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일반기술 화학 > 표면분석화학 (B62, C15)

신소재 표면 처리 공정 최적화 기술

국내 산업체에서 제작하는 다양한 신소재의 표면 화학 조성을 TOF-SIMS로 측정하여, 표면 처리 공정의 적합화, 공정시의 표면 오염 정도 판독, 원재료의 이상 유무 등을 판별함으로써, 신소재의 표면처리 공정을 최적화하고, 제품의 부가 가치를 높일 수 있는 기술입니다. 상세한 내용은 신소재 표면 화학 조성 측정법, 신소재 표면 오염 정도 판별법, 신소재의 원재료 적합성 판별법 등이 있다. 신소재의 표면 1 nm 이내의 표면 화학 조성을 ppb 정도의 농도도 측정 가능한 기술로, 국내 고부가 가치 신소재 개발에 크게 기여할 것이라고 기대함. 신소재 표면 화학 조성 측정법, 신소재 표면 오염 정도 판별법, 신소재의 원재료 적합성 판별법 등이 있다. 제품의 부가 가치를 높일 수 있는 기술입니다. 신소재의 표면 1 nm 이내의 표면 화학 조성을 ppb 정도의 농도도 측정 가능한 기술로, 국내 고부가 가치 신소재 개발에 크게 기여할 것이라고 기대함. 유리섬유, 메탈 합금류, 고분자 등의 모든 다양한 신소재의 표면 처리 공정의 최적화 및 표면 오염 물질의 확인 및 정도의 판별 및 원자재 적합성 판별이 필요한 분야.

보유기관

한국표준과학연구원

등록일

2006-06-12

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일반기술 화학 > 표면분석화학 (B62, C15)

X선 페이즈 콘트라스트 고배율 조직 검사 시스템 및 이를 이용한 조직 검사방법

본 발명은 X 선 페이즈 콘트라스트 고배율 조직 검사 시스템 및 이를 이용한 조직 검사방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 (ⅰ) 방사광 X 선, 봉합튜브(sealed-tube) X 선 및 레이져 X 선으로 구성된 그룹에서 선택되는 1종의 X 선 발생수단; (ⅱ) 시료를 투과한 X 선을 가시광선으로 전환하는 가시광선 전환수단; (ⅲ) 가시광선 상을 확대하는 광학계; (ⅳ) 상기 광학계에 의해 확대된 상을 검출기에 고정화하는 촬영수단; 및 (ⅴ) 상기 촬영수단에 의해 고정화된 영상의 재생수단을 포함하는 조직 검사 시스템 및 이를 이용한 조직 검사방법에 관한 것이다. (ⅰ) 방사광 X 선, 회전 음극 X 선, 봉합-튜브 X 선 및 레이져 X 선으로 구성된 그룹에서 선택되는 1종의 X 선 발생수단; (ⅱ) 시료를 투과한 X 선을 가시광선으로 전환하는 가시광선 전환수단; (ⅲ) 시료를 투과한 X 선상을 확대하는 광학계; (ⅳ) 상기 광학계에 의해 확대된 상을 검출기에 고정화하는 촬영수단; 및 (ⅴ) 상기 촬영수단에 의해 고정화된 영상의 재생수단을 포함하는 X 선 페이즈 콘트라스트 고배율 조직 검사 시스템.

보유기관

포항공과대학교

등록일

2007-08-10

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일반기술 화학 > 표면분석화학 (B62, C15)

단일 공정을 통해 ITO 유리표면에 아민기 함유 분자층을 형성하는 방법

본 발명은 ITO 유리 표면에 소량 존재하는 친핵성 작용기인 히드록시기와 아지리딘 또는 아지리딘 동등체(equivalent)를 직접 반응시킴으로써 단일공정을 통해 기질 표면에 높은 밀도의 아민기를 가지는 분자 층을 도입하는 방법에 관한 것으로, 본 발명의 방법에 의하면 ITO 유리 표면에 아민기를 포함하는 분자 층을 간편하게 도입할 수 있으므로 생체 분자를 포함하는 많은 분자들을 표면에 화학결합을 통해 부착시킬 수 있고, 단백질 칩 등 대부분의 생체 분자 칩을 제작하는데 있어 기본적인 기술을 제공할 수 있으며, 표면에서의 분자 특성 연구에도 중요한 역할을 할 수 있다. 또한 본 발명은 차세대 디스플레이로 각광받고 있는 유기 EL 또는 고분자 EL의 기판으로 사용되는 ITO 유리 표면에 화학결합을 통해 유기분자를 부착할 수 있는 방법을 제공한다. ITO 유리 기판 표면상의 히드록시기를 산촉매 존재하에서 아지리딘 또는 아지리딘 동등체(equivalent)와 직접 반응시키는 단계를 포함하는, ITO 유리 표면상에 아민기 함유 분자층을 형성시키는 방법.

보유기관

포항공과대학교

등록일

2007-08-10

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