산업기술 통합검색
본 기술은 연속식 마이크로파 합성법을 이용한 무기소재의 제조방법 및 그 장치에 관한 것으로 종래 결정화에 장시간이 소요되었던 회분식 수열 합성법과 달리 소요시간이 1/10~1/50 정도로 단축되고, 기존의 회분식 수열 또는 마이크로파 합성법에 비해 제조 및 수거 공정이 연속적이므로 비교적 작은 설비로도 대량 생산에 용이할 뿐만 아니라 다공성분자체 합성시 유기 주형물질의 사용을 절감할 수 있는 무기소재의 제조방법 및 그 장치에 관한 것이다.
본 기술은 감광성 내열절연체 조성물에 관한 것으로 광산발생제와 빞에 의해 감광된 부분은 현상액에 의해 용해되고, 빛을 받지 않은 부분은 남아 있다가 후공정인 가열공정에 의해 내열성고분자로 전환이 가능한 기능을 가진 아세탈 또는 이의 고리화 유도체를 즉쇄로 포함하는 폴리아미드 올리고머가 함유되어 있어 패시베이션 막, 완충막 또는 복합 다층인쇄회로기판의 층간 절연막 등으로의 사용이 가능하 감광성 내열절연체 조성물에 관한 것이다. 본 기술은 광산발생제로서 방향족 비스설포닉디이미드 화합물과 함께 에스터기를 측쇄로 포함하는 폴리아미드 올리고머가 적정 함량비로 포함되어 있어 후노광가열공정(PEB)공정의 최소화, 후노광지연효과(PED)의 영향을 최소화 할 수 있다는 장점을 갖고 있다.
본 기술은 다수의 지방족 고리구조를 포함하는 신규 가용성 폴리이미드 수지에 관한것으로 다양한 구조의 지방족 고리구조가 포함된 신규 방향족 디아민 단량체와 방향족 테트라카르복실산 이무수물을 사용하여 내열성, 용해성 및 투명성이 우수한 새로운 형태의 폴리이미드 수지와 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.본 기술은 기존 폴리이미드 수지의 제조에 사용되었던 방향족 디아민 대신 새로운 구조의 디아민을 단량체로 사용하여 여러가지 종류의 방향족 카르복실산 아무수물과 반응시킴으로서 뛰어난 내열성 및 우수한 용해특성을 가지는 신규 폴리이미드 수지를 제조하였으며, 그 결과 얻어진 종합체들은 260~410도의 유리전이 온도를 나타내었으며, 두페닐 그룹사이에 치환된 지방족 고리의 갯수가 증가할수록 내열성은 증가하는 특성을 나타낸다. 또한 각종 유기용매, 즉 m-크레졸, N-메틸피롤리돈, 디메틸아세트아미드 등에 상온에서 조차 쉽게 용해되는 뛰어난 용해특성을 나타낸다.
본 발명은 전해셀에 관한 것으로서, 애노드 전해액이 유입되며 전기분해 후에 애노드 전해액이 배출되는 애노드 전해액 수용판; 상기 애노드 전해액 수용판과 대향되게 구비되고 캐소드 전해액이 유입되며 전기분해 후에 캐소드 전해액이 배출되는 캐소드 전해액 수용판; 상기 애노드 전해액 수용판에 수용된 전해액과 접하는 애노드 전극판; 상기 캐소드 전해액 수용판에 수용된 전해액과 접하는 캐소드 전극판; 상기 애노드 전극판과 캐소드 전극판 사이에 개재되는 격막으로 이루어지며 적층된 것을 특징으로 한다. 상술한 바와 같이 본 발명은 전해셀을 소형화할 수 있으며 전해셀 내에 전해액의 투입 및 배출을 용이하도록 하며, 전극과의 접촉시간 및 접촉면적을 증가시킴으로써 전해효율을 향상시킬 수 있고, 전력소모가 적으며, 전해셀이 적층되는 조립식으로 되어 있어 청소 및 유지보수가 용이한 장점이 있다.
본 발명은 유기 폐액의 매개 전기화학적 산화(MEO) 공정에서 아노드액(anolyte)과 캐소드액(catholyte)에서 물을 제거하는 멤브레인 증류장치에 에 관한 것으로서, 상기 멤브레인 증류장치는 멤브레인 증류법(Membrane Distillation)을 이용하여 세륨 3가(Ce3+)와 세륨4가(Ce4+), 질산, 유기물 및 물로 이뤄진 MEO 공정의 아노드액(anolyte)과 물과 질산으로 이루어진 캐소드액(catholyte)에서 물을 제거하는 장치이다. 멤브레인 증류장치를 구비하는 매개 산화처리 장치는 매개 전기화학적 산화(MEO) 공정에서 강력한 산화제인 세륨 4가(Ce4+)와의 반응에 안정하며, 고농도의 질산용액에 대한 내구성이 좋은 다공성 불소수지의 멤브레인을 사용하며, 아노드액 또는 캐소드액에서 선택되는 전해액의 온도와 멤브레인 장치 내 응축기의 냉각수 온도 차를 이용하여 물을 선택적으로 증류하는 방법을 사용함으로써 별도의 운전 장치 및 비용이 발생하지 않는 장점이 있다. 따라서, 본 발명에 따른 매개산화 처리 장치는 별도의 열원 공급 장치나 가압 장치 없이 아노드액 또는 캐소드액의 물을 선택적으로 증류하여 제거하는 멤브레인 증류장치를 구비함으로써, 아노드액 또는 캐소드액에서 선택되는 전해액의 농도를 일정하게 유지할 수 있어, 유기 폐액의 처리 효율을 안정적으로 유지할 수 있는 효과가 있다.
○발명의 정의본 발명은 근적외선 흡수 색소로 유용한 신규 시아닌 화합물과 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 1-벤질-4-클로로-1,2,3,6-테트라하이드로 피리딘을 중심으로 하고, 양쪽에 인돌 유도체 또는 벤조티아졸 유도체를 축합하여 특정 치환기로 치환된 신규 구조의 물질로서 근적외선 흡수용 색소 및 고밀도 광기록용 매체로 유용한 색소의 대칭구조인 다음 화학식 1로 표시되는 시아닌 화합물과 이의 제조방법에 관한 것이다.○발명의 효과발명에 따른 신규 시아닌 화합물은 최대흡수파장 영역이 751 ∼ 776 nm이며, 몰흡광계수 80,120 ∼ 192,700 Lmol-1cm-1으로 우수한 흡광도를 가지며, 특히 기존의 색소들보다 용매에 대한 용해성이 높아 기존의 광기 매체의 재료 이외에 근적외선을 흡수하는 색소로서 적용성이 용이하다. 따라서, 본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 시아닌 화합물을 근적외선 흡수능을 가지고 있으므로 광전자 산업 및 생물공학 산업 등 여러 방면에 걸쳐 응용이 가능하다. 즉, 본 발명의 근적외선 색소는 광학기록 및 정보저장시스템, 레이저 프린터, 농업용 필름(보온, 식물육성 조절용), 적외선 전자사진, 에너지 저감을 위한 적외선 차단 필름 등의 폭넓은 응용이 가능하게 하였다.또한, 본 발명에 속하는 경제적인 제조방법을 통하여 고순도, 내열 및 내광 등의 물성이 우수한 색소를 공업적으로 용이하게 얻을 수 있다.
○발명의 정의본 발명은 구형 입상 활성탄의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 대부분의 핏치(pitch) 분말에 일부분의 탄소계 분말을 첨가하여 충분히 혼합시킨 후 수용성 고분자 수용액을 부가하면서 구형으로 입상화시킨 다음 산화, 탄화 및 활성화하는 일련의 공정으로 이루어짐으로써, 기존의 구형 활성탄의 제조방법과는 달리 핏치 성분을 탄소계 기공소재로 전환시키는 공정이 단순화되고, 구형 활성탄의 제조 수율을 향상시켜 제조원가를 대폭 절감시킬 수 있을 뿐만 아니라, 제조된 활성탄의 내마모도 등 기계적 강도가 우수하여 액상과 기상처리 분야에서 효율적으로 사용할 수 있는 등의 장점을 가지는 구형 입상 활성탄의 새로운 제조방법에 관한 것이다○발명의 효과본 발명은 핏치 분말에 탄소계 분말을 가하여 회전상태에서 간단히 균일한 입도로 제어할 수 있는 성형화 방법을 제시함으로써, 종래의 방법에 비하여 구형 입상 활성탄의 성능과 수율을 개선시킬 수 있을 뿐만 아니라 제조 단가를 절감 시킬 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 비닐지 두장을 맞대고 양측면과 하단부를 융착시켜 융착부를 형성하되, 상기 융착부는 파형을 이루도록 융착되어져 주름부가 형성되도록 하는 단계에 의해 제조되어지는 비닐지를 이용한 주름용기 제조방법을 제공하기 위한 것으로, 본발명은 종래 금형을 사용하여 브로어성형방법에 의해서만 제조되어지던 주름용기를 단순히 비닐융착지만을 사용하여 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 저렴한 비닐 시트를 사용하여 주름용기를 제조함으로써 생산비용의 현저한 절감이 가능한 효과를 갖는 것이다.
2.천연염료를 이용한 알루미늄 염색기술 1)기술의 개요 이 기술은 알루미늄을 황산과 크로뮴산, 인산 등 산성수용액 속에서 양극산화처리해 다공질형 산화피막을 형성한 다음, 천연 식물의 소재에서 추출한 염색염료를 이용해 알루미늄 산화피막층에 염색하는 기술.2)기술의 효과 본 기술은 천연염료를 이용하여 알루미늄 염색하므로염색색상이 미려하고 친환경적이며 인체에 무해하다.또한 염료의 종류에 따라 색상 및 그 효과도 달리 할 수 있다.
본 발명은 실리콘 웨이퍼 고속 박층화 (Fast Si wafer thinning) 기술에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 F가 포함된 가스(F2, NF3) 및 일산화질소 (NO) 가스를 이용하는 CDE(chemical dry etching)를 이용한 Si 웨이퍼 박층화 장치 및 방법에 관한 것이다.grinding 후 플라즈마를 이용할 경우 낮은 thinning 속도를 가지는데 이데 대한 대체 공정으로 적용이 가능하며, 또한 grinding 후 CMP나 dry polishing일 경우 45～50㎛ 이하의 두께까지 적용하는 경우 기계적 손상이 발생하는데 이에 대한 대체 공정으로 적용이 가능하며, 디바이스 사이즈가 줄어들면서 습식 방법으로 할 경우 응력으로 인하여 습식 처리에 한계가 발생한다. 이러한 문제점에 대한 대처 공정으로 적용이 가능하다. 본 발명이 적용될 경우 공정의 비용의 감소와 대기압에서 높은 thinning 속도를 가질 수 있다. 기존의grinding 후 CMP나 dry polishing일 경우 45～50um 이하의 두께까지 적용하는 경우 기계적 손상 발생이 증가 하게 된다. 본 연구에서는 grinding 후 remote plasma를 이용하여 20 ㎛ 이하의 최종 두께까지 thinning을 속도를 높일 수 있다. 또한 디바이스 사이즈가 줄어들면서 응력으로 인하여 습식 처리에 한계가 발생하는데 즉 나노 스케일의 초미세 선폭에 식각에 대한 활용이 예상 된다.grinding 후 이 기술을 적용할 경우 높은 thinning 속도를 가지므로 공정상 시간을 줄일 수 있으며 또한 grinding 후 CMP나 dry polishing일 경우 45～50um 이하의 두께까지 적용하는 경우 기계적 손상 발생이 증가 하게 되는데 이에 대체 공정으로 이 기술을 적용 할 경우 기계적 손상을 막을 수 있다.본 기술의 특징은 grinding 후 플라즈마를 이용할 경우 낮은 thinning 속도를 가지는데 이로 인하여 생성성이 낮다는 것이다. 이에 대한 대처 방법으로 장치 및 공정 개선을 통하여 thinning 속도를 증가시킬 수 있다.
본 발명은 구리촉매와 포스핀리간드의 존재 하에 다양한 알파,베타-알킨 에스터 화합물로부터 β-위치에 보론이 첨가된 알켄 에스터 화합물을 효과적으로 제조하는 방법에 관한 것이다.β-위치에 안정한 보로네이트 에스터가 첨가된 알켄 화합물은 유기합성의 관점에서 새로운 탄소-탄소 결합반응 또는 다른 작용기로의 변환이 가능한 유용한 중간체로 쓰일 수 있다.본 발명은 β-위치에 보론이 첨가된 알켄 화합물을 한 번의 반응스텝에 의해서 손쉽게 제조하기 때문에 다양한 유기합성을 하는데 사용될 수 있으며, 유기합성의 관점에서 유용한 생성물을 형성하는 중간체로 이용이 가능하기 때문에 시장성 확보가 충분하다고 사료된다.본 발명은 유기합성의 관점에서 새로운 탄소-탄소 결합반응 또는 다른 작용기로의 변환이 가능한 유용한 중간체로 쓰일 수 있으며, 정밀 화학제품 생산에 응용이 가능하다.또한 한 번의 반응스텝을 통해서 반응이 진행되어 손 쉽게 제조할 수 있다. 때문에 본 발명을 통한 β-위치에 안정한 보로네이트 에스터가 첨가된 알켄 에스터 화합물을 제조하는 방법은 유용하게 쓰일 수 있다.보론이 두 번 첨가된 생성물의 생성을 배제하기 위해서 비스파나콜라이토다이보론의 양을 조절함과 동시에 알코올의 당량에 따라 리간드를 선택하여 반응함으로써, 원하던 하나의 생성물을 얻을 수 있으며, 이러한 생성물은 다양한 유기합성에 사용될 수 있으며, 다른 작용기로의 변환이 가능한 중간체로 쓰일 수 있다.본 발명은 기존의 하이드로보레이션을 탈피하여 구리촉매와 비스피나콜라이토다이보론을 사용하여 알킨 에스터 화합물로부터 알켄 에스터 화합물을 제조하는 위치,입체 선택적인 β-보론화 방법을 성공적으로 수행하였다.
저유전율 박막, 고경도 박막본 발명은 차세대 고집적 반도체 개발 및 상용화를 위해서는 반드시 필요한 유전율 2 이하의 박막 및 이의 제법에 대한 것으로, 현재로는 시장성이 없지만 향후 5-10년내에는 모든 반도체에 적용될 것으로 예상되므로 미래 시장성이 매우 높은 것으로 판단됨.본 발명이 적용될 반도체 산업은 거대 장치 산업으로 별도의 기업으로 시장을 개척하기 보다는 기존 반도체 업체에 기술 이전을 통하여 산업화하는 것이 적절하다고 판단함.본 발명의 나노적층구조 실리카 박막은 낮은 흡습성과 높은 표면강도 및 저유전상수를 가짐으로써 차세대 반도체 산업의 멀티칩 패키지용 소재에 요구되는 특성을 가지는 장점이 있다. 특히, 순수한 실리카만을 원료로 하며 공정이 간단하고 별다른 표면처리를 하지 않고 저유전상수를 갖는 박막을 제조한 경우는 아직 전 세계적으로 선례가 없으므로 이러한 합성은 향후 멀티칩 패키지용 저유전재료, 칩간의 배선재료 등의 다양한 분야에 응용될 것이다.본 발명에서는 기계적 강도와 화학적 안정성을 갖추었으며 동시에 유전율을 1.15~1.7로 획기적으로 낮춘 실리카 물질을 개발하여, 지금까지의 저유전체 물질 개발 연구의 모든 목적을 세계 최초로 달성하였다.
페넴 중간체인 다이아조 화합물에서 비사이클릭 케토에스테르 화합물을 제조하기 위해 로듐 촉매를 사용하여 제조하는데, 이때 쓰이는 로듐 촉매가 고가의 촉매라 산업적으로 비용이 많이 든다. 보조 촉매로써 아연 화합물을 같이 사용하면 강력한 활성을 뛴 로듐 촉매의 량을 현저히 줄일 수 있으며 빠른 반응속도를 가진다. 비용 면에서 값싼 아연 촉매를 같이 사용 하고 고가의 로듐 촉매의 사용량을 줄여 매우 경제적이며, 산업적으로 유용하다.
본 기술은 청색 발광다이오드 또는 근자외선 발광 다이오드를 광원으로 하는 백색 LED의 형광체 재료가 되는 산/질화물 분말을 안정적인 재현성으로 고효율 산/질화물 형광체를 제조하는 방법 및 그의 소성 장치의 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 기술의 목적을 달성하기 위해 본 기술은 일반식 (M1)x(M2)y Si9Al3(O, N)16 (단, M1는 Ca, Ba. Sr, Mg, Y, La, Ga, Zn, Zr, Li, Bi으로 이루어진 군에서 1종 이상의 원소이며, M2는 Ce, Pr, Eu, Tb, Ho, Sm, Yb, Er 및 Mn로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 원소이며, 0≤x≤2, 0<y≤ 0.9)으로 표시되는 α형 사이알론 분말의 제조방법으로서, 질화규소, 질화알루미늄, M1 함유 화합물, M2 함유 화합물 및 필요에 따른 산화규소 및 산화알루미늄을 포함하는 합성분말을 도면 2에 도시한 소성 장치에 충전하고, 5%H2 / 95%N2 가스를 이용하여 1400 -1700 ℃, 6 - 15 hr 환원 가열처리함으로써 α형 사이알론을 제조하고, 상기 소성 장치와 가열처리에 의해 얻어진 상기 α형 사이알론 분말의 평균 입경이 0.7 - 2 ㎛ 전체 α형 사이알론 분말의 90% volume ratio 가 10 ㎛ 이하의 입경이 되도록 α형 사이알론 분말을 제조하는것을 특징으로 한다.본기술은 청색 LED 또는 자외선 LED를 광원으로 하는 백색 LED에 바람직한 산질화물 분말을 안정적이면서 다량으로 제조할 수 있다. 국내외 전자산업의 대변환으로 백색가전 중심에서 반도체, LCD, 이동통신 단말기 등으로 소재산업 및 신소재산업 각광으로 빠른 시일 내 디스플레이시장 우위를 선점할 것으로 사료됨.국내 전자산업의 대변환으로 백색가전 중심에서 반도체, LCD, 이동통신 단말기 등으로 소재산업 및 신소재산업 각광으로 빠른 시일 내 기업화가 가능 할 것으로 사료됨.본기술은 청색 LED 또는 자외선 LED를 광원으로 하는 백색 LED에 바람직한 산질화물 분말을 안정적이면서 다량으로 제조할 수 있고 백색 LED용 형광체로서 적당한 입도를 가지며, 표면결함이 없으므로 발광 특성이 매우 우수하다. 정보산업,소재본 기술은 일반식 (M1)x(M2)y Si9Al3(O, N)16 (단, M1는 Ca, Ba. Sr, Mg, Y, La, Ga, Zn, Zr, Li, Bi으로 이루어진 군에서 1종 이상의 원소이며, M2는 Ce, Pr, Eu, Tb, Ho, Sm, Yb, Er 및 Mn로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 원소이며, 0≤x≤2, 0<y≤ 0.9)으로 표시되는 α형 사이알론 분말의 제조방법으로서, 질화규소, 질화알루미늄, M1 함유 화합물, M2 함유 화합물 및 필요에 따른 산화규소 및 산화알루미늄을 포함하는 합성분말을 도면 2에 도시한 소성 장치에 충전하고, 5%H2 / 95%N2 가스를 이용하여 1400 -1700 ℃, 6 - 15 hr 환원 가열처리함으로써 α형 사이알론을 제조하고, 상기 소성 장치와 가열처리에 의해 얻어진 상기 α형 사이알론 분말의 평균 입경이 0.7 - 2 ㎛ 전체 α형 사이알론 분말의 90% volume ratio 가 10 ㎛ 이하의 입경이 되도록 α형 사이알론 분말을 제조하는 것을 특징으로 한다.
특정 가스와 반응하는 재질이 코팅되어 있는 장주기 격자로 이루어진 가스센싱부와 가스센싱부에서 발생한 광학적 변동량을 측정하기 위한 단주기 격자 기반의 신호처리부로 이루어진 격자형 분산 가스센서 시스템으로서, 측정하고자 하는 가스가 혼합되어 있는 경우에도 각 가스의 농도를 분리하여 측정 가능한 다중 광센서, 원거리 측정이 가능한 원격 가스 센서 및 분산 센서 구성이 가능하다.현재의 반도체가스센서 및 접촉연소식 가스센서 시장을 대체할 수 있으며, 경제성면에서 간단하고 다양한 가스를 동시에 측정할 수 있는 시스템 구성이 가능하므로 기존 가스센서에 비해서 상당히 저렴하게 제작할 수 있음.또한 광학적 측정 방법을 기반으로 하여 안정성이 높고 정확도가 높음.본 발명에서 제안하는 격자형 분산 가스 센서는 장주기 격자및 단주기 격자 기반으로 이루어져 있으며, 측정하고자 하는 가스가 혼합되어 있는 경우에도 각 가스의 농도를 분리하여 측정가능하고 원거리 분산 센서 시스템 적용이 가능하다. 따라서 시스템 구성이 간단하고, 소형이면서 여러 종류의 가스를 동시에 측정할 수 있다.기존의 반도체식 센서와 접촉연소식에 비해서 구성이 간단하며 혼합된 가스의 농도 분석이 가능한 다중 센서 구성 및 동시에 여러 장소의 가스를 검출할 수 있는 분산 세서 구성이 가능하다.
본 기술은 밴드 갭 에너지가 상이한 이중층 광분해 촉매를 이용하여 방향족 고리 화합물을 분해하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 3.0 eV 미만의 밴드 갭 에너지를 갖는 촉매 및 이산화티탄 촉매를 함유하는 광촉매층을 함유하여 기상 조건에서 방향족 고리 화합물을 효율적으로 제거할 수 있는 밴드 갭 에너지가 상이한 이중층 광분해 촉매를 이용하여 방향족 고리 화합물을 분해하는 방법에 관한 것이다.상기 목적을 달성하기 위하여, 본 기술은 지지체 및 상기 지지체 상에 고정된 광 촉매층을 포함하되, 상기 광 촉매층은 3.0 eV 미만의 밴드 갭 에너지를 갖는 촉매; 및 이산화티탄 촉매를 포함하는 광분해 촉매와 방향족 고리 화합물을 접촉하는 단계를 포함하는 방향족 고리화합물의 분해 방법을 제공한다.본 기술에 따르면, 밴드 갭 에너지가 3.0 eV 미만으로, 이산화티탄보다 작은 광촉매를 건식도포법으로 일차 고정하고, 그 위에 다시 습식도포법으로 이산화티탄을 도포시킴으로써 건식도포층 광촉매의 감광제 효과를 얻을 수 있으며, 석영관 표면에 대한 이산화티탄 고정층의 접착력 불량을 개선하는 효과가 있다. 또한, 본 기술에 따르면, 종래의 실란 대신 졸-겔법으로 무결정 티타늄계 화합물을 합성하여 바인더로 사용함으로써, 이산화티탄과의 친화력이 좋고 고온상태에서도 장기간 사용할 수 있는 효과가 있다.
본 기술은 비표면적이 증가된 신규한 이산화티탄 촉매를 사용하여 휘발성 유기물(VOC)을 분해하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이산화티탄을 졸겔법으로 제조함에 있어서 계면활성제를 첨가하여, 종래의 이산화티탄 촉매에 비해 비표면적이 넓고, 촉매 단위 중량당 광분해능이 높은 이산화티탄 촉매를 이용하여 VOC를 분해하는 방법에 관한 것이다.본 기술은 지지체, 및 지지체 상에 고정되고, 비표면적이 100 내지 300 m2/g인 이산화티탄 촉매를 함유하는 이산화티탄 촉매층과 휘발성 유기물(VOC)을 접촉시키는 단계를 포함하는 휘발성 유기물(VOC)의 분해 방법을 제공한다.본 기술에 따른 이산화티탄 촉매는 미세한 표면기공을 가지고 있어 기존 이산화티탄에 비해 비표면적이 2배 이상 넓기 때문에 촉매 단위 중량당 광분해능이 높다.
본 기술은 밴드 갭 에너지가 상이한 물질을 함유하는 광분해 촉매 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 3.0 eV 미만의 밴드 갭 에너지를 갖는 촉매 및 이산화티탄 촉매를 함유하는 광촉매층을 함유하여 기상조건에서 방향족 고리화합물을 효율적으로 제거할 수 있는 밴드 갭 에너지가 상이한 물질을 함유하는 광분해 촉매 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 기술의 목적은 상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 산화력이 증가되어 방향족 고리 화합물을 효과적으로 제거할 수 있는 광분해 촉매 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.본 기술에 따르면, 밴드 갭 에너지가 3.0 eV 미만으로, 이산화티탄보다 작은 광촉매를 건식도포법으로 일차 고정시키고, 그 위에 다시 습식도포법으로 이산화티탄을 도포시킴으로써 건식도포층 광촉매의 감광제 효과를 얻을 수 있으며, 석영관표면에 대한 이산화티탄 고정층의 접착력 불량을 개선하는 효과가 있다. 또한, 본 기술에 따르면, 종래의 실란 대신 졸-겔법으로 무결정 티타늄계 화합물을 합성하여 바인더로 사용함으로써, 이산화티탄과의 친화력이 좋고 고온상태에서도 장기간 사용할 수 있는 효과가 있다.
○ 기술발명의 목적 : 기능성 나노 이온교환체를 전기방사법을 이용하여 이온교환 능력이 우수하고 이온선택성이 뛰어난 나노 이온교환 섬유를 제조하고자 함.○ 기술 요약 및 특징 : 본 발명은 하이퍼브랜치 폴리스틸렌을 합성하여 polystyrene-co-acylic acid (이하 PSAA라 칭함)와 블랜딩한후 설폰산기를 도입하여 전기방사법을 이용하여 이온교환 나노 전구체를 제조한후 UV 조사법으로 광가교 시킨 것으로, 기존 이온교환 섬유에 비해 다량의 관능기를 도입시킬 수 있어 이온교환 능력이 우수하고 이온선택성이 뛰어난 장점을 가지고 있음.○ 색인어 : 고분기 폴리스틸렌, 반응형 아크릴산 수지, 이온선택, 나노섬유 구조체
○ 기술발명의 목적 :본 발명은 고분자 마이크로 섬유 제조를 위한 미세유체 칩 및 이를 이용한 고분자 마이크로 섬유의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 긴 원통형의 모노머 제트 스트림을 형성 하는 마이크로 섬유 제조 장치를 만들고, 이 장치를 이용하여 광중합을 통해 실시간으로 고분자 마이크로 섬유를 제조하는 방법에 관한 것이다. ○ 기술 요약 및 특징 : 본 발명은 긴 원통형의 모노머 제트 스트림을 형성 하는 마이크로 섬유 제조 장치를 만들고, 이 장치를 이용하여 광중합을 통해 실시간으로 고분자 마이크로 섬유를 제조하는 방법에 관한 것으로, 이를 위하여 본 발명은 종래의 유리 모세관을 사용하는 대신 소프트리소그래피 공정을 통해 손쉽고 균일하게 제작 된 미세유체 칩을 이용하여 긴 원통형의 모노머 제트 스트림을 형성하고 여기에 자외선을 조사하여 균일하고 연속적인 고분자 마이크로 섬유를 실시간으로 제조하는 것에 특징이 있다.○ 색인어 : 미세유체 칩, 광중합, 단분산, 폴리우레탄, 마이크로 비드