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본 발명은 결과물중 금속의 총몰수를 기준으로 망간(Mn)이 0.01∼50 몰%가 되도록 산화아연에 망간이 고용된 것을 특징으로 하는 산화아연계 강자성 물질을 제공한다.; 본 발명에 따른, 망간(Mn)이 도핑된 산화아연은 성장시 적정량의, 즉 산화망간 상이 분리되지 않을 정도의 망간(Mn)을 첨가함으로써, 강자성을 띄는 반도체 물질을 합성하여 다양한 광소자 및 전자 소자에 효율적으로 사용될 수 있다. 결과물중 금속의 총몰수를 기준으로 망간(Mn)이 0.01∼50 몰%가 되도록 산화아연에 망간이 고용된 것을 특징으로 하는 산화아연계 강자성 물질.
본 발명은 금속/나노소재 이종접합구조체 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 기재 위에 수직 내지는 일방향으로 성장된 나노소재에 금속을 증착시키는 본 발명의 방법에 의하면, 나노소재의 팁(tip) 부위에 다양한 전극물질이 선택적으로 증착된, 금속/나노소재 이종접합구조체를 제조할 수 있으며, 본 발명에 따른 이종접합구조체는 나노 크기의 전자소자, 센서, 광소자, 자성소자 등에 이용될 수 있다. 기재 위에 수직 내지는 일방향으로 성장된 나노소재에 금속을 증착시키는 것을 포함하는, 금속/나노소재 이종접합구조체(heterostructure)의 제조방법.
원리및 구성 : 본 기술은 질화물 반도체 발광소자에 관한 것으로서, 관통전위를 줄이기 위해 많은 방법의 하나로 기판상에 꼭지점을 갖는 요철 구조를 형성하여 줌으로써 그 꼭지점 주위로 관통 전위를 집중시킨 후에 여러 가지 방법을 통하여 전위가 성장하는 것을 막아주어 관통전위가 적은 질화물을 이용한 발광소자에 관한 것이다. 본 발명의 질화물 반도체 발광소자는 꼭지점을 구비하도록 패터닝 된 기판을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면 기판상에 요철을 가지는 결함이 적은 질화물 박막을 사용하여 발광소자를 구현함으로써 기판상의 산란 회절 효과를 증대 시켜 광 추출효율을 증대 시킬 수 있으며 결함이 적어짐으로 인해 고신뢰성, 고휘도의 질화물계 발광 소자를 제공할 수 있다중요성 및 독창성 : 본 기술은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로써, 본 발명의 목적은 기판에 꼭지점을 갖는 요철 구조를 적용하여 관통전위를 줄이기 위한 것으로 관통전위가 적은 고품위 질화물계 발광소자를 제공하는 데 있다.발명의 구성 : 본 기술의 질화물 반도체 발광소자는 꼭지점을 구비하도록 패터닝 된 기판을 포함하는 것을 특징으로 한다. 기판은 실리콘, 실리콘카바이드 및 사파이어 중 선택되는 1종 이상의 물질을 포함하는 것이 바람직하다. 꼭지점을 가지는 패턴의 평면은 원형, 삼각형, 사각형 및 다각형 중 선택되는 1종의 형상을 구비한다. 기판 상부에는 제 1질화물 박막이 성장되고, 상기 제 1질화물 박막 중 하부에 기판에 형성된 꼭지점이 위치한 부분은 선택적으로 식각되거나, 상기 제 1질화물 박막 중 하부에 기판에 형성된 꼭지점이 위치한 부분은 하부에 위치한 꼭지점의 일부와 동시에 선택적으로 식각되는 것이 바람직하다. 본 기술에서 상기 기판에 형성된 꼭지점 주위에 유전체막을 패터닝 하고, 상기 유전체막은 단일층 또는 복층으로 구성되는 것이 바람직하다. 적용 제품 및 경쟁 제품 : 일본 니치아와 국내 삼성에서 패턴된 사파이어 기판을 이용한 고휘도 발광소자에 대한 기술을 갖고 있다. 이 기술은 이것들에 대응하여 광산란을 증가 시킴과 동시에 결함이 적은 에피를 성장 할 수 있는 방법을 제공한다. 따라서 이 기술을 적용하여 고휘도 발광소자를 개발 할 수 있으며, 신뢰성 향상등을 기대 할 수 있다. 주로 , 신호등이나 BLU등에 들어가는 고휘도, 고신뢰성 발광소자 제작에 사용 될 수 있을것이다.
본 발명은 평판 디스플레이와 같은 표시장치에 사용되는 차광막인 블랙 매트릭스용 박막 제조방법에 관한 것으로, 박막의 제조시에 크롬산화물층의 광차단 효과를 향상시킬 수 있는 알루미나(Al2O3)층을 증착하여 형성함으로써, 안정적이면서도 광차단 효과가 한층 향상된 블랙 매트릭스용 박막을 제공할 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 전자빔을 이용한 전자디스플레이용 컬러필터의 저온 큐어링 방법 및 이를 이용한 전자디스플레이용 컬러필터 제조 방법에 관한 것으로서, 종래 열적(thermal) 가열 방식에 의한 큐어링(curing) 방법은 차세대 플렉서블 디스플레이의 제조공정에 적합하지 않은 문제를 해결하기 위하여, 컬러 레지스트 패턴을 형성한 후 100℃ 이하의 온도에서 큐어링 할 수 있는 전자빔저온 큐어링 방법을 제공함으로써, 기판의 손상을 최소화 하고, 컬러 패턴의 치수 제어 및 패턴의 정세화가 용이해지도록 하는 발명에 관한 것이다.
본 발명은 부활성제를 포함하는 적색 형광체 및 이것의 제조방법에 관한 것으로, 특히 Al2O3(산화알루미늄)을 모체로 하는 조성물에 산화크롬(Cr2O3, Cr3O4, CrO)등을 활성제로 포함하고, 유로피움(Eu), 프라시디미움(Pr), 철(Fe), 세륨(Ce), 사마륨(Sm) 등으로 이루어진 군에서 하나 이상이 선택된 원소를 부활성제로 더 포함하는 적색 형광체에 대한 것이다. 이러한 본 발명에 의하면 610 nm 부근의 발광 파장을 나타내었던 종래의 SrTiO3:Pr, Y2O3:Eu, Y2O3S:Eu 등과 같은 기존의 적색 형광체 보다 색순도 및 발광효율이 높은 650~750 nm 부근의 발광 파장을 가지는 적색 형광체를 제공할 수 있다.
o 기술 요약 및 특징본 발명은 광염기 발생제를 포함하는 신규한 포지티브형 감광성 폴리이미드 수지 조성물에 관한 것으로서, 용해성 폴리이미드, 폴리아믹산 및 광염기 발생제로써 옥심-우레탄 그룹을 지닌 화합물을 함유한 미세패턴 형성용 감광성 폴리이미드 수지 조성물 제공함o 관련기술정보 및 현황 - 최성학, 송석정, “반도체재료용 폴리이미드‘. 고분자과학과 기술, 16, 20 (2005). - 이희우, 민성규, “저유전물질의 개발동향”, 고분자과학과 기술, 16, 29 (2005).