마이크로파 유전체 자기조성물 및 그 제조방법
마이크로파 유전체 자기조성물에 관한 내용으로 높은 유전율과 우수한 품질계수를 가진 새로운 조성물의 제시, 유전율 100이상, 퓸질계수의 곱이 4000이상인 우수한 특성의 마이크로 유전체 자기조성물의 개발
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22 / 213 페이지후막형 반도체식 산소센서
본 발명은 대표적인 산화물 반도체 중의 하나인 SrTiO3를 이용하여 자동차 공연비 제어 등에 응용이 가능한 후막형 반도체식 산소센서에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 산소농도(또는 분압)에 따라 전기전도기구가 변화하는 순수한 SrTiO3에 La2O3를 첨가하여 전기적 특성을 제어할 수 있는 산화물 조성물을 제공하는데 있다. 이를 통해서 산소센서의 주된 용도인 자동차 공연비 제어용으로 활용할 수 있는 후막형 반도체식 산소센서를 제공함에 있다.
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고주파 세라믹 콘덴서 원료 조성 및 제조 기술
본 발명은 고주파용 세라믹 콘덴서의 재료 조성물 및 제조방법에 관한 것으로서, PbO의 휘발을 억제하고 저온소결이 가능하도록 Sn과 ZnO를 함유하는 고주파용 세라믹 콘덴서의 재료 조성물과 이 조성물을 제조하는 방법에 관한 것이다. Pb계 페로브스카이트 재료에 Sn을 첨가함으로써 PbO의 휘발을 억제하고, ZnO를 첨가함으로써 소결온도를 낮추어, 재료의 유전특성을 저하시키지 않고도 고주파용 세라믹 콘덴서의 재료 조성물을 제조할 수 있다. 본 발명에 따른 조성물과 그 제조방법에 따라, 고주파용 세라믹 콘덴서 재료를 그 유전특성의 저하없이 낮은 소결온도에서 제조할 수 있고 PbO의 휘발을 억제할 수 있기 때문에, 생산 공정이 용이해져 생산성이 향상되고, 제조되는 콘덴서의 물리적 크기를 소형화할 수 있다.
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고주파 유전체용 자기조성물 및 그의 제조방법
산화지르코늄(ZrO2), 산화주석(SnO2) 및 산화티타늄(TiO2)을 (ZrO2)1-x(SnO2)x(TiO2)1+y(X는 0.1몰 본 발명의 제조방법은 비산화물 형태의 질산망간(Mn(NO3)24H2O)을 부성분으로 이용하므로 정확한 공정제어를 가능케 하여 균일한 고주파 유전체용 자기조성물을 제공케 하고, 이렇게 제조된 고주파용 유전체용 자기조성물은 유전율(k)이 40이상이며, 품질계수(Q)값이 7000 이상이고, 공진주파수의 온도의존계수(τt)가 10이하의 매우 낮은 수치를 나타내었다. 따라서 본 발명의 고주파 유전체용 자기조성물은 고주파에서 뿐만 아니라 마이크로웨이브에서의 집적회로 또는 유전체 공진기용으로 사용될 수 있다.
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신규한 압전세라믹 조성물 및 그를 이용한 적층형 변이소자의 제조방법
본 발명은 신규한 압전세라믹 조성물 및 그를 이용한 적층형 변위소자의 제조방법에 관한 것이다. 첨가물을 치환하므로써 기존의 조성물보다 저온소결이 가능케한 조성물에 관한 것이다. 치환을 통하여 1000 내지 1050℃에서 실용가능한 압전성을 가지는 조성물을 제작하므로써 비교적 저전압으로 큰 기계적 변위를 필요로 하는 변위소자로의 응용이 가능
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네오디뮴:이트퓸 알루미나 가넷 레이제를 이용한 초전도체 제조방법
본 발명은 네오디뮴 : 이트륨 알루미나 가넷 레이저를 이용하여 초전도체 분말을 하소시키는 방법에 관한 것이다. 이로 인해서 높은 임계온도(92K) 및 보다 큰 입경을 갖는 초전도체를 훨씬 단축된 공정시간 안에 제조할 수 있다
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압출 및 일방향 입자 성장을 이용한 고전류용 이트륨 바륨구리 산화물 고온 초전도체 코일의 제조 방법
본 발명은 이트륨바륨구리 산화물 고온 초전도체 코일 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 초전도체 코일은 초전도체 원료로 사용되는 이트륨바륨구리 산화물의 단일 원료 분말이나 이트륨바륨구리 산화물, 바륨구리 산화물, 및 산화구리의 혼합 원료 분말이 사용될 수 있으며, 이러한 이트륨바륨구리 산화물의 단일 원료 분말과 점결제를, 또는 혼합 원료 분말과 점결제를 10:3의 비로 혼합하여, 압출 장치를 이용하여 코일 형태로 제조한다. 이렇게 압출된 코일은 이줄로를 이용하여 일방향 입자 성장된다. 일방향 입자 성장된 코일에 초전도성을 부여하기 위해 550℃의 산소 분위기 내에서 10시간 동안 소둔시킨다. 이렇한 방법으로 제조된 초전도체 코일은 세라믹 취성 때문에 실제에 필요한 형태로 가공하기 힘들었던 문제점을 극복할 수 있으며, 상당히 큰 전류를 수용할 수 있고, 임계 전류 밀도가 크게 증가되어 실용성이 크게 증진되고, 응용 범위가 확대된다
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투명전도 박막을 이용한 광셔터의 제조방법
본 발명은 광 셔터의 핵심 부품으로 사용되는 광 모듈레이터, 그의 제조 방법 및 이를 사용하여 제조한 광 셔터에 관한 것이다. 본 발명의 광 모듈레이터는 일반 유리 기판 위에 인듐틴 옥사이드 또는 Ag, Au, Pt, Al 금속 등의 전도성 재료를 스퍼터링 방법으로 투명한 전도성 박막의 형태로 증착시킨 후, 그 위에 전극으로 사용되는 상온용 은 페이스트를 일정 간격으로 서로 평행하게 바르고, 이를 100oC에서 30분간 열처리함으로써 제조된다. 본 발명에 따라 제조한 광 셔터는 값싼 유리를 기판으로 사용하여 제조하였기 때문에, 고가의 전광 재료를 사용하는 종래의 광 셔터에 비해 경제적으로 매우 유리하고, 특별한 장치 없이 간단히 제조할 수 있으며, 인가 전압을 조절함으로써 편광판을 통과하는 빛의 양을 쉽게 조절할 수 있다는 잇점이 있다.
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입계조절형 티탄산 스트론튬의 제조방법
본 발명은 고상확산을 통하여 BaTiO3/CaTiO3 = 1 ± 0.2 로 조절된 확산종을 모상인 SrTiO3 소결체 내에 확산시킴으로써 얇고 균일한 산화물층을 형성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법에 의하면, 고상 확산법에 의하여 유전층을 입계에만 선택적으로 형성시킬 수 있다. 본 발명에 의하여 제조된 SrTiO3 유전체는 유전율이 우수함과 동시에 작은 온도 계수를 갖는다. 기존의 액상 및 기상 침투법으로 제조한 유전재료에 비해 더 높은 유전율을 갖는 입계산화형 유전체 제조
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YBa2Cu3O7-x 초전도체의 개선된 제조방법
본 발명은 Y : Ba : Cu의 비가 2 : 1 : 1인 소결체를 액상 형성 분말로 둘러싸서 압분체를 만들고 이를 YBa2Cu3O7-x의 포정 반응 온도 이하의 온도에서 등온 열처리하는 것으로 이루어지는 YBa2Cu3O7-x 초전도체의 제조 방법이 제공된다. 이 방법에 의해 제조된 YBa2Cu3O7-x 초전도체는 입자들이 한 방향으로 배열되어 높은 임계전류밀도를 갖는다. 종래의 용융법에 비하여 낮은 온도에서 단시간의 열처리를 함으로써 연속적인 초전도체 제조 가능.
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졸-겔을 이용한 에피택시얼 리튬니오븀 산화물 박막의 제조 방법
1. 리튬 이소프로폭사이드와 니오븀 이소프로폭사이드를 1:1의 몰비로 메탄올에 용해시켜 리튬 니오븀 박막 증착용 코팅 용액을 제조한다. 이 제조 방법은 기존의 에탄올을 용매로 사용하여 2회의 교반 과정을 거치는 방법에 비하여 메타올을 이용하여 1회의 교반만으로 간단하게 리튬 니오븀 박막 증착용 용액을 제조할 수 있어 생산 원가 및 제조시간의 절감할 수 있다. 2. 제조된 용액을 이용해서 코팅(250rpm/5초 및 3000∼5000rpm/20초) 및 건조 공정을 수회 반복한 후, 열처리공정(400℃이상)을 통한 에피텍시얼 리튬 니오븀 다중박막을 제조한다. 위 방법으로 제조된 리튬 니오븀 박막은 미크론 단위의 막을 에피텍시얼하게 성장시킬 수 있어 고집적 회로용 초소형 소자, 탄성파 소자 및 광도파로 소자 등으로의 응용이 가능하므로 산업적인 기대효과가 클 것으로 예상한다.
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용접용 고강도 알루미늄 합금
본 발명은 용접성이 우수하고 높은 강도를 갖는 Al-Zn-Mg계 용접용 고강도 알루미늄 합금에 관한 것이다. 본 발명은 종래의 용접용 알루미늄 합금의 문제점을 감안하여 창안된 것으로, 기존의 고강도 알루미늄 합금수준의 향상된 강도를나타내는 용접용 고강도 알루미늄 합금을 제공하는 데 그 목적이 있는데 기존의 Al-Zn-Mg계를 기본조성으로 하여 강의 향상을 위한 강화 원소로서 천이금속인 Mn 및 Zr을 소량 첨가시켜 합금조직내에 미세한 Mn분산입자(dispersoid) 및 Zr분산입자의 생성을 유도함으로써 종래 합금의 용접성 및 소입민감도를 거의 그대로 유지하면서 연신율의 큰 저하없이 Al 7075나 Al 7050합금의 강도수준으로 강도를 증대시킨 점에 특징이 있다. 이같은 본 발명의 조성은 알루미늄을 기지금속으로 하고 Zn 3.5-5wt%, Mg 2-3wt%, Mn 0.5-1.2wt%, Zr 0.1-0.3wt%함유되고 Cr, Fe, Si 및 Ti등의 미량합금원소가 0.1wt%이하 첨가된다. 본 발명은 우수한 용접성, 고강도 및 경량화가 요구되는 여러산업분야의 구조용재료로서 사용될 수 있고, 차량의 구조용 재료로 사용할 때에는 차체의 중량감소로 인한 연료절감을 기할 수 있는 효과가 있다.
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에멀전건조방법(또는 석유 증발법)을 이용한 Bi(PB)-SR-CA-CU-O계의 고온 초전도체 분말의 제조 방법
산화물 고온초전도체 분말의 제조 방법에 관한 것이다. 특히 분말의 조성은 Bi(Pb)2Sr2Ca1Cu2Oy로 표시되며 전이온도는 약 80K를 나타내고, 분말의 소결체는 Bi(Pb)2Sr2Ca3Cu2Oy로 표시되며, 전이온도는 약 110K를 나타내는 계에 관한 것이다. 특히 이 발명으로 인해 하소시간과 높은 전이온도상태를 얻는 소결시간이 짧고 소결 중 분쇄과정이 없는 제조 공정이 가능하게 되었다. 이런 장점은 양산적 규모에서 하소와 소결이 용이하므로 그 대체가 요망된다.
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낮은 열팽창 특성의 세라믹 재료
본 발명은 산화마그네슘, 알루미나, 실리카의 3가지 산화물의 조성을 변화시켜서 저열팽창 특성이 보다 우수한 코디어라이트 상을 기초로한 세라믹 재료를 제공하는 것이다. 값 싼 원료를 이용하여 매우 낮은 열팽창 계수를 갖는 열충격저항이 큰 세라믹 소자 개발이 가능하다
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산화물 압전재료
높은 기계적 품질계수(mechanical quality factor, Qm)을 가지며, 공진주파수의 온도특성이 우수하여 세라믹 공진자(Ceramic resonator)와 세라믹 여과기(Ceramic filter)용으로 적합한 새로운 압전 세라믹 재료이며, 소성온도가 낮아 양산적 규모의 생산에 유리한 재료이다.
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화학 증착법에 의한 PbTiO3 박막의 제조방법
티탄늄 모재 위에 Pb,Ti(CnH2n+1O)4, O2의 혼합기체를 이용하여 화학 증착법으로 고온 증착함으로써 기존의 방법에 의해 제조된 박막의 결함들, 즉 박막내의 내부응력, 박막의 불균질성, 낮은 온도에서의 증착으로 인한 모재와의 나쁜 결합력, 완전하지 못한 결정성에 의해 저하된 물리적, 전기적 특성 등을 향상시킨다.
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고전압 발생 압전요업재요
소결온도가 낮은 Pb(Cd1/2W1/2)O3-PbTiO3-PbZrO3계 조성을 사용하여 성형체의 소결온도를 낮춰 소결시 PbO 휘발양을 적게 함으로써 재질의 균일성을 높게 하고 양산적 규모에서의 소결을 용이하게 함과 동시에 양산시 원가절감이라는 이점을 얻을 수 있으면서 출력전압계수(g33) 특성이 우수한 것을 특징으로 하고 있다
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마이크로파 유전체 자기조성물의 제조방법
본 발명은 (Pb1-xCax)(Zr1-xSny)O3를 주성분으로 하여 상기의 x,y는 몰 비로서 0.15 < x < 0.40, 0.15 < y < 0.50이 되도록 한다. 원료는 Mn(NO3)2·4H2O, PbO, CaO, ZrO2, SnO2 등을 혼합한 뒤 2000 ∼ 2400℃의 토치불꽃으로 용융 후 추가적으로 1200 ∼ 1550℃의 산소분위기에서 소결하여 제조하였다. 이로 인해서 매우 우수한 마이크로파 유전특성을 가지며 망간이 수용액 형태로 첨가되므로 정확한 공정을 실시할 수 있는 조성물을 개발하였다.
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낮은 유전정수의 필름 및 도포물을 위한 새로운 2-fluoromethylquinazolones
-180에서 400°C의 광범위한 온도에서 1.9-2.2의 낮은 유전정수를 가진 2-fluoromethylquinazolones를 기초로 한, 열에 안정한 새로운 중합체 필름 및 도포물. Poly-(2-fluoromethyl)quinazolones 은 고온용액 촉매 축중합법에 의해서 합성되었다. 결과로 나오는 중합체는 N-MP, DMFA, 페놀 용액에 용해성이 있으며 Tg가 300°C이기 때문에 아세톤과 에틸아세테이트에는 부분적으로 녹는다. 이 중합체를 기초로 한 필름은 그 용액을 유리판 위에 casting 한 다음 100°C 에서 용매를 증발시키므로서 얻을 수 있다. 이 중합체의 유전정수는 -170에서 400°C 와 (f=1-50 kHz)의 범위에서 표준법 (20 μm 필름의 표면에서 Ag 의 증발)에 의하여 구할 수가 있다. 동일한 방법에 의하여 측정된 폴리에틸렌의 유전정수 값은 1.9에서2.1 였으며 Kapton polyimide 는 3.0에서3.5 였다.마이크로 전자제품에 필름 및 도포의 적용
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- 2000-04-24
질소 반응성 스퍼터링을 이용한 거대자기저항 재료 개발
하드디스크 드라이브 재생용 GMR 헤드 제작 공정, 질소 스퍼터링을 이용한 loe saturation field 및 high sensitivity 재료 및 공정
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- 2000-04-29