고액공존상태의 합금을 형성한 후, 소정의 액상율을 나타내는 성형온도까지 용융금속을 용기내에서 냉각하면서 30초 내지 60분간 유지함으로써 상기 결정핵을 성장시켜 반용융금속을 얻는다. 그러나, 이 방법에 의해 얻어진 결정핵의 크기는 약 100㎛이고, 공정소요시간도 상당이 길며, 소정 크기 이상의 용기에 적용하기 곤란한 문제가 있다.* 중요성및 독창성보다 미세하고 균일한 구상화 입자를 얻는 동시에 에너지효율의 개선, 제조비 절감, 기계적 성질의 향상, 주조공정의 간편화 및 제조시간 단축의 이점을 실현할 수 있는 반응고 금속 슬러리의 제조방법 및 그 장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다. 또한, 단시간에 고품질의 반응고 금속 슬러리를 제조할 수 있고, 후속 공정과의 연계성이 좋은 반응고 금속 슬러리의 제조방법 및 그 장치를 제공하는 것이다.* 적용제품 및 관련시장반응고 금속 슬러리 제조장치* 주요적용제품반응고 금속 슬러리 제조장치* 특징및 장점미세하고 균일한 구상화 입자를 얻는 동시에 에너지 효율의 개선, 제조비 절감, 기계적 성질의 향상, 주조공정의 간편화 및 제조시간 단축의 이점을 실현할 수 있고, 단시간에 고품질의 반응고 금속 슬러리를 제조할 수 있으며, 후속 공정과의 연계성이 좋도록 하기 위한 것이다. 이를 위하여, 1) 소정의 공간부 내에 슬러리 제조용기를 배치하는 단계2) 공간부에 전자기장을 인가하고, 용융금속을 슬러리 제조용기에 주입하는 단계3) 슬러리 제조용기를 공간부 외측으로 이송하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반응고 금속 슬러리의 제조방법과 그 장치를 제공한다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 비철재료
* 원리 와 구성반용융 성형용 빌렛의 제조방법 및 그 제조장치는 일단에 제 1 플런저가 삽입되고, 타단에 제 2 플런저가 삽입된 슬리브의 제 1 플런저와 제 2 플런저 사이에 형성된 영역에 전자기장을 인가하고, 슬리브의 영역에 용융 금속을 주입하여 금속 슬러리를 형성하는 단계. 제 1 플런저를 제 2 플런저의 방향으로 압축 및 냉각하여 빌렛을 형성하는 단계 및 빌렛을 제 2 플런저의 방향으로 이송시켜 배출하는 단계를 포함하는 반용융 성형용 빌렛의 제조방법 이다. * 개발배경종래의 반응고/반용융 성형방법 및 장치들은 냉각과정에서 이미 형성된 수지상 결정형태를 분쇄하여 입상의 금속 조직으로 만들기 위해 전단력을 이용하고 있다. 즉, 금속재료의 적어도 일부가 액상선 이하로 온도가 내려갔을 때에야 비로소 진동 등의 힘을 가하므로 초기 응고층의 형성에 따른 잠열발생으로 인해 냉각속도의 감소와 제조시간의 증가 등 각종 문제를 피하기 어렵다. 또한, 이에 따라 형성된 금속 조직도 용기 내에서의 온도의 불균일로 인해 전체적으로 균일하고 미세한 조직을 얻기 어려우며, 용융 금속의 용기로의 주입 온도를 조절하지 않으면 용기 벽면부와 중심부의 온도차로 인해 조직의 불균일성은 더욱 증대되게 된다.* 중요성및 독창성미세하고 균일한 구상화 입자를 얻는 동시에 에너지효율의 개선, 제조비 절감, 기계적 성질의 향상, 주조공정의 간편화 및 제조시간 단축의 이점을 실현할 수 있는 반용융성형용 빌렛의 제조방법 및 장치를 제공하며 단시간에 고품질의 반용융 성형용 빌렛을 연속하여 복수개 제조할 수 있는 반용융 성형용 빌렛의 제조방법 및 장치를 제공하는 것이다.* 적용제품 및 관련시장반용융 성형용 빌렛* 주요적용제품반용융 성형용 빌렛* 특징및 장점보다 미세하고 균일한 구상화 입자를 얻는 동시에 에너지 효율의 개선, 제조비 절감, 기계적 성질의 향상, 주조공정의 간편화 및 제조시간 단축의 이점을 실현할 수 있고, 단시간에 고품질의 반용융 성형용 빌렛을 연속하여 복수개 제조하기 위한 것으로, 이를 위하여, 일단에 제 1 플런저가 삽입되고, 타단에 제 2 플런저가 삽입된 슬리브의 제 1 플런저와 제 2 플런저 사이에 형성된 영역에 전자기장을 인가하고, 슬리브의 영역에 용융 금속을 주입하여 금속 슬러리를 형성하는 단계와, 제 1 플런저를 제 2 플런저의 방향으로 압축 및 냉각하여 빌렛을 형성하는 단계와, 빌렛을 제 2 플런저의 방향으로 이송시켜 배출하는 단계를 포함하는 반용융 성형용 빌렛의 제조방법 및 그 장치를 제공한다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 비철재료
본 기술은 용기에 전자기장을 인가하고 용융금속을 용기에 주입하는 단계 및 용융금속을 냉각하여 반응고 또는 반용융 성형용 금속재료를 형성하는 단계를 포함하는 반응고 또는 반용융 성형용 금속재료의 제조방법 및 이 방법에 의해 제조되는 금속재료를 제공한다. 용기에 전자기장을 인가하는 인가 단계, 용기에 전자기장이 인가되어 있는 상태에서, 용융된 상태의 금속재료를 용기에 주입하는 주입 단계, 금속재료의 주입이 완료된 후에 용기에 대한 전자기장의 인가를 종료하는 종료 단계 및 용기 내의 금속재료를 냉각하는 냉각 단계를 포함한다.용기 내에서 용융금속이 냉각되는 과정에서 초기 응고층 형성에 의한 잠열의 발생 없이 용기의 벽면으로부터 중심부에 걸쳐 전체적으로 균일하게 온도가 저하되는 양상을 나타내므로, 용융금속의 주입 후 1 내지 10초 정도의 짧은 시간 내에 용기내 용융금속이 액상선 온도 이하로 급속하게 냉각되어 다수의 결정핵이 전영역에 걸쳐서 균일하게 생성됨으로써 미세하고 균일한 조직을 가진 금속재료를 제조할 수 있다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 비철재료
유기전기발광소자에 있어서, 발광된 빛을 통과시키도록 투명성이 있는 기판, 외부의 양전위에 연결되고 기판상부에 증착되는 양전극층, 유기성물질에 의해 박막으로 증착되고 유기전기발광소자에 형성된 양전극층 및 음전극층으로부터 전공 및 전자를 주입시키며 주입된 전자 및 정공에 의해 발광되는 발광층, 발광층의 상부에 탄소이온으로 증착에너지를 조절하여 형성시킨 다이아몬드상 탄소박막(DLC박막) 및 외부의 음전위에 연결되고 다이아몬드 탄소박막(DLC박막)의 상부에 증착되는 음전극층을 포함하는 것을 특징으로 한다.다이아몬드상 탄소박막이 포함된 유기전기발광소자는, 음전극과 유기박막 발광층사이에 다이아몬드상 탄소박막(DLC박막)을 세슘(Cs) 분위기에서 추가하여 형성하고 외부로부터 인가되는 빛에 의한 간섭을 해소하기 위해 탄소입자에 의한 반사방지층을 추가한 유기전기발광소자를 제시한 것이다. 투명성이 있는 기판, 외부의 양전위에 연결되고 기판상부에 증착되는 양전극층, 유기성물질로 증착되고 양전극층 및 음전극층으로부터 전공 및 전자를 주입시키며 주입된 전자 및 정공에 의해 발광되는 발광층, 발광층 상부에 탄소이온으로 증착에너지를 조절하여 형성시킨 다이아몬드상 탄소박막(DLC박막), 및 외부의 음전위에 연결되고 다이아몬드 탄소박막(DLC박막)의 상부에 증착되는 음전극층을 포함하고 있다.따라서 본 유기발광소자는 세슘(Cs) 분위기에서 음전극과 유기박막의 발광층사이에 DLC박막을 형성하고 반사방지층을 추가하여 형성시킴으로써 금속의 음전극에서 유기박막의 발광층으로의 전자주입을 활성화시키는 효과를 제공한다.
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- 연세대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 비철재료
* 원리 와 구성 일단에 플런저가 삽입되고, 타단이 성형 공동이 있는 성형 다이에 연결된 슬리브의 슬러리 제조 영역에 전자기장을 인가하고, 슬러리 제조 영역에 용융 금속을 주입하여 금속 슬러리를 형성하는 단계 및 플런저를 압축하여 금속 슬러리를 성형 다이의 성형 공동에 주입하는 단계를 포함하는 반응고 성형용 다이캐스팅 방법으로, 미세하고 균일한 구상화 입자를 얻는 동시에 에너지 효율의 개선, 제조비 절감, 기계적 성질의 향상, 주조공정의 간편화 및 제조시간 단축의 이점을 실현할 수 있는 반응고 성형용 다이캐스팅 방법 및 그 장치를 제공하는데 목적이 있다.* 개발배경금속재료의 적어도 일부가 액상선 이하로 온도가 내려갔을 때에야 비로소 진동 등의 힘을 가하므로 초기 응고층의 형성에 따른 잠열발생으로 인해 냉각속도의 감소와 제조시간의 증가 등 각종 문제를 피하기 어렵다. 또한, 이에 따라 형성된 금속 조직도 용기 내에서의 온도의 불균일로 인해 전체적으로 균일하고 미세한 조직을 얻기 어려우며, 금속재료의 용기로의 주입 온도를 조절하지 않으면 용기 벽면부와 중심부의 온도차로 인해 조직의 불균일성은 더욱 증대되게 된다.* 중요성및 독창성본 발명은 상술한 바와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로, 보다 미세하고 균일한 구상화 입자를 얻는 동시에 에너지 효율의 개선, 제조비 절감, 기계적 성질의 향상, 주조공정의 간편화 및 제조시간 단축의 이점을 실현할 수 있는 반응고 성형용 다이캐스팅 방법 및 그 장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다. 또한, 단시간에 고품질의 반응고 다이캐스팅 제품을 제조하는 것이다.* 적용제품 및 관련시장반응고 성형용 다이캐스팅* 주요적용제품반응고 성형용 다이캐스팅* 특징및 장점미세하고 균일한 구상화 입자를 얻는 동시에 에너지 효율의 개선, 제조비 절감, 기계적 성질의 향상, 주조공정의 간편화 및 제조시간 단축의 이점을 실현하기 위한 것으로, 일단에 플런저가 삽입되고, 타단이 성형 공동이 있는 성형 다이에 연결된 슬리브의 슬러리 제조 영역에 전자기장을 인가하고, 슬러리 제조 영역에 용융 금속을 주입하여 금속 슬러리를 형성하는 단계와, 플런저를 압축하여 금속 슬러리를 상기 성형 다이의 성형 공동에 주입하는 단계를 포함하는 반응고 성형용 다이캐스팅 방법 및 그 장치에 관한 것이다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명은 (α+ β)티타늄 합금을 시효처리하여 α2(Ti3Al) 상을 α상 내부에 석출시키는 단계 및 상기 단계에서 얻어진 (α+ β)티타늄 합금을 급냉하는 단계를 포함하는 기계적 물성 및 동적 파괴 특성이 개선된 (α+ β)티타늄 합금의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 방위산업, 우주항공산업, 정밀기계산업, 자동차산업 등 전략산업분야에 널리 사용되고 있는 (α+β) 타이타늄 합금의 정적(static) 또는 준정적(quasi-static) 하중 하에서뿐만 아니라 특히 동적(dynamic) 하중 하에서 일어나는 기계적 물성 및 동적 파괴 특성을 향상시킬 수 있다.본 발명의 주된 목적은 (α+β)타이타늄 합금의 정적(static)또는 준정적(quasi-static)하중 하에서뿐만 아니라 특히 동적(dynamic)하중 하에서 일어나는 기계적 물성 및 동적 파괴 특성을 향상시키는 (α+β)티타늄 합금의 제조방법을 제공하는 데 있다.본 발명의 다른 목적은 상기 제조방법을 이용해서 물성이 향상된 (α+β)티타늄 합금을 제공하는데 있다.본 발명의 목적을 달성하기 위하여,본 발명은 (α+β)티타늄 합금을 400-600 ℃에서 시효처리하여 α 2 (Ti 3 Al)상을 α상 내부에 석출시키는 단계 및 상기 단계에서 얻어진 (α+β)티타늄 합금을 급냉하는 단계를 포함하는 기계적 물성 및 동적 파괴 특성이 개선된 (α+β)티타늄 합금의 제조방법을 제공한다.
- 보유기관
- 포항기술이전센터
- 등록일
- 2006-06-12
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명은 유기금속 화학기상증착법에 의해 산화티타늄 박막이 코팅된 생체 임플란트(IMPLANT) 소재를 제조하는 방법 및 이에 의해 제조된 생체 임플란트 소재에 관한 것으로서, 구체적으로 티타늄 전구체로서의 티타늄-함유 유기금속 및 산소-함유 기체 또는 유기물을 별개의 라인을 통해 반응기에 주입시키면서 10-3 내지 1,000 MMHG의 압력 및 상온 내지 1,000℃의 범위의 온도에서 생체 임플란트 소재의 기재(SUBSTRATE)와 접촉시켜 기재 위에 산화티타늄 막을 형성하는 것을 포함하는, 본 발명에 따른 유기금속 화학기상증착법에 의한 산화티타늄 박막-코팅된 임플란트 소재의 제조방법은 표면 조도가 우수하고 두께가 균일한 산화티타늄계 박막이 코팅된 소재를 제공할 수 있으며, 이를 인공치아 등의 치과 또는 정형외과용 생체 임플란트 소재의 대량 생산에 이용할 수 있다.티타늄 전구체로서의 티타늄-함유 유기금속 및 산소-함유 기체 또는 유기물을 별개의 라인을 통해 반응기에 주입시키면서 5 내지 10 MMHG의 압력 및 350 내지 450℃의 온도에서 생체 임플란트(IMPLANT) 소재 기재(SUBSTRATE)와 접촉시켜 기재 위에 산화티타늄 막을 형성하는 것을 포함하는, 유기금속 화학기상증착법에 의한 산화티타늄 박막-코팅된 생체 임플란트 소재의 제조방법티타늄 전구체로서의 티타늄-함유 유기금속 및 산소-함유 기체 또는 유기물을 별개의 라인을 통해 반응기에 주입하면서 10 -3 내지 1,000 mmHg의 압력 및 상온 내지 1,000 ℃의 범위의 온도에서 생체 임플란트 소재 기재(substrate)와 접촉시켜 기재 위에 산화티타늄 막을 형성하는 것을 포함하는,유기금속 화학기상증착법(MOCVD)에 의한 산화티타늄 박막-코팅된 생체 임플란트 소재의 제조방법을 제공한다.또한,본 발명에서는 상기 방법에 의해 제조된,산화티타늄 박막 코팅된 생체 임플란트 소재를 제공한다.
- 보유기관
- 포항기술이전센터
- 등록일
- 2006-06-12
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일반기술
재료 > 비철재료
*원리 및 개요 낮은 생산비용으로 우수한 품질의 벌크 비정질 합금 판재를 제조할 수 있는 방법이다. 다른 추가적인 공정을 거치지 않고도 합금 용탕을 판재 형태로 성형할 수 있는 방법을 제공한다. *구성1) 합금을 구성하는 성분을 함유하는 용탕을 준비하는 단계2) 서로 반대 방향으로 회전하며 열교환 수단을 갖추고 있는 두 개의 회전부 사이로, 용탕을 공급하는 단계3) 회전부 사이로 용탕을 통과시키면서, 이것이 비정질 고체상태로 변화될 수 있는 한계냉각속도보다 더 빠른 속도로, 냉각시키는 단계*특징 및 장점1) 기공 및 균열의 발생이 매우 억제되어 있는, 양질의 비결정질 합금 판재를 생산한다.2) 이 장치를 사용하면 별도의 공정을 거칠 필요 없이 용탕으로부터 곧바로 비정질 합금 판재를 제조할 수 있으므로, 산업적 활용가치가 매우 큰 비정질 합금 판재를 매우 저렴한 비용으로 대량 생산할 수 있다.3) 비정질 합금의 적용 범위를 경제적으로 확대시킬 수 있다.
- 보유기관
- 포항기술이전센터
- 등록일
- 2006-04-20
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일반기술
재료 > 비철재료
*원리 및 개요 산화마그네슘(MgO) 박막 성장시 아연을 첨가함으로써 제조된 박막에 관한 것이다. *중요성 및 독창성 Mgo 박막의 제조시 산화아연 상이 분리되지 않는 범위내로 아연을 첨가함으로써 산화마그네슘의 결정을 그대로 유지하면서, 결정성 및 표면 미세구조가 향상되고, 표면 거칠기가 매우 적은 본 기술의 산화마그네슘 박막은 다양한 광 소자(전기 기기(電氣機器)나 회로 따위를 구성하는 단위 부품) 및 전자 소자에 사용될 수 있다.*특징 및 장점1) 산화마그네슘 박막의 성장시 아연을 고용시킴으로써 제조된 산화마그네슘 박막을 제공한다.2) 산화마그네슘 박막 성장시에 첨가되는 아연의 함량은 산화아연(ZnO)상이 분리되지 않는 범위내에서 첨가되며, 대략 0 내지 20 몰%미만의 범위일 수 있다. 3) 아연이 첨가된 산화마그네슘 박막은 MgO의 결정 구조를 그대로 유지할 수 있다. 4) 아연이 첨가된 산화마그네슘계 박막은 특정의 박막 성장 방법에 국한되지 않고,스퍼터링,열 또는 전자 빔 증착과 같은 물리적 증착법,또는 유기금속 화학 증착과 같은 화학적 증착법을 사용하여 제조될 수 있다. 5) 형성된 산화마그네슘계 박막은 아연이 첨가됨에 따라 결정성이 뚜렷이 향상되며,또한 표면 거칠기가 감소하는 등 표면 미세구조도 매우 우수하므로,다양한 광 소자 및 전자 소자에 효율적으로 사용될 수 있다.6) 아연을 고용시켜 산화마그네슘 박막의 결정성 및 미세 구조를 향상시키는 방법은 산화마그네슘 박막뿐만 아니라 이와 유사한 결정 구조를 가지는 다른 물질의 박막에도 적용할 수 있다.
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- 포항기술이전센터
- 등록일
- 2006-05-18
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명은 Ti(Al, Cr)3 복합코팅된 티타늄 알루미나이드계 합금에 관한 것으로서, 티타늄 알루미나이드계 합금의 표면에 Cr을 진공증착시키고, 여기에 Al을 확산 코팅시킴으로써 Ti(Al, Cr)3 복합코팅층을 형성할 수 있으며, 상기의 방법에 의해 제조된 Ti(Al, Cr)3 복합코팅층은 L12 입방(cubic) 구조로써, 기존의 TiAl3 코팅층에 비해 연성이 훨씬 높고, 장시간의 열응력에도 파괴나 박리가 일어나지 않으며, 5배 이상의 고온 내산화성을 갖는다.티타늄 알루미나이드계 합금의 표면에 Cr을 진공증착시키고, 그 위에 Al을 확산코팅시키는 것을 포함하는, Ti(Al, Cr) 3 복합코팅된 티타늄 알루미나이드계 합금의 제조방법.본 발명에서는 TiAl계 합금 모재에 Cr을 진공증착시키고,이어서 Al을 확산코팅시킴으로써 형성된,Ti(Al,Cr)3복합코팅층을 가진 TiAl계 합금을 제공한다.도 1은 본 발명의 Ti(Al,Cr)3 복합코팅층의 형성 과정에 따른 층 단면을 나타내는 모식도로서,본 발명의 Ti(Al,Cr)3 복합코팅층의 제조방법에 따르면,우선 TiAl 합금 모재의 표면에 통상의 진공증착법에 의해 Cr 코팅층을 형성하고 그 위에 통상의 방법에 따라 Al을 확산 코팅시킴으로써,복합코팅층,즉 외층으로서의 Al 4 Cr층과 내층으로서의TiAl 3 층을 형성시킨다.상기와 같이 복합코팅된 TiAl 모재는 800 내지 1000 ℃ 이상의 고온에 노출될 경우에 코팅층내에서의 Ti,,Al 및 Cr의상호 확산을 통해,L1 2 구조를 갖는 Ti(Al,Cr)3 층을 가진 TiAl 모재를 얻을 수 있다.
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- 2006-06-12
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명의 희토류 금속 함유 티탄산 비스무스 강유전 물질인 Bi4-xRxTi3O12 (단, R은 Nd, Gd, Pr, Sm 또는 이들의 혼합물이며, x는 0.25 내지 1.25의 수임)는 700 ℃ 이하의 낮은 상 생성온도 및 15 μC/cm2 이상의 높은 잔류 분극값(2Pr)을 가지며, 반복적인 장기간의 분극 반전후의 비휘발성 분극 감소량이 20% 이하로서 피로 현상에 대한 내구성이 우수한 특성을 갖는다. 조성을 가진 강유전 물질: Bi 4-x R x Ti 3 O 12 상기 식에서, R은 Nd, Gd, Pr, Sm 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택된 희토류 금속이고, x는 0.25 내지 1.25 범위의 수이다.본 발명의 희토류 금속 함유 티탄산 비스무스 강유전 물질인 Bi4-xRxTi3O12 (단, R은 Nd, Gd, Pr, Sm 또는 이들의 혼합물이며, x는 0.25 내지 1.25의 수임)는 700 ℃ 이하의 낮은 상 생성온도 및 15 μC/cm2 이상의 높은 잔류 분극값(2Pr)을 가지며, 반복적인 장기간의 분극 반전후의 비휘발성 분극 감소량이 20% 이하로서 피로 현상에 대한 내구성이 우수한 특성을 갖는다. 화학식 1의 조성을 가진 강유전 물질: Bi 4-x R x Ti 3 O 12 상기 식에서, R은 Nd, Gd, Pr, Sm 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택된 희토류 금속이고, x는 0.25 내지 1.25 범위의 수이다.
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- 2006-06-12
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명은 진공조의 내부에 ZnO타깃과, 상기 ZnO 타깃으로부터 이격되어 대향하도록 배열된 사파이어 기판을 구비한 플라즈마를 발생시키는 스퍼터링 장치를 이용하여, ZnO막을 형성하는 방법을 제공한다. ZnO타깃을 제공하여 스퍼터링장치내에 사용가스에 노출시키는 단계; 적어도 하나의 반응성가스를 상기 스퍼터링장치에 공급하는 단계; 전원을 상기 스퍼터링장치에 공급하여 플라즈마를 형성하는 단계; 상기 플라즈마의 작용에 의하여 25∼350℃온도에서 사파이어 기판상에 ZnO막을 1∼200Å두께로 증착하는 단계; 및 상기 증착단계이후에 기판의 온도를 400∼700℃로 상승시킨 후 상기 1차 ZnO막위에 ZnO막을 1Å~5㎛ 의 두께로 증착하는 단계를 포함한다.진공조의 내부에 ZnO타깃과, 상기 ZnO 타깃으로부터 이격되어 대향하도록 배열된 사파이어 기판을 구비한 플라즈마를 발생시키는 스퍼터링 장치를 이용하여, 상기 사파이어 기판에 ZnO막을 형성하는 방법으로서: 상기 사파이어 기판의 온도를 25∼350℃로 유지하면서 상기 사파이어 기판 상에 2차원 성장된 1차 ZnO막을 형성하는 저온 증착 단계; 및 상기 사파이어 기판의 온도를 400∼700℃로 상승시킨 후 상기 1차 ZnO막 상에 2차 ZnO막을 형성하는 고온 증착 단계를 포함하는 스퍼터링증착법을 이용한 ZnO막의 제조방법
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- 2006-06-12
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명은 유기금속 화학증착법에 의한 산화마그네슘계 박막의 제조방법에 관한 것으로서, 마그네슘-함유 유기금속 및 산소-함유 기체 또는 유기물을 반응기에 주입시키면서 10-3 내지 760 mmHg의 압력, 200 내지 700℃의 내부온도 조건하에서 다양한 기재 위에 막을 성장시키는 것을 포함하는 본 발명에 따른 유기금속 화학증착법에 의하면, 결정형 기재뿐만 아니라 무정형 기재상에서도 결정성이 우수한 산화마그네슘계 박막을 성장시킬 수 있다.마그네슘-함유 유기금속의 증기, 및 산소-함유 기체 또는 산소-함유 유기용매를 별개의 라인을 통해 반응기에 주입시키면서 기재와 접촉시켜 기재 위에 막을 성장시키는 것을 특징으로 하는, 유기금속 화학증착법에 의한 산화마그네슘계 박막의 제조방법.본 발명은 유기금속 화학증착법에 의한 산화마그네슘계 박막의 제조방법에 관한 것으로서, 마그네슘-함유 유기금속 및 산소-함유 기체 또는 유기물을 반응기에 주입시키면서 10-3 내지 760 mmHg의 압력, 200 내지 700℃의 내부온도 조건하에서 다양한 기재 위에 막을 성장시키는 것을 포함하는 본 발명에 따른 유기금속 화학증착법에 의하면, 결정형 기재뿐만 아니라 무정형 기재상에서도 결정성이 우수한 산화마그네슘계 박막을 성장시킬 수 있다.마그네슘-함유 유기금속의 증기, 및 산소-함유 기체 또는 산소-함유 유기용매를 별개의 라인을 통해 반응기에 주입시키면서 기재와 접촉시켜 기재 위에 막을 성장시키는 것을 특징으로 하는, 유기금속 화학증착법에 의한 산화마그네슘계 박막의 제조방법.
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- 2006-06-12
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재료 > 비철재료
*배경티타늄-알루미나이드 금속간 화합물은 그 자체가 가지고 있는 특성으로 인하여 응용범위가 매우 넓은 반면, 이러한 금속간 화합물 제조시 고온의 용해로와 티타늄의 높은 산화성에 따른 고진공장치가 요구되고 제조단가가 높아서 그 응용이 제한되어 왔다. *원리 및 개요1) 티타늄-알루미나이드(aluminide) 금속간 화합물로 된 여러 층 판재의 제조방법에 관한 것으로서, 조직 상태가 잘 짜여진 판재를 규격에 제한 없이 연속적으로 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다. 2) TiAl3/TiAl로 구성되어 있으며, 내부에 균열이 거의 없는 치밀화된 조직 상태를 갖는 티타늄-알루미나이드 금속간 화합물 다층 판재를 얻을수 있다.3) 이러한 다층 판재는 규격에 제한 없이 연속적으로 제조할 수 있기 때문에 그 적용범위가 매우 넓고 대량생산이 가능하다.*특징 및 장점본 기술은 여러 층의 티타늄-알루미나이드 금속간 화합물 판재의 제조방법에 관한 것이다.1) 티타늄 판재와 알루미늄 판재를 교대로 쌓은 다음, 400 내지 600℃에서 예비 열간압연(금속재료를 재결정온도 이상의 온도에서 하는 압연)하는 단계2) 예비 열간압연된 결과물을 캔닝하는 단계3) 캔닝된 결과물을 700 내지 1200℃에서 열간압연하는 단계4) 열간압연된 결과물을 800 내지 1200℃에서 열처리하는 단계
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- 포항기술이전센터
- 등록일
- 2006-05-18
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일반기술
재료 > 비철재료
*원리 및 구성 본 기술은 첨단 재료로 널리 이용되고 있는 (α+β) 타이타늄 합금의 미세조직 중 물성이 우수한 이중조직(BIMODAL)에 관한 것이다. TI-6AL-4V합금의 이중조직을 장시간 과시효(OVER-AGING)시켜 Α2 (TI3AL)상을 석출시킴으로써 기계적 특성 및 방탄 특성을 증대시킬 수 있는 (α+β) 타이타늄 합금의 이중 조직을 제시한다. *개발배경단열성 전단밴드의 형성은 재료의 동적 파괴 특성에 나쁜 영향을 미치기 때문에 이를 억제하기 위한 노력과 더불어이에 대한 평가기술의 개발이 요구되고 있는 상황이며, Ti-6Al-4V 합금이 방위산업 및 항공관련 분야에 널리 적용되면서 개선요구가 더욱 중요해지고 있다.*중요성 및 독창성(α+β) 타이타늄 합금의 미세조직 중 물성이 우수한 이중조직(bimodal)의 기계적 물성 및 동적 파괴 특성을 크게 향상시킬 수 있었으며, 이를 이용해 단열성 전단밴드의 형성 가능성을 낮출 수 있는 방안을 제시함으로써 동적변형 및 파괴성질을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 기계적 물성 및 방탄성능을 향상 시킨다.*응용분야초고속 공정, 탄도 충격과 같은 심각한 환경 하에서 보다 유용하고 안전하게 사용할 수 있는 타이타늄 합금을 개발할 수 있고, 특히 장갑재료 등 방위소재나 항공소재로의 응용이 가능하다.*특징 및 장점과시효에 따른 α2 상의 석출로 인해 2.5~3.5배 가량의 공동이 더 많이 생성되게 된다. 따라서, 재료에 가해진 동일 에너지에 대해 공동의 생성을 위해 2.5~3.5배 가량 더 많은 에너지를 소모하고, 이에 단열성 전단밴드의 형성 및 이 밴드를 따라 급속히 진행하는 균열의 구동력은 그 만큼 감소된다. 결과적으로, 동적 파괴특성이 상당히 향상된다.
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- 대구기술이전센터
- 등록일
- 2006-05-18
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일반기술
재료 > 비철재료
본 기술은 티타늄 합금재료에 ECAP(equal channel angular pressing) 가공을 수행하여 우수한 특성을 갖는 나노 결정립 티타늄 합금을 제조하는 방법 및 이에 의해 제조된 나노 결정립 티타늄 합금에 관한 것이다. 본 기술에 따른 나노 결정립 티타늄 합금의 제조 방법은, 티타늄 합금재료를 ECAP 장치의 절곡된 채널(channel)에 투입하여 가공한다. 이를 좀더 상세히 설명하면, 본 발명에 따른 나노 결정립 티타늄의 제조 방법은, 티타늄 합금재료를 준비하는 준비 단계, 및 상기 티타늄 합금재료에 등온 조건의 ECAP 가공을 적어도 2회 수행하는 ECAP 가공 단계를 포함한다. 여기서 ECAP 가공 단계에서는, 두번째 이후의ECAP 가공할 때 이전의 ECAP 가공에 대해 상기 채널 투입구의 중심을 지나는 중심축을 기준으로 회전된 상태로 상기 티타늄 합금재료를 투입하여 가공한다.티타늄 합금은 대표적인 경량금속으로 높은 비강도 및 우수한 내식성을 가지므로 항공우주용 재료, 화학공업용 재료, 생체이식 재료 및 스포츠용품 재료 등 다양한 분야에 널리 적용될 수 있다. 이러한 티타늄 합금은 초소성 특성을 구비하므로 초소성 성형을 수행하여 개체 중량 및 가공 비용을 절감시킬 수 있다. 따라서, 티타늄 합금을 각 산업 분야에 적용시 큰 부가가치를 창출할 수 있다. 티타늄 합금은 일반적으로 850 ℃ 이상의 높은 가공온도에서 10-3/초 이하의 가공속도로 가공하여야만 초소성 성형이 가능한 것으로 알려져 있다. 그러나, 초소성 특성은 미세구조에 큰 영향을 받기 때문에 미세한 결정립으로 이루어지는 티타늄 합금은 종래보다 낮은 가공온도 또는 빠른 가공속도에서 초소성 성형이 가능하다. 이에 따라, 나노 기술의 발달과 함께 미세한 결정립을 갖는 티타늄 합금의 제조 방법에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 최근 별도의 열처리 없이 심한 소성 가공을 하여 내부에 기공을 발생시키지 않으면서 결정립을 미세화하는 강소성 가공 방법 등이 제시되었다. 이러한 강소성 가공방법으로는 HPT(high pressure torsion), ECAP(equal channel angular pressing) 등이 있다. 그 중 HPT 가공 방법은 높은 압력 하에서 전단 변형하는 방법으로, 이는 상온에서 빠른 속도로 가공이 가능한 반면 재료 크기에 제한이 있고 재료의 두께 및 미세조직이 불균일한 문제가 있다. 현재 학문적으노 많은 연구가 진해되고 있는 ECAP 가공 방법은 L 자형 채널에 재료를 투입하여 재료를 전단변형시키는 방법으로, 기존의 프레스 설비를 이용하여 성형이 가능하며 스케일 업이 가능하여 경제적이다. 또한, 가공량이 증가하더라도 재료의 단면적이 감소하지 않으므로 재료에 큰 변형량을 부여할 수 있다. 그런데, 티타늄 합금은 가공온도가 높고 변형량의 증가에 따라 유동응력이 감소하기 때문에 ECAP 가공 시 표면에 극심한 균열이 발생하는 문제가 있다. 따라서, 이러한 ECAP 가공을 수행하여 나노 미터 수준의 결정립을 가지는 티타늄 합금을 제조하는데 어려움이 있어 본 기술에서는 이를 해결하고자 하였다.
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- 포항공과대학교
- 등록일
- 2006-05-12
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일반기술
재료 > 비철재료
본 기술은 스텐레스강 표면복합재료의 제조 방법에 관한 것으로서, 가속 전자빔을 이용한 TiC/SUS304 스텐레스강 표면복합재료의 제조 방법에 관한 것이다.SUS304와 같은 오스테나이트계 스텐레스강은 열처리 온도 범위 내에서는 오스테나이트 조직을 그대로 유지하기 때문에 열처리를 통해 표면을 경화할 수 없기 때문에 내마모성을 향상시킬 수 없다는 단점을 지니고 있다. 이 내마모성을 보완, 개선하기 위하여 종래에 윤활제를 사용하거나 표면코팅 방법 등이 사용되고 있으나, 윤활제를 사용하는 것은 고온에서 사용할 수 없고, 표면코팅층은 사용 중 박리가 일어날 수 있어 사용상 제약이 많은 문제점을 가지고 있었다.또한, 스텐레스강의 표면처리 방법의 일환으로 최근에는 레이저빔을 이용한 표면 합금화 또는 표면복합재료 제조 방법이 시도되고 있으나, 열효율이 40% 이하로 낮아서 표면경화층을 형성하는 데 장시간이 소용되며 표면경화층의 두께가 최대 1 mm 미만으로 매우 얇고, 중첩현상이 일어나고, 표면에서 산화현상이 일어나기 때문에 대기 중에서 제조하기 곤란하여 제조 원가가 상승될 뿐 아니라 생산성이 떨어지는 단점이 있었다.기존의 전자빔을 이용한 표면 합금화 또는 표면복합재료 제조는 비 스텐레스계 철강재료나 타이타늄 합금을 기지금속으로 사용하였으나 본 발명은 스텐레스계 철강재료를 기지금속으로 한다는 점이 다르다.본 기술은 전술한 문제점이 개선된 표면복합재료를 얻을 수 있는 제조 방법, 즉 박리가 일어나지 않는 균일하고 비교적 두껍고 높은 경도와 우수한 내마모성을 갖는 표면복합층을 구비한 표면복합재료를 대기 중에서 제조하여 생산성을 증진시킬 수 있는 표면복합재료의 제조 방법을 제공하는 것이다.본 기술은 스텐레스강을 모재로 준비하는 단계, 강화입자 및 용제(flux) 분말의 혼합체를 조성하는 단계, 상기 혼합체를 상기 스텐레스강의 상부에 도포하는 단계, 상기 혼합체가 도포된 스텐레스강의 상부에 가속 전자빔을 투사하는 단계를 포함하는 스텐레스강 표면복합재료의 제조 방법을 제공한다.본 기술에 따르면1) 재료가 가열되는 시간이 짧아서 재료 표면이 산화되지 않으므로, 대기 중에서의 제조가 용이하고, 2) 생산원가를 절감하고 생산효율을 증진시킬 수 있는 효과가 있다.3) 또한 경도가 높은 TiC 분말이 표면복합층에 형성됨으로써 경도가 높고 내마모성이 향상된 표면복합재료를 제조할 수 있을 뿐 아니라,4) 용제 분말의 혼합에 의해서 기공과 균열이 거의 발생되지 않는 균일한 표면복합재료를 제조할 수 있다.
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 비철재료
본 발명은 상기 타겟으로부터 방출되는 입자가 상기 기판 홀더에 배치된 기판 상으로 진행가능하도록 적어도 하나 이상의 홀이 마련된 도전체를 소정의 금속타겟과 기판 홀더 사이에 배치함으로써 상기 금속타겟으로부터 발생되는 금속이온과 산소의 결합을 향상시켜 반금속 산화물을 제조할 수 있는 플라즈마 스퍼터링 장치를 제공한다. 또한, 바람직한 실시형태에서는, 상기 도전체에 도전체용 전력공급부를 연결하여 추가적으로 전력을 공급하여 2차 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 이러한 플라즈마 스퍼터링 장치는 산소분해를 위한 높은 에너지를 제공할 뿐만 아니라, 추가적인 전력을 통해 서로 다른 이온가를 갖는 금속이온을 정확한 조성비로 발생시킬 수 있어 낮은 공정온도에서 반금속성 산화물을 제조하는데 매우 유용하다. 나아가, 본 발명은 상기 플라즈마 스퍼터링 장치를 이용하여 반금속성 산화물 박막을 제조하는 방법도 제공한다. 이러한 제조방법은 상기 플라즈마 스퍼터링 장치의 잇점뿐만이 아니라, Fe3O4 박막을 저온에서도 제조할 수 있으므로, 다른 자성물질과 결합하여 디바이스를 구성하는 경우에 특히 유용하게 채용될 수 있다.종래의 스퍼터링 장치의 소정의 금속타겟과 기판 홀더 사이에 상기 타겟으로부터 방출되는 입자가 상기 기판 홀더에 배치된 기판 상으로 진행가능하도록 적어도 하나 이상의 홀이 마련된 도전체를 배치함으로써, 산소분해를 향상시키고 그 분해된 산소이온과 상기 금속타겟으로부터 발생되는 서로 다른 전자가의 금속이온을 결합하여 반금속 산화물을 제조할 수 있는 플라즈마 스퍼터링 장치를 제공하는데 있다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 상기 플라즈마 스퍼터링 장치를 이용하여 반금속성 산화물 박막을 제조하는 방법을 제공하는데 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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