산업기술 통합검색
제강공정에서 발생한 슬래그를 이용해 건축용자재를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 슬래그의 평균입도를 11㎛보다 작게 분쇄하는 단계와 분쇄된 제강슬래그에 CaO/SiO2의 배합비를 (35~45)중량% :(55~65)중량%로 조절하기 위해 추가되는 규석분말과 수화반응 촉진재인 소석회(Ca(OH)2) 분말을 함께 섞어 혼합물을 만드는 단계와 혼합물을 가압성형하여 판 형태의 성형체로 가압성형하는 단계와 성형체를 오토클레이브 내에서 수열합성하는 단계를 포함한다..수경성을 가진 제강슬래그를 미립자로 분쇄한 후 환원처리하지 않고 수열합성하여 건축용자재를 제조하므로, 환원처리에 따른 비용을 절감할 뿐 아니라, 수열합성반응이 비교적 저온에서 이루어지므로 침상형의 토버모라이트 결정을 성장시켜 고강도의 건축용자재를 얻을 수 있는 효과를 갖는다
본 기술은 아세틸렌기를 하나 이상 포함하는 유기화합물을 진공에서 기질 위에 증착시킴과 동시에 또는 증착 후에 열처리 및/또는 자외선 조사에 의하여 중합시켜 유기박막을 제조하는 증착중합법, 그 방법에 의하여 제조된 증착중합 박막, 및 그 박막을 한 층 이상 사용한 전기 발광소자에 관한 것이다. 본 기술에서는 진공증착기를 이용한 유기박막 제조시, 고온에서의 라디칼 형성공정 및 불필요한 부산물의 발생을 피하고자, 비교적 저온의 열처리 또는 자외선 조사에 의하여 용이하게 중합반응을 일으키는 아세틸렌기를 하나 이상 포함하는 유기화합물을 합성한 후, 이를 전구물질로 사용하여 증착중합 박막을 제조한다. 본 기술의 방법에 의하여 제조된 증착중합 박막은 두께가 균일하고 우수한 열안정성을 가지며 필요에 따라 패턴을 형성할 수 있어, 반도체의 층간 절연박막, 전기 발광소자, 태양전지, 복사기와 레이져 프린터 등 다양한 분야에 응용이 가능하다. 본 기술의 아세틸렌기를 하나 이상 포함하는 유기화합물을 증착중합 박막 제조에 이용하면 고온에서의 열 중합 공정을 거치지 않고, 다만 진공 조건에서 증착과 동시에 또는 증착 후에 열처리 또는 자외선 조사를 행하여 고분자 박막을 용이하게 얻을 수 있으며, 불필요한 부산물이 발생하지도 않는다. 이와 같이 제조된 증착중합 박막은 두께가 균일하고 우수한 열안정성을 가지며 필요에 따라 패턴을 형성할 수 있어, 반도체의 층간 절연박막, 전기 발광소자, 태양전지, 복사기와 레이저 프린터 등 다양한 분야에 응용이 가능하다. 최대 해상도는 약 10㎛ 정도까지 가능하다.
본 기술은 기재 표면에 친수성 코팅층을 형성하기 위한 방법에 관한 것으로서, 기재를 양이온 고분자 수용액에 침지시켜 기재의 표면에 양이온 코팅층을 형성한 후 수세 및 건조하고, 표면에 양이온 코팅층이 형성된 기재를 음이온 고분자 수용액에 침지시켜 양이온 코팅층위에 음이온 코팅층을 형성한 후 수세 및 건조하는 것을 포함한다. 본 기술의 재료표면의 친수화 코팅방법에 따르면, 기재의 크기와 형태에 대한 제약없이 무기 재료 뿐만 아니라 플라스틱, 고무 등의 고분자 재료의 기재에도 친수성 코팅층을 형성할 수 있다.본 기술에 따른 양이온 고분자 수용액 및 음이온 고분자 수용액에 침지시킴으로써 기재의 표면에 양이온 고분자층 및 음이온 고분자층을 교대로 형성하는 것을 포함하는 친수성 코팅층의 제조방법은 기재의 크기 및 형태의 제한이 없고 코팅층이 투명하여 기재의 원색 및 투명도를 그대로 유지시킬 수 있으며, 또한 수용액상에서의 침지법을 이용하므로 환경 친화적이며, 기재로서 유리, 세라믹, 금속 등의 무기재료, 및 플라스틱, 고무 등의 범용 고분자재료가 모두 사용될 수 있으므로 광범위한 산업분야에 유용하게 적용될 수 있다. 금속이나 세라믹 재료 뿐만 아니라 고무를 포함한 고분자 재료에까지 친수성 코팅을 가능하게 하는 기술이다.
본 기술은 항균이 우수한 필터의 제조방법에 관한 것으로, 키토산을 산 수용액에 용해시켜 키토산 용액을 제조하고, 키토산 용액에 필터를 침지시켜 키토산을 흡착시키고, 키토산 처리된 필터를 알칼리 수용액 중에 침지시켜 중화시킨 다음 건조시킨다.본 기술에 따라 키토산 처리된 항균 필터는 필터의 공기 투과도, 항균성, 내구성 등이 높아 자동차용 에어컨 필터 등의 용도에 적합하다. 제조한 항균 필터는 항균성, 공기 투과도 및 내구성 등이 우수하다.
본 기술은 테라헤르츠파 전송을 위한 플라스틱 광결정 섬유 및 그 제조방법에 관한 것으로, 테라헤르츠 대역의 전자파를 전송할 수 있는 도파로로 사용하기 위하여 제조가 용이하며, 광결정 구조를 채용함으로써 저손실의 특성을 가지는 새로운 구조의 플라스틱 광결정섬유 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다. 본 기술에 의하여 제공되는 플라스틱 광결정 섬유는, 길이 방향의 축을 갖는 결정결함부 및 결정결함부를 둘러싸는 광결정부를 포함하며 여기서 광결정부는 축방향에 수직한 단면이 소정의 격자상수를 가지는 2차원 광결정 구조를 이루며 길이 방향의 축을 가지는 다수의 플라스틱 요소들을 배열로 이루어진 플라스틱 광결정 섬유이다. 여기서 제공되는 플라스틱 광결정 섬유는 광통신용 플라스틱 광결정 섬유의 제작을 위한 플라스틱 프리폼으로 사용가능하다.본 기술에 의하여 제공되는 플라스틱 광결정 섬유는 길이 방향의 축을 갖는 결정결함부 및 결정결함부를 둘러싸는 광결정부를 포함하며, 여기서 광결정부는 축방향에 수직한 단면이 소정의 격자상수를 가지는 2차원 광결정 구조를 이루며, 길이 방향의 축을 가지는 다수의 플라스틱 요소들의 배열로 이루어진 플라스틱 광결정 섬유이다. 또한 본 기술에 의하여 제공되는 플라스틱 광결정 섬유는 광통신용 플라스틱 광결정 섬유의 제작을 위한 플라스틱 프리폼으로 사용될 수 있다.
본 기술은 1,5-헥사디엔을 cyclopolymerization하여 poly(methyl-1,3-cyclopentane)을 중합하고 이를 형상기억수지로 이용하는 방법에 관한 것이다. Poly(methyl-1,3-cyclopentane)은 중합시 사용하는 촉매에 따라 입체 규칙성이 다른 다양한 것이 얻어진다. 입체규칙성이 작아 결정성이 작은 poly(methyl-1,3-cyclopentane)은 이 고분자의 유리전이온도를 형상회복온도로, 이 고분자의 녹는점 혹은 연이어 중합하여 부착된 비닐계 고분자 블록의 전이온도(결정성 블록의 경우는 녹는점이며 비결정성 블록의 경우는 유리전이온도임)를 고정상의 전이온도로 이용한다. 입체규칙성이 커 결정성이 큰 poly(methyl-1,3-cyclopentane)은 이 고분자의 녹는점을 형상회복온도로, 연이어 중합하여 부착된 비닐계 고분자 블록의 전이온도를 고정상의 전이온도로 이용한다. 본 기술은 고정상의 전이온도 이상에서 성형하여 제 1 형상의 성형체를 얻고, 이 성형체를 가역상의 전이온도(유리전이온도 혹은 녹는점)와 고정상의 전이온도 사이 (이 온도 범위에서 rubbery 함)에서 변형을 준 후, 외력을 유지한 채, 가역상의 전이온도 이하로 급냉하면(이 온도에서 glassy 함) 변형된 제 2의 형상이 고정되며, 이를 다시 가역상의 전이온도 이상으로 가열하면 저절로 애초의 제 1 형상이 회복되게 된다.가역상의 녹는점을 형상회복온도로 이용하는 경우, 이 온도가 중합된 poly(methyl-1,3-cyclopentane)의 입체규칙성에 따라 자유자재로 조절될 수 있으므로, 재료의 용도에 적절한 형상회복온도의 설계가 자유로운 장점이 있다.
일반인들의 환경에 대한 관심이 늘어남에 따라 환경산업은 21세기 국가 기반산업의 하나로 인식되고 있다. 이러한 추세에 발맞추어 최근 선진 제철소들은 신소재인 이산화티탄(TiO2)광촉매를 코팅한 강판 개발에 관한 연구를 진행하고 있다. 이산화티탄 코팅강판은 기존소재인 지올라이트계의 항균도장재나 항균 스테인레스보다 우수한 항균특성과 아울러 폐수처리 및 대기환경오염 제거능력도 보유한 것으로 밝혀져 미래의 광범위한 수요가 예상된다. 본 기술은 항균도장강판의 코팅제 및 여타 환경정화용으로 사용가능한 이산화티탄 분말을 저원가로 제조하는 것에 관한 내용이다.혼합용매의 조성 비, 금속, 염의 농도, 첨가제 및 가열속도 등을 변화시켜 구형 비정질 이산화티탄 크기를 0.1 ~ 5 미크론 범위에서 다양하게 제어 가능하고, 침출수의 정화실험을 통해 제조된 이산화티탄분말의 광촉매 특성이 상요분말 대비 우수하다. 광촉매 sol을 사용한 연속 코팅강판 생산에 적합한 공정으로 dip coating법과 roll coating법 개발하였다. 광촉매가 coating된 강판을 이용하여 대장균의 살균효과와 조류의 분해능 및 악취유발물질 MIB Geosmin의 제거능 확인, 이를 통해 항균용 건축재료 및 급수탱크, 수질 정화장치 등에 활용 가능성이 높을 것이다.
본 기술은 poly(1-alkene) 블록을 가역상으로 이용하고, 비닐계 단량체 블록을 고정상으로 이용하는 형상기억 수지에 관한 것으로 poly(1-alkene) 블록의 side chain의 녹는점을 가역상의 전이온도, 즉 형상회복온도로 이용한다. Poly(1-alkene)의 side chain의 녹는점은 1-alkene의 탄소수가 많을수록 높아지므로, 적절한 1-alkene을 선정함에 따라 형상회복온도를 10～100℃ 범위에서 다양하게 설계할 수 있다. 고정상으로 이용하는 비닐계 단량체 블록은 유리전이온도가 100℃ 이상 되는 비결정성 블록 혹은 녹는점이 100℃ 이상되는 결정성 블록을 가공온도의 필요성에 따라 적절히 선정할 수 있다. 이 재료는 고정상의 전이온도(녹는점 혹은 유리전이온도) 이상에서 성형하여 제 1 형상의 성형체를 얻고, 이 성형체를 가역상의 녹는점과 고정상의 전이온도 사이 (이 온도 범위에서 rubbery 함)에서 변형을 준 후, 외력을 유지한 채, 가역상의 녹는점 이하로 급냉하면(이 온도에서 glassy 함) 변형된 제 2의 형상이 고정되며, 이를 다시 가역상의 녹는점 이상으로 가열하면 저절로 애초의 제 1 형상이 회복되게 된다.가역상의 녹는점을 형상회복온도로 이용하는데, 이 온도가 선택한 1-alkene의 길이에 따라 자유자재로 조절할 수 있으므로, 재료의 용도에 적절한 형상회복온도의 설계가 자유로운 장점이 있다.
본 기술은 aliphatic polyester-polyamide 블록 공중합체와 aliphatic polyester와 상용성을 갖는 제 2의 고분자 (폴리염화비닐, phenoxy resin 등)와의 블렌드물을 구성 소재로 하는 형상기억 고분자 재료에 관한 것이다. 즉, aliphatic polyester-polyamide 블록공중합체를 제 1성분으로 3～90 중량%, 제 2의 고분자를 97～10 중량% 혼합하여 만든 조성물로서, 폴리아미드 블록의 영역을 고정상으로, aliphatic polyester와 제 2 성분 고분자의 균일 혼합상을 가역상으로 이용하는 형상기억수지이다. 가역상의 유리전이온도를 형상회복온도로 이용하며, 이 온도는 aliphatic polyester 블록/제 2의 고분자 조성비가 변함에 따라 -100℃ ～ 130℃ 범위에서 자유롭게 설계할 수 있다. 폴리아미드 블록의 녹는점 이상에서 조성물을 성형하여 제 1 형상의 성형체를 얻고, 이 성형체를 가역상의 유리전이온도와 고정상의 녹는점 사이(이 온도 범위에서는 rubbery 함)에서 변형을 준 후, 외력을 유지한채 가역상의 유리전이온도 이하로 급냉하면(이 온도에서는 glassy 함) 변형된 제 2의 형상이 고정되며, 이를 다시 가역상의 유리전이온도 이상으로 가열하면 저절로 애초의 제 1 형상이 회복되게 된다가역상의 유리전이온도를 형상회복온도로 이용하는데, 이 온도가 aliphatic polyester블록/제 2의 고분자 조성비에 따라 자유자재로 조절할 수 있으므로, 재료의 용도에 적절한 형상회복온도의 설계가 새로운 고분자의 합성없이 배합비로 용이하게 조절할 수 있는 장점이 있다.
산화마그네슘 단결정은 고온 초전도 물질, 페로브스카이트형 산화물 (강유전성 물질) 등을 박막으로 제조하기 위해 흔히 기질로 이용된다. 그러나 단결정은 크기에 한계가 있고 그 자체로는 실리콘 반도체와 혼성 소자를 만들 수 없기 때문에 실리콘 기질 위에 산화마그네슘을 박막으로 제조하려는 연구가 오랫동안 이루어졌다. 펄스 레이저 침착법 (pulsed laser deposition, PLD)으로는 질이 좋은 산화마그네슘 박막을 제조할 수 있으나 이 또한 값비싼 장비를 써야 하고 기질의 크기에 제한을 받는 점에서 불리하다. 경제적으로 유리한 화학 증착법으로 실리콘 기질 위에 산화마그네슘을 적층 성장시키는 방법은 오래도록 개발되지 못하였으나 본 기술에서는 입방형 탄화규소를 실리콘 (001) 기질 위에 완충층으로 입히고 그 위에 티부틸산메틸마그네슘 (MeMgOtBu, MMTB)을 단일 선구 물질로 사용하여 산화마그네슘 박막을 적층 성장시켰다. 본 기술로 제조한 산화마그네슘 적층 박막은 지금까지 CVD로 제조한 어떠한 박막보다도 질이 좋으며 PLD로 만든 박막과 비교해도 거의 대등하다. 본 기술은 산화마그네슘과 격자 상수가 비슷하고 실리콘 기질 위에 적층 성장시킬 수 있는 입방형 탄화규소를 완충층으로 사용하여 그 위에 산화마그네슘을 적층 성장시키는 점에서 다른 어떠한 산화마그네슘 CVD 방법보다 더 우수하다. 단지 산화마그네슘의 단일 선구 물질로 쓴 MMTB의 물성이 그리 좋지 않기 때문에 다루기에 더 편리한 선구 물질이 필요하다. 다른 선구 물질로 마그네슘의 β-디케톤산염이나 시클로펜타디에닐 화합물을 쓸 수 있으나 이들 화합물로는 산소를 반드시 함께 써야 산화마그네슘을 만들 수 있으므로 공정이 더 복잡해진다. 따라서 새로운 선구 물질이 나와야 하는데 현재 본 기술에서는 마그네슘의 새로운 화합물들을 여러 가지 합성하여 시험해 보고 있으므로 앞으로 더 좋은 선구 물질이 나올 것으로 기대한다. 이 문제만 해결하면 실리콘 (001) 기질 위에 입방형 탄화규소를, 그 위에 산화마그네슘을, 그 위에 페로브스카이트 물질을 계속 적층 성장시킴으로써 실리콘 기질 위에 페로브스카이트 소자를 제조할 수 있을 것이다.
흔히 사용하는 발화성이 강한 실란 (SiH4) 대신 발화성이 없어 훨씬 더 안전한 1,3-디실라부탄 (SiH3CH2SiH2CH3, 1,3-disilabutane, DSB)을 단독으로 화학 증착법 (chemical vapor deposition, CVD)의 원료로 사용하여 실리콘 (100) 기질과 (111) 기질 위에 입방형 탄화규소 (3C-SiC) 박막을 제조하였다. 이 방법으로 탄화규소 박막을 만들 때 실리콘 기질 표면의 초기 탄화 과정을 거치지 않아도 되고 증착 온도도 실란과 프로판을 쓰는 기존 공정에 비해 400 oC 이상 낮아진다. 또 육방형 탄화규소 단결정 4H-SiC나 6H-SiC 웨이퍼 위에 적층 성장을 실시할 때에도 증착 온도가 500 oC 이상 낮아져 아주 유리하다. 본 기술은 단일 선구 물질의 장점이 잘 드러나는 기술로서, DSB를 쓰는 공정은 간단하고 안전하며 증착 온도가 낮아 에너지를 절약하는 방법도 된다. 본 기술로 제조하는 탄화규소 박막은 실란과 프로판 또는 다른 단일 선구 물질을 써서 얻는 박막보다 품질이 더 좋음이 투과 전자 현미경 분석법으로 밝혀졌다.본 기술은 발화성이 없는 안전한 DBS를 단일 선구 물질로 사용하여 비교적 낮은 온도에서 탄화규소 박막을 제조하는 점에서 기존의 실란과 프로판을 쓰는 공정보다 훨씬 더 유리하다. 실리콘 기질의 표면을 탄화시키지 않고도 적층 성장을 달성하며 또 단일 선구 물질 하나로만 탄화규소 박막을 제조할 수 있는 본 기술은 여러 면에서 뛰어나는 점을 지닌다. 현재로는 본 기술의 단점이나 보완점이 없는 것으로 보인다. 국내외적으로 탄화규소 박막을 제조할 때에는 기존의 방법 대로 실란과 프로판을 규소와 탄소의 원료 화합물로 쓴다. 그러나 본 기술의 장점이 알려지기 시작하여 최근에는 미국에서 본 기술을 이용하여 실리콘을 바탕으로 하는 MEMS (microelectromechanical system)에 탄화규소를 증착시켜 더욱 좋은 특성을 얻었다는 보고가 있었다. 이 보고는 본 기술로 탄화규소의 증착 온도가 많이 낮아졌기 때문에 비로소 나올 수 있게 된 것이다. 탄화규소는 그 다형체 (polytype)에 따라 몇 가지 산화물과 질화갈륨 (GaN)의 기질로도 쓰이기 때문에 본 기술의 응용이 더욱 늘어날 것으로 보인다.
본 기술은 세라믹 슬러리를 원하는 형상의 금형에 주입한 후 화학응고 반응을 이용하여 고화시키고 탈형한 후 제어된 분위기에서 건조시켜, 복잡형상의 대형 세라믹 성형체를 제조하는 실형상 습식 성형기술이다. 종래의 세라믹스 성형방법은 주로 얇은 제품의 성형에 사용되는 슬립캐스팅, 작고 단순한 제품은 프레스성형, 작고 복잡한 제품의 성형은 냉간가압성형 등이 사용되어 왔다. 그러나 이들 방법은 성형체 크기의 제한, 형상의 제한, 과다한 초기설비 투자 등의 문제로 산업소재로써의 세라믹스 응용에 걸림돌이 되어 왔는데, 본 기술은 유동성이 좋은 슬립상태로 금형에 주입한 후, 상온응고형 고분자 또는 고분자 단량체의 중합을 이용하여 고화시킨 후 탈형하고 건조를 제어함으로써 최소한의 설비 투자로 대형, 복잡 형상의 세라믹 성형체를 쉽게 제조할 수 있는 기술이다.
본 기술은 강력한 지구온난화 가스인 PFC 가스의 효과적인 분해 방법에 관한 것으로서, 본 기술에 따른 알칼리금속 할로겐화물/고로 슬랙/Si계 성분의 혼합분말 및 과립을 화학처리제로 사용하여 500 내지 900도 범위의 온도에서 처리하면 PC를 높은 효율로 분해할 수 있는 기술이다. 즉, 지구온난활르 유발하는 가스 중 온난화 지수가 가장 큰 가스인 CF4를 포함하는 PFC 가스를 효과적으로 분해하는 시스템으로 화학환원제를 사용한다. 반도체 제조 공정에서 다량 사용하는 PFC 가스를 보다 경제적으로 처리함으로써 환경처리비용을 최소화시키고 환경 개선 효과를 극대화시킬 수 있는 기술이다.본 기술에 따른 화학환원제를 사용하면 화학환원제와 PFC가 고온에서 서로 반응하여 부산물의 생성없이 주로 탄소 및 불화물을 생성시키며, 이들 화합물은 환경적으로 무해한 물질로서 공업적으로 재활용할 수도 있다. 갈수록 엄격해지는 국제환경규제에 대응하여 본 기술에 의한 효울적인 PFC 온실가스의 분해기술 개발은 국내 반도체 산업의 경쟁력을 높일수 있을 것으로 기대되는 기술이다.
광학활성 (D)-AOPP계(아릴옥시페녹시프로피온산 유도체) 화합물은 화본과 잡초를 효과적으로 방제하는 세계적으로 수요가 많은 농약이다. 이 농약은 (D)-이성체만이 제초활성을 갖기 때문에 이의 합성을 위해 많은 연구자들이 노력하였으나 성공한 예는 매우 드물다. 한국화학연구원(생리분자 합성연구팀)에서는 (D)-AOPP계 화합물 합성시 필수적인 중간체인 DHPPA의 제조에 관련된 기술을 개발하였다. 2-(4-히드록시페닐옥시)프로피온산[HPPA]은 부제탄소가 1개 있는 화합물로서 D-form [DHPPA]과 L-form [LHPPA]의 2가지 광학활성 이성체가 존재 하며, 이중 D-form만을 합성하는방법으로서 값싼 L-젖산(L-lactic acid)을 출발물질로 사용하고, 5 단계의 화학반응을 수행하여 고순도, 고수율의 DHPPA를 제조하는 기술을 개발하였으며, 동 기술은 지금까지 알려진 제조 공정보다 우수하여 세계적 경쟁력이 있다고 판단되는 기술이다. 광학활성의 DHPPA를 제조하는 기술은 종래에 미생물을 이용하는 생물학적 방법이 있는데, 이 방법은 거대한 장치가 필요하다. 지금까지 알려진 화학적 방법으로는 고순도의 광학활성을 얻는 기술이 없다. 본 기술은 간단한 화학적 반응을 이용하여 고순도의 DHPPA를 얻을 수 있다. 따라서 본 기술은 기존기술보다 경쟁력이 있는 새로운 공업적인 제조방법을 제공한다.
본 기술은 3-아릴티오-4-하이드록시퀴놀린-2(1H)-온 유도체, 그 제조방법 및 NMDA 수용체 복합체에 있는 스트리키닌 (strychinine) 비감수성 글리신 결합자리에 작용하는 강력하면서 특이성을 갖는 길항제 (antagonist)로서의 용도에 관한 것이다. 본 기술의 화합물은 간질, 알츠하이머병, 헌팅톤병 및 파킨슨병을 포함하는 만성 신경퇴행성 질환의 예방 및 치료에 유용하다. 또한 본 기술의 화합물은 뇌졸증, 저혈당증, 국소빈혈, 심장박동정지, 외상과 같은 빈혈이나 저산소증의 결과로서 야기되는 중추신경계의 손상을 줄이는데 유용하다. 또한, 본 기술의 화합물은 항경련제, 진통제, 항우울증 치료제, 항불안 치료제 및 항정신분열증 치료제로 사용된다. 현재까지 세계적으로 뇌졸중 및 관련 신경계 질환들에 효과적인 치료제가 거의 개발되지 못하고 있는 실정이다. 이는 효능뿐만 아니라 심각한 부작용이 그 원인 중 하나라고 알려져 있다. 따라서 뇌신경계의 비정상적인 생리현상을 보정해 줄 수 있는 핵심적 작용점중 하나인 굴루탐산 신호전달경로에 있는 NMDA 수용체의 활성을 제어해 줄 수 있다면, 새로운 작용기전의 뇌질환 치료제의 개발을 이룰 수 있을 것이다. 현재까지 다수의 활성이 높은 글리신 자리 NMDA 수용체 길항제들이 개발되고 있지만, 이들의 대부분은 선택성이 부족하거나, 신경조직으로의 흡수 및 혈류용해성이 낮아 효과적인 약물은 아직 개발되지 않고 있는 실정이다. 이에 본 기술에서는 약물학적 유용한 측면을 가지며, NMDA 수용체 복합체에 있는 스트리키닌 비감수성 글리신 결합자리에 작용하는 강력하면서 특이성을 갖는 길항제들인 2-퀴놀론유도체에 대해 다년간 집중 연구하였으며, 그 결과 3-헤테로사이클릭 메르캅토-4-하이드록시퀴놀린-2(1H)-온 유도체들이 NMDA 수용체에 대하여 강력한 길항작용을 나타내고, 글리신 자리에 특이성을 갖고, 신경세포로 잘 침투하며 용해도가 높음을 밝혀내었고 그들의 동물실험을 통하여 약리효능을 입증하였다.
본 발명은 타르슬러지에 원료탄을 첨가한 후, 공기 분위기하에서 열처리함으로써 고온에서도 타르성분이 유출되지 않는 타르슬러지의 표면 점착성 제거방법을 제공한다.이 방법은 타르슬러지에 원료탄을 전체 중량기준으로 10-90 중량% 첨가하여 상온에서 혼합한 후, 100-200℃ 온도에서 10-30분간 공기 열처리하에 표면을 산화시킴을 포함한다. 본 발명의 방법에서는 100℃ 정도의 고온에서도 타르성분이 분리 유출되지 않아 저장 및 코크스 오븐 재이송시 공급되는 벨트 콘베어상에 타르슬러지가 점착되는 문제점을 해결할 수 있는 것이다.타르슬러지에 원료탄을 혼합물의 전체 중량기준으로 10-90중량% 혼합한 후 100-200℃ 온도에서 공기열처리하에 표면을 산화시켜 고형화하는 것을 포함하는 타르슬러지의 표면점착성 방지방법. 본 발명은 타르슬러지에 원료탄을 첨가하여 원료탄을 첨가하여 고형화함으로서, 원료탄 야드에 보관이 용이함은 물론, 코크스 오븐에 장입되는 수송라인에서 발생되는 문제점을 해결할 수 있는 것이다.
본 기술은높은 양자 에너지(6∼20eV)를 가지는 자외선(60∼200 nm)을 조사함으로써 분자의 어떤 화학결합도 분쇄 가능하다는 것이다. 각종 기재에 대한 박막 코팅 및 표면 처리가 가능하며 광화학 반응을 이용한 여러가지 신물질 제조가 경제적이면서 고속으로 가능하다. 본 기술은설계, 제작의 정확성 및 도출, 생산성 향상의 장점이 있다.본 기술은마이크로전자 분야의 각종 박막 코팅 및 표면 처리, 의료 기구 고속 살균, 비타민-D 등의 정밀화학 소재 합성, 다양한 무늬의 메탈 코팅, 표면 처리, 표백, 인조 다이아몬드 등 신물질 합성 외 다수에 사용가능하며 음료수, 폐수의 박테리아 섬멸, 식품 고속살균 처리용, 가구, 각종 용기의 살균 처리, 위생 살균, 농축수산 생물체의 살균 처리에 사용가능하여 광학분야의 기술 확보 및 수출증대의 효과를 예상한다.
본 기술은 각종 질환 (간 질환, 신장 질환, 대사 질환…)으로 인한 체액 (뇨, 혈액)중 생화학적 물질의 변화를 측정하는 건식 진단 스트립이다.membrane 상에 체액의 생화학적 물질과 반응할 수 있는 시약을 전 처리하여 검체와 반응시 농도별 착색 반응을 일 르키도록 하였다. 고가의 기기, 기술이 불필요, 별도의 시약이 필요 없고, 2분 이내로 신속 측정할수 있고현장 측정이 가능하며개인용, 보건소용, 소규모 의원용으로도 이용가능하다.생화학법과 효소 화학을 이용한 질병 진단에 주로 이용이 되며 약물분석, 농약분석, 각종 질병 진단에 응용에도 사용이 된다. 본 기술은 진단 시약의 국산화를 기대할수 있고국민 보건 향상에 기대된다.
본 기술은 피혁 제조시 Finishing 공정에서의 방수성(Water repellency) 부여하고 독특한 피혁 표면 처리 효과(Pull up effect, Oil nubuck touch)등을부여하였다. Finishing 도막의 접착(부착) 문제 개선하여 피혁의 물리적 강도 향상하고 기존 천연유지(Natural oil)를 대체한 합성유지(Synthetic oil)의 사용으로 자원 이용의 효율성을 증대시켰다. Water repellency, Pull up effect를 지니고 있어 의류혁, 가구혁 등의 기능성 피혁 제조에 활용 가능이 가능하나 일광견뢰도(Light fastness) 미흡하다는 단점이 있다. 주로 Work shoe, Boat shoe, Casual shoes 등의 피혁 제품 제조에 사용에 사용이되고합성섬유, 인공섬유, 기타 표면 처리제로도 사용가능하다. 본 기술은 피혁의 품질 및 물성 향상시키고 완성 피혁의 상품적 가치증대와 수입약품의 국산화로 수입대체 효과 및 제조원가 절감할 수 있다.
국내에 도입된 PPS중합법은 초기 필립스사의 가교 타입으로 반응시 고압으로 인하여 위험이 따르고 반응후 가교화 과정을 장시간 필요로 하여 생산성이 떨어지고 또한 충격 강도가약하여 사용 용도가 제한적이나 본 기술은기존에 사용되는 원료만으로 단시간의 반응으로 고분자의PPS(분자량 12,000에서17,000)를 생산 할수 있으며 가교화 과정없이 충격강도가 강한 PPS를 효과적으로 생산하는 방법이다.본 기술은 기존에 사용되는 저가의(na2s,pdcb,nmp)원로 만으로 선상고분자를 제조하였고 충격강도가 강하므로 전기,전자및섬유,필름,자동차부품등으로 사용이 용이하다.