산업기술 통합검색
<기술의 개요>본 기술은 전자파 플라즈마장치를 통해 알루미늄 및 철 나노분말을 제조할 때 상기한 플라즈마의 온도, 프리커셔의 공급량, 유도코일과 노즐과의 간격, 가스의 주입량 등을 제어하여 보다 균일한 입도를 가진 나노분말을 제조할 수 있도록 개발된 기술이다.<기술의 특징> - 나노분말을 보다 균일하게 생산, - 종래의 방법에 비하여 시간당 생산성이 높아 대량생산 가능 - 생산된 알루미늄 나노분말의 경우 얇은 투명필름 위에 도포 또는 증착하여 도전성 전도막을 형성함으로써 전자파 차폐기능을 가진 투명필름으로 제조
1. 기술의 개요본 기술은 초고경도 초격자 코팅막에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 음극 아크 증착기로 합성된 TIALN과 WC 등의 고경도 화합물들을 수 ㎚ 두께의 적층구조로 합성하여 만든 초고경도 WC-TIALN 초격자 복합화합물 코팅막에 관한 것임.2. 기술의 특징본 기술은 모재와, 모재상에 형성되는 적어도 한 층 이상 적층되는 초격자 내마모층을 포함하며, 초격자 내마모층은 TIALN층과 WC층이 적어도 한 번 이상 교대로 적층된 막으로 구성된 초격자 복합화합물에 있어서, TIALN층은 적층시 TI와 AL의 함량비가 1:1을 초과하여 AL함량이 더 크게 증가되도록 제어함에 의해 TIN과 ALN상이 분리되면서 TIALN층의 내부에 목적하는 크기의 결정립을 갖는 화합물상이 형성된 것을 특징으로 함.
1. 기술의 개요본 기술은 3차원 비선형 유한요소 모델을 이용하여 상부 경추를 고정·유합하는데 적합한 강선의 직경을 선택하기 위한 방법에 관한 것으로서, 실제 고정·유합술시 견고한 고정력을 갖는 최적의 강선을 선택할 수 있는 효과를 제공한다. 2. 기술의 특징후환축추, 서로 다른 직경의 강선 및 이식골의 3차원 비선형 유한요소 모델을 생성하는 단계와, 후환축추, 강선, 이식골간의 접촉 조건을 지정하는 단계와, 환추 횡 인대의 강성을 인대의 손상정도에 따라 감소시켜 불안정한 환축추의 유한요소 모델을 준비하는 단계와, 인대의 손상정도에 따라 감소시켜 준비한 불안정한 환축추의 유한요소 모델에 경계 조건을 부여하는 단계와, 강선을 느슨하게 모델링한 상태에서 직선 형태를 지닌 강선의 일정 부분에 포함된 요소 전체를 예비-인장 부분으로 지정하는 단계와, 환추에 응력이 발생하는 순간의 인장력을 가하여 느슨하게 모델링한 강선이 환축추의 좌우 후궁을 묶도록 하고, 후두부에 전방 굴곡력을 가하는 단계와, 후두부에 가해진 전방 굴곡력에 의한 전방 환추 치상 돌기 간격의 값을 측정하여 상부 경추의 최대 운동 범위를 확인하는 단계와, 각각의 불안정한 환축추의 유한요소 모델 및 강선의 직경별로 측정된 전방 환추 치상 돌기 간격의 값을 토대로 표준의 고정력을 얻을 수 있는 강선의 직경을 선택하는 단계를 포함한다.
○ 기술발명의 목적 : 본 고안은 종래의 나사못이 갖는 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 고안에 따른 나사못은 피고정부재를 고정부재에 결합시킨 후에 외력이 작용하더라도 고정부재로부터 피고정부재가 이탈되지 않도록 견고한 체결력이 유지시키도록 하는데 그 목적이 있다.○ 기술 요약 및 특징 : 본 고안은 2중 체결구조를 갖는 나사못에 관한 것으로, 상세하게는 몸체(15)(35)의 외주연에 나사산(13)(33)이 형성되고 일단에 머리부가 구비되며, 몸체(10)(30)의 길이방향 내측 중심부에 나사골이 형성된 소정크기의 내부체결공(12)(32)이 구비되며, 상기 내부체결공(12)(32)의 소정 위치에는 외부와 연통된 복수개의 관통공(14)(34)이 형성된 나사못(10)(30); 상기 내부체결공(12) (32)과 동일한 길이를 갖는 몸체(25)(45)의 외주연 일측에 나사산(23)(43)이 형성되고, 나사산(23)(43)이 형성된 타측단에 나사산(23)(43)과 동일방향으로 복수개의 가닥이 꼬여진 고정단(24)(44)이 형성된 고탄성재질의 보조고정피스(20(40); 로 이루어져 상기 내부체결공(12)(32)에 보조고정피스(20)(40)가 결합되면서 상기 고정단(24)(44)이 관통공(14)(34)을 통해 나사못(10)(30)의 외주연으로 돌출되어 고정부재(60)에 고정 설치되는 특징으로 이루어진다.○ 색인어 :보조고정피스, 관통공, 고정단, 내부체결공
본 기술은 산화물 후막의 치밀화 공정에 있어서, 기판 위에 형성된 산화물 후막을 금속 또는 산화물 부도체 박막으로 인캡슐레이션(encapsulation)시키고, 600 ~ 900℃의 온도에서 20 ~ 3000 기압의 압력으로 가스 가압소결하는 것을 특징으로 하는 산화물 후막의 치밀화 방법에 관한 것이다.본 기술에 의하면, 현재 사용되는 산화물 후막, 예를 들어 압전 후막 등의 밀도를 획기적으로 증대시켜서, 전기적 물성이 벌크(bulk)값 정도에 이를 수 있다. 또한 본 기술의 가스 가압 소결법은 가스의 등방향 압축을 이용한 치밀화 기술로서, 시편을 여러 층으로 쌓아서 수행할 수 있어서, 실제 양산화 공정에 적용이 가능하다. 높은 압력에서 소결하므로 승압 융점 강하 현상으로 저온에서 소결 및 치밀화할 수 있다.
본 기술은 기재 (基材) 금속, 기재 금속의 표면에 피복된 금 또는 은 박막, 금 또는 은 박막 위에 흡착된 관능성 황 화합물, 황 화합물의 관능기에 화학적으로 결합된 헤파린 (heparin) 또는 에스트라디올 (estradiol) 유도체와 같은 생리활성 물질을 포함하는 표면 개질된 의료용 금속 재료 및 이를 이용하여 제작된 스텐트, 심장 판막 및 카데타에 관한 것이다.본 기술은 기재 금속의 표면에 금 또는 은 박막을 피복하는 단계, 금 또는 은 박막 위에 관능성 황 화합물을 흡착시키는 단계 및 황 화합물의 관능기에 생리활성 물질을 화학적으로 결합시키는 단계를 포함한다.
본 기술은 기재(基材) 금속, 기재 금속의 표면에 피복된 금 또는 은 박막, 금 또는 은 박막 위에 흡착된 관능성 황 화합물, 황 화합물의 관능기에 화학적으로 결합된 술폰산화 폴리에틸렌 옥사이드(PEO) 유도체를 포함하는 표면 개질된 의료용 금속 재료 및 이를 이용하여 제작된 스텐트, 심장 판막 및 카데타에 관한 것이다. 또한 본 기술은 기재 금속의 표면에 금 또는 은 박막을 피복하는 단계, 금 또는 은 박막 위에 관능성 황 화합물을 흡착시키는 단계 및 황 화합물의 관능기에 술폰산화 폴리에틸렌 옥사이드(PEO) 유도체를 화학적으로 결합시키는 단계를 포함하는, 표면 개질된 의료용 금속 재료의 제조 방법에 관한 것이다.
○ 기술발명의 목적 : 단속(斷續)적으로 시행되던 종래의 ECAP공정을 연속화 하여, 금속소재의 기계적 성질이 더욱 더 개선되도록 함과 동시에, 금속소재 내부의 결정립이 종래보다 더 미세해지게한 연속 강구속전단변형방법을 제공하는데 목적이 있다.○ 기술 요약 및 특징 : 본 발명은 선재/형재/각재/판재와 같이 단면적이나 단면형상이 전 길이에 걸쳐 거의 동일한 금속소재를 몰드 내에서 연속적으로 전단변형하여 금속조직 내의 결정립을 초미세화하고 기계적 성질을 개선하며 특히 공정자동화가 가능하게 한 연속강구속전단변형방법과 상기 방법에서 사용되는 금형 및 상기 금형을 포함하는 금속소재 가공장치에 관한 것이다.본 발명에 따른 금형은 금속소재가 이동 가능하도록 임의의 각도로 교차한 2개의 채널을 갖되 상기 채널이 교차하는 교차부위의 내측 곡면 및 외측 곡면의 중심각과 반지름(곡률 반경)이 아래 조건을 만족하는 것을 특징으로 한다.(조건)Ψinner = Φ (Φ: 채널의 교차각도, Ψinner: 내측 곡면의 곡률 중심(P)과 내측 곡면의 양 끝점 사이를 연결한 선분이 이루는 부채꼴의 중심각)0≤내측 곡면의 곡률 반경(R)≤채널 폭의 1/6 0≤ψouter≤ 22°(ψouter: 내측 곡면의 곡률 중심(P)과 외측 곡면의 양 끝점 사이를 연결한 선분이 이루는 부채꼴의 중심각)또한, 본 발명이 제공하는 금속소재 가공장치는 상기 금형의 입구와 출구에 금속소재를 가압하는 램이 각각 설치되고, 금형에 열을 가하는 발열수단이 추가로 설치된 것을 특징으로 한다.또한, 본 발명이 제안하는 연속 강구속전단변형방법은 금속소재와 동일한 단면형상을 가진 금형에 금속소재를 넣은 후 가압하는 강구속전단변형방법에 있어서 금속소재를 금형의 입구로 밀어넣는 금속소재 공급단계; 금속소재 공급단계에서 금형의 입구에 밀어넣은 금속소재를 램(상 램)으로 가압하여 금형의 출구로 강제 이송하는 1차변형단계; 상기 1차 변형단계에서 금형의 출구 쪽으로 강제 이송된 금속소재를 램(하 램)으로 가압하여 상기 금속소재를 금형의 입구 쪽으로 다시 이송하는 2차변형단계; 상기 1차변형단계와 2차변형단계를 반복하는 반복변형단계; 및 상기 반복변형단계의 완료 후 금속소재를 금형에서 빼내는 배출단계;를 포함한다.○ 색인어 :강구속전단변형방법, 램, 금형, ECAP, 공정자동화, 연속공정
본 기술은 고 유전율이면서도 유전 손실이 극소화된 순수한 Pb(Fe 1/2 Nb 1/2 )O 3 (ＰＦＮ) 유전체 세라믹스의 새로운 제조 방법에 대한 것이다.본 기술의 ＰＦＮ계 유전체 세라믹스의 제조 방법은 통상의 고상 반응법에 따라 ＰＦＮ계 유전체 세라믹스 분말을 제조한 후, 첨가제의 혼입 없이 산소 분위기에서 하소 및 소결시키는 것을 특징으로 한다. 본 기술에 따르면, 하소 및 소결 공정의 제어만으로 고유전율이면서도 유전 손실이 극소화된 순수한 ＰＦＮ 유전체 세라믹스를 얻을 수 있다.
본 기술은 저온소성이 가능하면서도 우수한 마이크로파 특성을 갖는 유전체 세라믹 조성물에 관한 것이다.본 기술의 조성물은 (Mg 0.93 Ca 0.07 )TiO 3 에 B 2 O 3 및 MnO 2 를 첨가제로 사용함으로써 저온 소결이 가능한 한편, 양호한 마이크로파 특성을 갖는다. 1200℃에서 적정량의 B 2 O 3 를 첨가한 영역에서는 1350℃에서 소결한 순수한 (Mg 0.93 Ca 0.07 )TiO 3 보다 높은 품질계수 값을 나타내었다.
본 기술은 고주파용 세라믹스 조성물에 관한 것으로, 특히 1 mole의 MgNb2O6에 대해 각각 0 ∼ 1 mole의 TiO2를 조합으로 하는 것을 주 조성으로 하고 첨가제로서 MO3 (M6+ = W, Mo, Cr, Se, Te 및 Po)가 각각 0 ∼ 0.4 wt%로 구성되는 것을 특징으로 하는 유전체 세리믹스 조성물에 관한 것이다.기존의 고주파 유전체 조성보다 비교적 낮은 소결온도 (1,200℃)이면서 높은 품질계수 (QX f > 40,000 GHz)와 유전상수 ( εr > 25) 및 안정된 온도계수 (τf = -49∼ +38 ppm/℃)의 우수한 고주파 유전특성이 MgNb2O6-TiO2와 같은 비교적 저가의 원료로 구현되는 것을 특징으로 한다.
본 기술은 티오펜환을 함유한 신규한 옥사졸리디논 유도체, 이를 제조하는 방법 및 조성물에 관한 것이다.본 기술의 목적은 옥사졸리디논환의 페닐 치환제에 카르보닐기를 연결고리로 하여 티오펜환이 치환된 신규한 옥사졸리디논 화합물을 제공하며 카르보닐기를 연결고리로 하여 티오펜환을 도입한 새로운 옥사졸리디논 유도체들은 여러종의 그람양성균들에 대해 유효한 항균활성을 나타낸다.또한 옥사졸리디논 유도체의 제조방법을 제공하며, 옥사졸리디논을 유효성분으로 함유하고, 그람양성균에 항균활성을 갖는 조성물을 제공하는 것이다.본 기술에 따른 신규 옥사졸리디논 화합물은 내성을 가진 그람 양성균에 대해 유효한 약효를 가짐으로 내성균주들에 대한 항균제로 유용하게 사용할 수 있을 것으로 기대된다.
본 기술은 질화규소/탄화규소 초미립 복합재료 제조방법에 관한 것이다.질화규소 분말과 소결조제를 혼합시키고, 혼합물을 건조시키고, 건조시킨 혼합물에 고분자물질과 가소제로서 유기 바인더, 무기바인더 또는 물을 첨가하고 혼련하여 페이스트를 제조하고, 가소제가 첨가된 페이스트를 성형하고, 성형체를 열처리하여 물과 가소제 일부를 제거하고, 물과 가소제 일부가 제거된 성형체를 열처리하고, 열처리한 성형체를 온도를 상승시켜 소결체를 제조하는 단계를 포함하여 이루어진다. 본 기술에 의하면 종래 방법에 비해 기공이나 응집 등의 결함이 적고, 초미립 탄화규소가 고르게 분산된 복잡한 형상을 갖는 질화규소/탄화규소 초미립 복합 재료를 제조할 수 있다.
본 기술은 미세 형광 화상 형성 재료인 히드록시 보호된 안트라퀴논 및 나프타센퀴논 유도체와, 이를 이용한 미세 형광 화상 형성 방법에 관한 것이다. 본 기술의 히드록시 보호된 안트라퀴논 및 나프타센퀴논 유도체는 히드록시기의 분자내 수소결합을 한시적으로 차단한 다음 산, 열 또는 광 등에 의해 탈보호되어 색 및 형광의 변화를 일으키고, 일반적인 고분자와 혼합시 코팅이 용이하기 때문에, 화학증폭성 미세 화상 형성 공정 조건에서 쉽게 미크론미터 단위의 미세 형광 화상을 형성할 수 있어서, 기록용 재료 및 센서 재료로 응용될 수 있다.
본 기술은 950 o C 부근의 낮은 온도 범위에서 소성이 가능한 고유전율의BaO-TiO 2 계 세라믹 조성물의 제조방법에 관한 것이다. 이 조성물은 세라믹 저온소성다층기판 내부에 사용되는 고유전율 층에 사용하기에 적합하다. 본 기술에 따르면, BaO-PbO-2Nd 2 O 3 -10TiO 2 계 소성분말에 대하여 Li 2 O, B 2 O 3 , SiO 2 , V 2 O 5 를 적량 첨가하였을 때 마이크로파 유전특성과 소결특성이 우수하였다. 따라서 본 기술의 방법에 따라 제조된 세라믹조성물은 가격이 비싼 Pt 전극이나 Pd 전극이 아닌, 가격이 저렴한 Ag 또는 Ag-Pd전극과 함께 저온소성다층기판의 제조에 사용될 수 있다.
○ 기술발명의 목적 : 본 발명은 종래에는 사용된 바 없는 물리화학적으로 개질된 목질섬유분을 종이판지의 중간층에 섞어 사용함으로서 종이판지의 벌크와 휨강도를 높이며, 종이판지의 인장강도와 내부결합강도를 유지시키는 것을 목적으로 한다.○ 기술 요약 및 특징 : 본 발명은 목재 칩에서 물리적인 힘으로 섬유 혹은 섬유다발들로 분리한 목질섬유분을 이차적으로 물리화학적인 가공 처리를 실시하여 종이판지의 중간층 원료에 첨가함으로서 종이판지의 벌크를 올리고 휨강도(bending stiffness)를 증대시키면서 종이판지의 기타 물성 즉, 인장강도, 내부결합강도, 지합 등을 유지 및 향상시키는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 종이판지에서 가장 중요한 특성인 판지의 벌크와 휨강도가 벌크의 경우 5% 이상, 휨강도의 경우 10% 이상 손쉽게 달성할 수 있으며, 같은 벌크와 휨강도을 유지한 상태에서 종이판지의 평량 절감을 3% 이상 달성할 수 있음으로 원료절감과 생산비 절감 및 품질향상을 얻을 수 있다.○ 색인어 :목질 섬유분, 종이판지, 벌크, 휨강도, 인장강도
본 기술은 염화불화탄소(CFC)를 탈염소수소화하여 이의 대체물질인 불화탄화수소(HFC)를 제조하는데 유용한 팔라듐 촉매(Pd/C)를 제조하기 위한 활성탄의 전처리 방법에 관한 것으로, 이에 의하여 제조되는 촉매의 활성 및 선택도를 높이는 것이 목적이다. 촉매의 담체인 활성탄을 순차적으로 HF 수용액과 HCl 수용액으로 처리한다. 촉매는 전처리한 활성탄을 상온에서 팔라듐 이온에 함침시키는 단계와, 80∼200℃에서 건조시키는 단계와, 공기 분위기하에 300∼500℃에서 소성하는 단계를 거쳐 제조한다. 본 기술에 의하면 활성 및 선택도가 높은 팔라듐 촉매를 제조할 수 있는 활성탄의 전처리 방법이 제공되고, 본 기술에 의해 제조된 촉매는 소결현상이 억제되어 내구성이 높아지며 CCl2F2를 수소화시켜 CH2F2를 제조하는 반응에 특히 유용하다.
본 기술은 생체용 티타늄계 합금에 관한 것으로, 3-20 중량%의 인듐(In), 1-5 중량%의 니오븀(Nb), 1-5 중량%의 탄탈륨(Ta), 0.1-0.5 중량%의 팔라듐(Pd)과 잔량의 티타늄(Ti)으로 이루어진다. 본 기술의 생체용 티타늄계 합금은 종래 생체 재료용 티타늄계 합금에서 세포 독성이 있는 것으로 지적된 알루미늄(Al)과 바나듐(V)을 대신하여, 티타늄(Ti)에 우수한 생체적합성을 갖는 합금 원소인 인듐(In), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta) 및 팔라듐(Pd)을 첨가한 것으로서, 세포 독성이 없고 기계적 특성과 내부식성이 우수하다.
본 기술은 3차원 입체 고분자 소재 및 제품의 표면특성 및 표면의 전기전도도를 향상시키기 위하여 플라즈마 이온주입 기술을 이용하는 표면개질 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 플라즈마 이온주입 기술은 대면적의 3차원 입체시료의 표면에 균일하게 이온을 주입하여 표면개질을 이룰 수 있는 기술이다. 본 기술에서 고분자 시료 주위의 금속성 그리드에 음의 고전압 펄스가 가해지면 플라즈마로부터 이온이 추출되어 그리드를 향하여 가속이 되고 대부분의 이온들은 그리드를 통과하여 높은 에너지로 고분자 시료의 표면에 충돌하게 된다. 따라서, 시료대에 직접 고전압 펄스를 인가하는 방법으로는 플라즈마 이온주입이 어려운 입체 고분자 시료의 표면에 균일하게 이온주입이 이루어지게 되며 이와 같이 높은 에너지로 주입된 이온들은 고분자 표면을 개질하여 전기전도도를 매우 효율적으로 향상시킬 수 있게 된다.
본 발명은 원적외선 방출 효과를 갖는 기능성 적층체에 관한 것으로, 입경이 7mm이하인 미분된 옥 20~80중량%, 입경이7mm이하인 미분된 돌 10~60중량% 및 접착제 10~30중량%가 혼합된 옥층; 및 상기 옥층의 상층에 위치하고, 금, 은, 또는 구리 중 하나로 도금된 도금층으로 이루어진 것을 특징으로 하는 원적외선 방출용 기능성 적층체에 관한 것이다.상기 옥층은 주성분이 옥으로 이루어져 있어 옥이 가지는 원적외선방출 특성이 있고, 바깥층인 도금층은 금속특유의 광택으로 미련한 외관을 갖는 동시에 도금피막을 통하여 외부환경에서 쉽게 부식되는 것을 막아주는 효과를 갖는다.이러한 원적외선 방출 특성 효과를 갖는 적층체를 장례 관이나 납골함으로 이용될 경우 시신이 깨끗하게 부패가 되거나 유골도 깨끗하게 유지되게 하는 효과가 있다.○ 색인어 : 원적외선, 기능성 적층제, 옥, 장례관