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□ 기술개요Excilamps는 excimer나 exciplex 분자의 감퇴로 인해 자연 발생하는 자외선 복사의 전기 출력 소스들이다. 방출 스펙트럼은 1개의 또는 몇몇 소폭 띠들로 이루어져 있고, 최대 띠는 선택되어 진 활동 분자의 방출에 상응하는 파장에 있다. KrCl*, XeCl*, XeI* 및 XeBr* 분자의 파장은 아래에 열거되다. KrCl* XeI* XeBr* XeCl* 222 nm 253 nm 289 nm 308 nm 출력의 각종 유형들은 excilamps를 위해 이용된다. 전기 용량 출력에 의해 여기상태가 되는 Excilamps는 러시아 과학 아카데미의 Siberian Branch의 High Current Electronics 학회의 광학적인 복사 실험실에서 처음으로 개발되어 졌다. □ 기술적 세부설명 ● 간단한 구조 (원통 모양이나 U 자 모양) ● 고출력 매개변수 (전원 입력의 25%까지 효율성에 10 W까지 복사력 의미); ● 좁은 복사 대역폭 ● 소형 사이즈(up to 50 cm) ● 긴 수명 (천 시간 이상) Excilamps는 생태학적으로 위험한 수은을 포함하지 않는다; 그러므로, 전통적인 수은 램프의 이용과 달리 서비스에서 빛 소스의 활용은 안전한 절차가 된다. □ 응용분야● 각종 오염물질의 파괴 (석탄산과 페놀류); ● 식용수의 살균 ● 환경과 식료품(유독한 성분의 존재)의 질 분석 Excilamps는 또한 다음과 같은각종 사진 제판법을 위하여 이용될 수 있다. ● 얇은 금속 필름의 석출 ● 무조직 반도체의 석출 ● 얇은 절연성 층의 석출 ● 중합체의 사진 에칭 ● 유기 물질의 저온 산화 □ 개발 단계 실험실 견본은 유효하다. KrCl, XeCl, XeI 및 XeBr excilamps의 견본은 개발되고 시험되었다.
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□ 기술개요폐쇄 전자 편류를 가진 가속기 원리의 선형 ION-PLASMA SOURCES는 코팅 증착 이전에 코팅 증착 과정에 도움을 주는 이온을 위해 큰 기판(특히, 건축 유리)의 끝마무리를 위해 고안되어졌다. 이온 플라스마 소스의 구조는 이온 유출 조밀도의 높은 균등성을 지킨다. □ 기술적 세부설명 공급전압 V 600 - 1000 선전류조밀도(Linear current density, A/m) Up to 2 가동전압범위(Operating pressure range, Pa ) 0.05 - 0.3 냉각 water 길이(m) Up to 2.5 □ 기술적 평가 및 경제적 이점 장치의 눈에 띠는 특징은 낮은 운영 전압에서 절연성 기판 청소의 효율성을 증가하는 추가 빈 음극선 출력의 사용이다. 소스 가동은 작동 공간에 폐쇄 편류 가속기에 의해 형성된 빈 음극선 출력량 플라스마 및 이온 교류의 동시 존재가 특징이다. 이온빔 에너지는 이온 청소와 이온 원조를 위해 최적인 200 - 400 eV에 도달한다. □ 응용분야장치는 각종 물자 및 물품의 표면의 이온 플라스마 수정의 기술에서 사용될 수 있다. 주요 목적은 코팅 증착 과정에서 도움을 주는 코팅과 이온의 적용 이전의 표면 청소 및 에칭이다. 절연성 기판에 단단한 탄소로 이루어진 코팅의 적용을 위해 이온 플라스마 소스 사용의 전망이 설명된다. 이온 전류 (±4% 안에) 선밀도의 높은 균등성은 소스가 마이크로 전자공학에서 사용될 수 있도록 한다.
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□ 기술개요LOZA 시리즈 라이더는 대기권에 있는 연무질의 대량 농도의 순간 원격 모니터링를 위해 고안되었다. □ 기술적 세부설명 등록입자 지름 0.5-5.0 μm 측량범위 2-8 km 공간적 해상도 better than 5 m 펄스 지속 10 nsec 망원경 안테나 직경 0.3 m 전력소비 2 kW □ 기술적 평가 및 경제적 이점 LOZA 라이더는 유럽(EARLINET)과 아시아(AD-NET) 라이더 네트워크에서 사용되는 기 구사용에 대한 모든 요건을 충족한다. □ 응용분야LOZA 라이더는 다음에서 사용되어진다. ● 대류권에 연무질 구조 진단 ● 공항의 항공 기상 대책 ● 산업 센터에 연무질 오염 모니터링
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□ 기술개요고해상도 빛 분산 분광계는 microobjects의 몇몇 특성을 동시에 측정하게 가능하게 한다. 이 분광계 자료의 컴퓨터 분석이 개별 입자의 작동 특성에 관하여 정보를 산출하고 개별적인 microobject의 이미지를 만들어 낼 수 있게 된다. 이는 의학에 있어 기본적이고 응용되는 연구를 위해 유일한 장치가 되는 것이다. □ 기술적 세부설명 복사 파장 - 0.63 μm 복사력 - 1 mW 레이저의 수 - 2 분사 상태 - Single-particle, multiparticle 측정부피 - 300х100х100 μm3 분광해상도 - ≤1015 분석 매체 - Liquid 측정시간 -1-10 min 전력공급 - 220W, 50 Hz 전력소비 - 500 W 크기 - 550 х 200 х 220 mm; 무게 - 10 kg. 제품유형: device. □ 기술적 평가 및 경제적 이점 ● 0.01 μm에서 100 μm에 측정된 범위 입자 크기 ● 장치의 높은 분광해상도와 감도는 다양한 물질계, 예를들어 1 이하 μm/s의 미립자들의 아주 낮은 속도 측량을 할 수 있게 한다. ● 분광계는 운동성 미생물을 탐지하고, 인식해서 확인하여 전통적인 생물학 노동 소모 방법의 사용 없이 생물체와 무생물체를 구별할 수 있다. □ 응용분야이 분광계는 다음의 경우에서 사용되어진다. ● 의료진단 ● 환경감시 ● 과학연구 ● 미생물학
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□ 기술개요1064/532 nm의 레이저(내부공진기방식 주파수 배증을 이용) 및 온도 조정 □ 기술적 세부설명 1W/10mW에서 50/200 MW에 범위에 있는 1064/532 nm에 출력 전력에 따른 다양한 변형 펌핑 힘(Pumping power) up to 3 W 모드 구성(Mode composition) TEM00q 1064nm에 출력 방사의 분극 linear 선형 532nm에 출력 방사의 분극 linear 선형 (1064에 관하여 450의 각도) 레이저의 자유 분산 지역 ∼ 2.5 GHz 자유 모드의 복사 대역폭 ∼ 10 kHz 출력 매개변수 압전기 운반 장치로 인한 주파수 통제 Sensitivity of PZT - 1 PZT - 1의 감도 ∼ 1 MHz/W Bandwidth up to 30 kHz 30 kHz까지의 대역폭 Sensitivity of PZT - 2 PZT - 2의 감도 ∼ 10 MHz/W Bandwidth up to 1 kHz 1 kHz까지의 대역폭 방사 주파수의 온도 조정 350 GHz까지 조정 범위. 조정비율 - 20 GHz/0С. 크기 300х170х100 제품 유형: device □ 기술적 평가 및 경제적 이점 자유 모드에 있는 좁은 복사선, 주파수 조정의 가능성 □ 응용분야분광학 도량형학
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□ 기술개요(내부공진기)방식 복굴절 온도 조종 여과기의 946 nm 레이저 □ 기술적 세부설명 946 nm에 출력 전력(Output power at 946 nm) up to 250 mW 펌핑 힘(Pumping power) 2×2 W, 2×3 W 모드구성(Mode composition) TEM00q. 946nm에 출력 방사의 분극(Polarization of output radiation at 946 nm) linear 선형 레이저의 자유 분산 지역(Free dispersion area of the laser) ∼ 2.5 GHz. 자유 모드의 방사선 대역폭(Radiation band width in free mode) ∼ 10 kHz. 압전기 운반 장치로 인한 주파수 통제 PZT - 1의 감도(Sensitivity of PZT - 1) ∼ 1 MHz/W. 30 kHz까지의 대역폭(Bandwidth up to 30 kHz.) PZT - 2의 감도(Sensitivity of PZT - 2) ∼ 10 MHz/W. 1 kHz까지의 대역폭(Bandwidth up to 1 kHz.) 방사 주파수의 온도 조정 조정 범위(Tuning range) up to 250 GHz. 레이징 주파수 변화 비율(Lasing frequency change rate) - 20 GHz/0С. 크기(Dimensions ) 350х230х100 제품 유형: device. □ 기술적 평가 및 경제적 이점 기존하는 외국 아날로그와 달리, 레이저는 온도 조종을 위해 복굴절 여과기의 사용으로 인해 10배의 조정 범위를 가지고 있다. 인터모드 범위로의 레이저 주파수의 빠른 조정은 레이저 조절에 추가적인 편의를 주는 2개의 압전기 운반 장치에 의해 실행된다. □ 응용분야분광학 도량형학
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스토캐스틱 레이저(렌덤 레이저)는 신유형의 레이저이다. 강력 무질서 산란 물질(파우더, 다결정질 필름 등)은 이 레이저의 활성 매체이다. 고도 무질서 이득 매체(disordered gain media)에는 빛의 폐루프 경로가 순환 산란에 의해 형성될 수 있다. 이 현상은 기존 레이저 공동에서 나타나는 효과와 유사한 효과를 줄 수 있다. 산화아연 ZnO은 와이드밴드갭 반도체(DE ~ 3.37 eV)이고, 독특한 전기적, 기계적, 발광 성질을 가진다. 산화아연은 실온에서 자외선을 얻기위해 주로 사용된다. 고도의 광학적 성질(열수 합성 및 고온 열분해)을 가지는 물질을 기반반으로 나노 및 마이크로 결정 산화아연을 합성할 수 있는 방법이 개발되었다. YAG:Nd레이저(l=355 nm, t ~ 4 ns)의 3차 고조파에 의한 여기(excitation)에서 로우 스레쉬홀드 자외선 발광이 실온에서 합성 무질서 산화아연 파우더와 코팅에 기록되었다. 스레쉬홀드 펌프 강도의 최소값은 0.55 mJ/cm2였다. 발광 스펙트럼은 분명한 모드 구조, ~0.2nm의 반최대 발광 라인의 전폭, 0.55-0.65nm인 인터라인 거리가 특징이다.
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□ 기술개요많은 독창적인 설계로 인해 고 효율 및 신뢰도 있는 성능을 보유한 단실 플라즈마 생성기(one-chamber plasma generator)의 기기구성이 완료되었다: (i) 최대 아크 압력과 방전 챔버로부터 효과적르로 가스를 제거하여 촉진된 원주압 차이를 증가시키는 동시에, 강력한 소용돌이식 플라즈마 형성 가스를 방전 간극에 주입함으로써 얻어지는 플라즈마 아크의 효과적인 안정성; (ii)몸체 벽에 의한 열 제거 증가; (iii) 가열된 플라즈마 형성 가스의 주입. □ 기술 평가 및 경제성 플라즈마 생성기는 다음을 가능하게 해 준다. ● 방전 플라즈마 안정성의 효율 증대 ● 플라즈마 형성 가스의 고속 주입으로 작동 신뢰도 향상 ● 플라즈마와의 접촉 시 벽에 있는 증발성 물질에 의한 플라즈마 오염 감소 ● 원주압 차이로 인한 축 위 좁은 플라즈마 기둥을 따라 방전 처리 과정이 집결됨 □ 응용분야금속의 플라즈마 아크 절단
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□ 기술개요전자 빔 분말 야금(EBPM) 설비는 사전 진공식(5-10-³mmHg)이나 화학적 활성 매체에서 작용하는 핫캐소드(hot-cathode)보다 수명이 2등급 높은 전자 빔 플라즈마 총을 기반으로 하여 개발되었다. EBPM 기술의 새로운 특징은 품목 내에서 직접 전자 빔을 사용한 분말야금과 고전 마이크로야금의 동시 처리공정을 포함한다. 빔 내 고전력 밀도(10⁴÷105 W/cm²), 빔 에너지 파라미터의 실시간 제어, 그리고 용융조(10÷20 mm³)의 작은 부피는 욕조의 필수 온도와 그 가열 및 냉각 속도의 적절한 광범위 변화에 의한 처리공정을 제어할 수 있도록 해 준다. 더욱이 감온성 혼합 분말의 사용으로 미소체적 내 전자 빔에 의해, 그리고 합성물을 사용하여 소결시키는 액상 처리 공정에 의해, 자전 합성(self-propagating synthesis)이 가능하다. 이러한 특징들은 임의 합금 또는 형상을 가진 재료 위로 층간 및 경사 코팅을 포함하여, 분말 코팅의 다양한 기능적 특성이나 임의 두께를 가진 코팅을 고려했을 때 EBPM 기술을 보편적으로 만들어 주는 역할을 한다. □ 기술 명세 작업실 압력 5*10-¹Pa 가속 전압 up to 30 kV 전자 빔 전원 1 ÷ 3.5 kW 정격 출력8 kW전력 소비,% 100 코팅 속도 6 ÷ 10 g/min 코팅 품목 길이 up to 800 mm □ 기술 평가 및 경제성 본 EBPM 기술을 사용하여 임의 두께를 가진 새로운 경사 전기-접촉 코팅을 얻고 그 화학 구성 물질, 구조 및 기본 특성(경도, 내마모성, 내열성 등)을 광범위 내에서 의도적으로 변화 시킬 수 있다. 본 EBPM 기술은 다음을 가능하게 해 준다. ● 코팅 재료로부터 휘발성 물질의 방출 ● 액체 금속조(liquid-metal bath)의 신속한 결정화로 코팅 구조 개선 ● 침전 분말 활용 극대화 ● 코팅 품목 수축 및 좌굴 최소화 ● 코팅 다공성 최소화(< 0.5%) ● 코팅 두께 확대(20 mm 까지) ● 환경적 안정성 □ 응용분야● 트랙터 공학(크랭크축, 캠축, 밸브, 피스톤, 리프터, 버킷 코그(bucket cog), 불도저 주형 등) ● 야금학(송풍구, 주형, 열간 및 냉간 압연을 위한 롤러, 버트-앤드 개스킷(butt-end gasket)) ● 전력 공학(고전압 스위치 전극, 스팀 및 가스터빈 날, 스톱 밸브) ● 채광(드릴 도구, 축, 막대, 슬라브관, 분쇄 장치 작용 요소) ● 석유 산업(스톱 밸브, 열전대 커버) ● 철도 및 선박 운송 ● 기계 제작 ● 항공기 및 로켓 제작
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□ 기술개요본 ES-4М 장비는 전기-스파크 합금화를 이용해 장비 날인과 도구 절단 이외에도, 기계 및 부품의 표면 위로 경화, 내마모, 보호, 이형 코팅을 침착시키기 위해 고안되었다. □ 기술 명세 본 장비는 50 Hz의 주파수, 220 V의 교류 전류를 가진 단상 회로 상에서 작동한다. 전력 소비는 400 W 미만이고 무게는 12 kg미만이다. 전기 스파크 합금화를 위한 휴대용 장비 □ 기술 평가 및 경제성 전기 스파크 합금화를 위한 휴대용 장비의 응용은 품목들의 내마모성을 증가시키고 표면을 재생시킴으로써 재료를 절약해 주고 재생된 표면을 갖는 품목의 수리 및 유지 기간을 단축시킴으로써 장비의 검사 기간을 연장시켜 준다. 다른 재생 및 수정에 비해 주요한 이점은 휴대가 가능해 현장에서 바로 사용되도록 설치할 수 있으며 직원들로 하여금 고도의 기술을 요구하거나 장기적인 훈련을 필요로 하지 않는다는 점이다. □ 응용분야작동 상태, 전극 재료 및 소재에 따라서 본 장비는 베어링의 장착면 위로 다층 이형 코팅의 침작을 포함하여, 150 μm 두께에 달하는 표면을 수정할 수 있다. 예를 들면, 본 장비는 내연 기관 또는 전기 엔진 내 포켓 축 위의 장착면 재생, 크레인 및 운송 자동차 내 브레이크 드럼 위의 내마모성 코팅을 가능하게 한다. 또한 농업분야에서는 잔디 깎는 기계, 사료 분쇄기, 가지 치는 기계, 경운기 등의 날을 강화시키는데 사용할 수 있다.
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□ 기술개요초음파 마감(UF)은 나사절삭선반을 작동시킨 후 금속 표면의 질을 향상시키기 위해 사용된다. 해당 기술은 표면 소성 변형에 속한다. 본 UF 기술은 표면 평활도, 경도 및 초미세 경도를 향상시키고 재료의 강도 저항, 내마모, 내부식, 내피로성을 증가시키는 표면층 압축응력 수치를 높여 준다. □ 기술 명세 전원, V 220 주파수, Hz 50 전원 소모, W 250 냉각 (압축 공기), MPa 0.4 출력 전원 제어기, W 110,120,140,160 크기, mm:발전기 370x230x120 기계 305x120x70 무게, kg 5.7 □ 기술 평가 및 경제성 해당 기술은 표면 평활도를 처음과 비교했을 때 2-3 등급 정도 질적으로 향상시키고 경도는 2-3배 증가시키며, 초미세 경도는 1.8-2.2배 증가시켜 준다. 그뿐 아니라 재료의 강도와 내마모성을 증가시켜 주는 표면층 압축응력도 제공한다. □ 응용분야본 초음파 마감 기술은 철로 운송 부분의 수선, 전력 공학, 그리고 경화 및 품목의 마감이 요구되는 다양한 분야의 산업에 응용 된다.
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건축 유리 위로 열-반사 코팅을 침착 시키는 기술은, 건축 유리 위로 산화 금속 필름을 마그네트론 스프레이(magnetron spraying)하는 법과 고 에너지 가스 이온 빔에 의한 표면 충격법을 결합한 것이다. 본 처리 공정은 두 개의 확장 평면 마그네트론 스프레이와 하나의 확장 평면 가스 이온 소스로 구성된 이온-마그네트론 스프레이 시스템(ion-magnetron spraying system)의 도움으로 진공 체임버의 압력이 2 х 10-³Pa인 곳에서 진행된다. 하나의 확장 평면 가스 이온 소스는 또한 코팅 침착 전 평면 유리의 세척 및 활성을 위해 사용된다. 스프레이로 인해 유리의 표면으로 고 접착성을 보이는 안정적인 다층 나노결정 코팅이 형성된다. 건축 유리 위로의 이온 충격에 의한 진공 마그네트론 침착 시설 □ 기술 명세 - 파장 범위의 가시광선 투과율 0.3 μm ≤ Λ ≤ 0.8 μm - 0.80 ÷ 0.85; - 파장 범위의 적외선 방사율 2.5 μm ≤ Λ ≤ 25 μm - 0.08 ÷ 0,10; - 유리 기질로의 코팅 점착 - 15 ÷ 19 MPa. □ 기술 평가 및 경제성 기존 유사품과는 대조적으로 해당 기술은 높은 내마모성, 내화학성, 그리고 유리표면으로의 점착성을 가진 열-절감 코팅 침착을 가능하게 한다. 이러한 코팅이 되어 있는 건축 유리는 봉인 이중-유리 이외에도 창문의 기존 창틀 유리를 만들기 위해 사용될 수 있다. □ 응용분야구조용재, 자동차 산업, 운송 기계 제작, 항공기 제작, 전자 산업 □ 개발 단계 생산의 초기 단계, 설비의 파일럿 샘플
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전기·전자 > 기타 전기/전자
열 전달, wт/м (1,3-2,0)*10Е2 별도의 전기 저항,1*10Е14이 넘지 않은 Ом/см, 세라믹은 판, 작은 구, disk 모양으로 생산된다.
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전기·전자 > 기타 전기/전자
□ 기술개요시스템의 작용은 헬륨-네온 레이저에 의해 발광된 물체의 두 스페클 이미지 사이 무상관 관계를 결정하는데 근거하고 있다. 이 이미지들은 소프트웨어 수준으로 처리되고 얻어진 결과는 모든 변형과 그 시간의 변화를 결정하는데 사용될 수 있다. 해당 시스템은 다음을 위해 고안되었다. ● 금속 구조와 기계적 요소에 대한 강도 분석 ● 균열 핵생성 지점(fracture nucleation site) 결정 ● 소성 변형 불균일성 조사 ● 물질 유동 연구 ● 소성 변형 시작 결정 ● 균열 인성 결정 ● 열팽창 측정 ● 소성 변형 국소화 조사 ● 물체의 소규모 변위 측정 ● 균열 가능 지점 예측 해당 시스템은 실시간으로 작동한다. □ 기술 평가 및 경제성 해당 시스템은 레이저 빔에 의한 물체의 간섭성 조사를 수반하는데 이는 역시간창(lag window)의 크기를 증가시키고 사상 변형장(the mapped strain field)을 완화시켜 변형-국소화 영역을 이미지화할 때 에러를 줄일 수 있도록 해 준다. □ 응용분야해당 시스템은 기계 제작, 연구소 내 소성 변형 및 균열의 연구에 사용될 수 있다.
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전기·전자 > 기타 전기/전자
□ 기술개요본 소재는 1500 V에 달하는 전압의 교류 및 직류 회로에 사용되는 고-전류 접촉부분을 낡은 터미널에 납땜시키기 위해 고안되었다. 이것은 임의 크기(소비자의 요구에 따라)의 소결된 플레이트 형태로 공급된다. 이 플레이트는 금속 가공 기계를 사용하여 요구된 크기의 가공 판재 조각으로 쉽게 분할되며 이 조각들은 전기 접촉법 또는 버너 불꽃에 의해 낡은 접촉부분에 땜질 된다. 용제 없는 전기 접촉법을 사용한 납땜 시 구리-인 솔더 PF07, PMF7, PMF9, PMF0Tsr6-4-0.03)를 사용할 것이 권장된다. 청동 또는 구리-은에 기초한 땜납을 이용한 납땜도 가능하다. □ 기술 평가 및 경제성 본 재료는 은을 기반으로 한 전기 접촉 소재보다 내아크성에 있어서 우수하며 가격도 3-5배 저렴하다. □ 응용분야본 소재는 작동 조건 상 전원 회로의 빈번한 전류 차단을 필요로 하는 크레인, 굴착기, 광산 트럭, 그리고 기타 전동차를 끌어 올리는 데 사용되는 전원 회로 접촉 부분에 적용 된다.
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전기·전자 > 기타 전기/전자
□ 기술개요다목적 플라즈마 토치가 분말 재료의 스프레이, 코팅, 표면 변형을 위해서 개발되었다. 전극 간 삽입(IEI) 및 양극성 아크 등 광범위한 부속장치를 가지고 있는 플라즈마 토치의 기본 응용 영역은 다음과 같다. ● 임의 분말 소재, 주로 내화 소재 코팅 ● 분말 구상화 및 치밀화 등을 포함한 플라즈마 처리 가공 ● 코팅 용융, 표면 경화 및 변형, 표면 질화 등을 포함한 고농축된 층류 플라즈마 제트 열처리 가공 □ 기술 명세 다용도 플라즈마 토치● 정격 전압 - 50 kW (25와 100 kW 도 가능); ● 열효율 - 최대 80%; ● 아크 전류 - 200 A 미만 ● 작동 가스 - 공기, 천연 가스, 아르곤 질소, 헬륨, 및 이들의 혼합물 ● 테스트 -가스(공기)유속 - 0.5 - 2.5 g/초 ● 일반 노즐 직경 - 8 - 10 mm; ● 디자인 형태 - 고정형 및 휴대형 다용도 플라즈마 토치-휴대용 □ 기술 평가 및 경제성 ● 난류 및 층류 플라즈마 제트(a turbulent and laminar plasma jet)와의 연계가 가능, 이는 임의 분말 소재(금속, 세라믹, 구성물 등)의 코팅에 응용된다. ● 층류 제트에서 처리된 소재로 고 전력 밀도 열 유입, 이는 플라즈마 토치를 더 우수한 접착과 낮은 다공성을 위한 코팅 용해에, 또한 표면경화, 플라즈마-역학 처리, 내화성 분말의 구상화에 이용하도록 해 준다. ● 모든 순수 작동 가스(아르곤, 질소, 헬륨, 천연 가스, 및 이들의 혼합물) 이외에 공기를 사용할 수 있어 자본 회수 기간이 현저히 줄어든다. □ 응용분야플라즈마 토치의 주요 사용자는 전력 공학이나 재생에 중점을 두고 있는 기계 제작 기업들, 새로운 물질 생산 기술을 다루는 연구원 및 회사들이다. 해당 영역은 다음과 같다. ● 다양한 기계와 장비의 낡은 장치나 부품에 대한 차원 회복과 동시 경화 ● 내부식성, 내마멸성, 앤티캐버테이션(anticavitation), 내마모성 코팅의 응용 ● 층류 제트가 적용된 세라믹 고 접착 물질의 열보호, 열장벽, 내열, 절연 코팅 ● 수하물 충격 저항 코팅 ● 임플란트 생의학 코팅
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전기·전자 > 기타 전기/전자
□ 기술개요해당 기술은 특수 공기 추진 장치(공기-추진 발생기)를 사용하여 매우 짧은 시간 안에 만들어진, 펄스 공기 흐름의 강력한 충격파에 근거하고 있다. □ 기술 명세 압력 30 - 50 bar 작용 가스 공기 효율 하나의 가열기구 당 10분 □ 기술 평가 및 경제성 ■ 고 효율 세척 ■ 높은 신뢰성 및 안정성 ■ 생태학적 안전성 ■ 광범위 충격 파라미터 □ 응용분야다양한 종류의 산업. 주거 및 공동 서비스
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- 2009-02-20
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일반기술
전기·전자 > 기타 전기/전자
□ 기술개요해당 기술은 작동 수명 향상을 목적으로 강철 및 주철 품목을 표면경화 시키기 위해 고안되었다. 이 처리 작업은 강력한 고주파 펄스에 의해 표면을 신속하게 가열시킨 다음 금속 내면으로 열을 방출함으로써 가열된 층을 급속하게 자기 유도 경화시키는 것이다. 분산된 경화 구조(마텐자이트, 카바이드 등)의 형성은 재료의 경도 및 내마모성을 증가시켜 준다. 200 kW의 일반적인 HF 발생기를 연속 펄스 작동 모드로 변환시키는 장비와 일련의 특수 유도장치가 개발되었다; 타 종류의 강철 및 주철로 이루어진 품목의 경화 처리 공정이 고안 되었다. 강철판 경화는 65 HRC에 이르고 경화 깊이는 1.5 mm(발생기 주파 수 440 kHz)에서 3 mm(발생기 주파수 66 kHz)로 다양하다. 본 공정의 효율은 초당(60kW의 발생기) 경화된 표면이 최대 15 cm²에 달한다. □ 기술 평가 및 경제성 ― 휨 현상 부재 또는 매우 낮은 정도 ― 플라스틱 코어 및 입자 분산으로 인한 적은 부서짐 ― 다양한 품목의 외면 및 내면의 국소적 경화 ― 낮은 가열 에너지 비용 ― 엔지니어링의 단순함, 자동화의 편이함 □ 응용분야축 표면, 롤러, 바퀴, 회전체, 슬리브관의 내면, 디젤 실린더의 경화, 유도장치, 프레임, 임의의 면, 도구, 스탬프, 칼날, 곡선 모양 품목 등의 경화
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일반기술
전기·전자 > 기타 전기/전자
신유형의 자기센서전계효과 홀센서(FEHS)가"실리콘 온 인슐레이"(SOI)기술 기반으로 개발되었다. *SOI 구조의 초박막 실리콘 층(약 0.1Mcm)과 수평 더블 게이트 MOS 구조는 독특한 FEHS 특성과 FEHS 파라미터의 유동적 제어를 제공한다. FEHS의 특색"자기유도 신호의 탐지와 증폭의 결합, -"독특한 자기민감성(탐지 제한이 10-7T 이상);"광범위한 운용 온도(300℃까지);"낮은 에너지 소비(전통적인 반도체 홀 센서보다 10-1000배 가량 절약);"높은 이레디에이션 강도;"자기민감성의 동적 범위, 자기민감성의 온도계수, 동작 전류, 방사능 안정성의 전기장 제어;"자기유도 신호 처리의 새로운 가능성;"자기제어 IC 개발 가능성. FEHS
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일반기술
전기·전자 > 기타 전기/전자
전기 동력 시스템(HSC EPS)의 완전 가변식 실시간 하이브리드 시뮬레이션 복합기는EPS의 평상시 및 위급 상황 처리 분석, 중계 보호 장치의 제어 및 현대화, 기술 및 위급상황 자동화에 응용 된다. □ 개요 및 운전율하이브리드 시뮬레이션 복합기는 병렬식, 다중처리, 하이브리드 유형의 프로그램-기술실시간 시스템이다. 이는 EPS 시뮬레이션 설계 장치와 정보 제어 시스템(ICS)의 특정한하이브리드 프로세스를 응용할 수 있는 그룹으로 구성되어 있다."
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