일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
본 기술은 출발물질로서 대기 중에서 안정하고 질산에 잘 용해되는 산화물과 탄화물, 임의로 금속 및 물에 잘 녹는 금속염을 사용하고 이를 질산용매에 용해시킨 다음 얻어진 투명한 용액을 글리신을 비롯한 아미노산을 첨가하여 자발연소반응을 거쳐 미세한 다성분계의 세라믹분말을 불순물이 없는 고순도의 결정상의 분말을 합성하는 방법에 관한 것이다.본 기술은 고상반응법과 글리신-나이트레이트법의 단점을 배재하는 한편, 이들 방법의 장점을 이용하여 새로운 분말합성법을 개발하였다. 즉 글리신-나이트레이트법의 빠르고, 쉽게, 균일한 고순도의 세라믹 분말을 대량 합성할 수 있는 분말합성법이나, 출발 물질인 금속-질산염의 불안정성과 고가의 문제가 있어, 이를 개선하고자, 출발물질을 고상반응법에서와 같이, 대기 중에서 안정한 산화물, 탄화물 및 금속을 이용하였다본 기술의 결정성 세라믹 분말의 제조방법은 출발물질로서 대기 중에서 안정하고, 질산에 잘 용해되는 산화물과 탄화물 또는 임의로 금속을 사용하여 출발 물질을 질산에 용해시켜 투명한 용액을 얻고 여기에 글리신을 첨가함으로써 자발연소반응을 거쳐 하소시키는 단계로 이루어져 있다.출발물질로는 수용성 금속염을 함께 사용하는 것이 특징이며 출발물질로서 산화물이 La2O3, MnO2 또는 Fe3O4 및 이들의 혼합물 중에서 사용하고 탄화물은 FeCO3, 또는 SrCO3이며 금속은 Co이다.또한 얻어지는 세라믹 분말이 (La,Sr)MnO3계, (La, Sr)CoO3계, (La, Sr)CoMnO3계 또는 (La, Sr)CoFeO3계 결정성 세라믹 분말이며 글리신/나이트레이트의 비율은 0.75이다.본 기술의 자발연소반응에 의한 방법은 기존의 고상방법과 글리신-나이트레이트법의 장점을 취함으로써 대기중에서 안정한 염가의 출발물질을 이용하여, 고순도의 결정성 세라믹을 대량으로 간편하게 제조하는 것이 가능하다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-04-02
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일반기술
화학 > 기타 유기화학
본 발명은 화학식(I)로 표시되는 알릴 할라이드와 화학식(II)로 표시되는 방향족 화합물을 용매 존재하에 또는 비존재하에 금속 인듐(Indium) 단독, 인듐과 고체염기, 인듐과 염기 및 분자체중에서 선택되는 촉매를 사용하여 알킬화 반응시켜 화학식(III)으로 표시되는 알릴 방향족 화합물의 제조방법에 관한 것으로, 이들 화합물은 여러 가지 공업용 화공약품 생산시에 중간 매체나 최종 생산물로 사용될 수 있으며, 고분자 공업, 세척제, 계면 활성제, 윤활유 공업 등에서 유용하게 사용할 수있다. 화학식 (I) R1-CH=CH-C(-R2)Cl화학식 (II) R3-Ar-R4화학식 (III) R3-Ar(-CH2-CH=CH-R5)-R4화학식 (I)에 있어서, R1과 R2는 각각 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸 및 펜틸 중에서 선택되는 알릴기의 탄소에 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1~C5의 탄화수소를 의미하며, X는 염소, 브롬, 요오드 또는 플루오르를 표시하며, 화학식 (II)에 있어서, R3와 R4는 각각 수소, 메틸, 플루오르, 히드록시 또는 메톡시를 표시하며, 화학식 (III)이 있어서 R1, R2, R3, 또는 R4는 위의 화학식 (I)과 화학식 (II)에서의 것과 같다.제조방법에 있어서, 화학식 (I)의 알릴 할라이드와 화학식 (II)의 방향족 화합물의 몰비는 100:1~1:100이고 인듐은 할라이드 1당량에 대해 인듐 0.01~2당량을 사용하며 20~150도에서 1~48시간 반응시킨다. 본 기술은 합성 화학과 공업적으로 중요한 화합물인 알킬화된 방향족 화합물의 새로운 합성 방법으로 여러 가지 치환체에 일반적으로 적용되고 실용적이고 편리하며 반응 후 촉매를 회수 재사용이 가능하고 위치 선택적인 방법으로 알릴 할로겐 화합물과 방향족 화합물로부터 인듐을 촉매로 사용하는 방법과 인듐 촉매와 염화수소나 물 포착제로 CaCO3나 CaCO3/4Å 분자체를 사용하는 방법을 제공한다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-04-12
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일반기술
화학공정 > 기타 촉매 기술
폴리카보네이트와 같은 고분자 합성이나 제약공정에서의 중간체, 염료(dyestuff)합성 과정의 oxyalkylating agent, 이차전지 전해질 용매, 섬유 생산과정의 용매 등 응용범위가 매우 넓은 물질인 알킬렌카보네이트를 알칼리금속의 할로겐 화합물과 망간 할로겐 화합물로 구성된 고효율 촉매시스템을 사용하여 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 반응시켜 제조하는 방법에 관한 것이다.구체적으로 MX 및 MnY2(M:알칼리 금속, X,Y:할로겐 원소)로 구성되는 촉매계의 존재 하에서 알킬렌옥사이드와 이산화 탄소를 반응시켜 알킬렌카보네이트를 제조한다.낮은 온도 낮은 압력에서의 반응이 가능하며, 부산물의 발생이 거의 없이 알킬렌카보네이트를 제조할 수 있다망간할로겐화합물과 알칼리금속화합물로 이루어진 새로운 촉매를 이용하면 다양한 종류의 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 이용하여 보다 용이한 반응조건에서 빠른 속도로 알킬렌카보네이트를 높은 수율로 합성하는 것이 가능하다. 또한 단순 무기염으로 구성되었기 때문에 가격이 저렴하고 촉매활성이 높을 뿐 아니라 생성물과의 분리가 쉽기때문에 경제적인 관점에서도 큰 장점을 가지고 있다.기존의 촉매에 비해 촉매의 비용이 저렴하고, 낮은 온도 낮은 압력에서의 반응이 가능하며, 부산물의 발생이 거의 없어 알킬렌카보네이트 생산의 효율성을 높이는 것이 가능하다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-12
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
본 기술은 고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침지시켜 상분리법에 의해 비대칭 지지막을 제조하는 방법에 있어서, 1) 고분자 용액이 물리적 겔이 되는 주용매 단독이나 또는 이 주용매에 공용매를 첨가한 혼합 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 단계 및 2) 상기 1)단계에서 제조된 고분자 용액을 최종 막의 형태로 제조하여 물리적으로 겔화시킨 후 비용매인 물에 침지시켜 상분리를 유도하여 비대칭 지지막을 제조하는 단계를 포함하는 비대칭 지지막의 제조 방법 및 이로부터 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막에 관한 것이다본 기술에 의하면, 고분자 및 용매로 이루어진 고분자 용액을 비용매에 침전시켜 상분리 법에 의해 비대칭막을 제조하는 방법에 있어서, 고분자 용액을 특정 온도나 용매를 사용하여 물리적인 겔 상태로 만든 후 비용매인 물에 침지시켜 비대칭막을 제조하는 방법 및 위 방법에 의해 제조된 기공의 크기 분포도가 좁고, 투과성 및 기계적 강도가 개선된 비대칭 지지막이 제공된다. 본 기술에 따른 방법으로 제조된 비대칭 지지막은 스폰지 형태의 다공성 지지막으로서 기공들이 서로 연결된 열린 기공으로 이루어지고 그 기공의 크기 분포도가 좁은 우수한 구조를 갖고 있다. 따라서 본 기술에 따른 비대칭 지지막은 투과성과 기계적 강도가 향상되고, 나아가 물질 선택성이 높은 소재로 코팅하는 데 있어서 기공 크기의 분포도가 좁아 코팅공정을 최적화 할 수 있어 선택도까지 개선된 복합막을 쉽게 제조할 수 있다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-19
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
용융 알카리금속 불산화합물을 전기분해하여 불소를 제조함에 있어서 보편적으로 사용되는 탄소전극의 밑에 절연체로 피복한 수평지지대를 설치하여 탄소전극이 크게 흔들리지 않도록 고정시키므로써 운전 중 미세한 폭발충격의 진동에 의하여 탄소전극이 파손되는 것을 방지하며, 동시에 탄소전극이 충격이나 노후화로 파손될 때 그 파편이 양극과 음극을 접속하여 발생하는 전기적 쇼트 현상을 방지하기 위하여 절단된 탄소전극을 수평지지대 위에 안전하게 고정시키는 방법을 포함하는 불소 제조용 전해조의 개량 기술에 관한 것이다.용융 알카리금속 불산화합물을 전기분해하여 불소를 제조하는 전해조에서는 양극측에서 불소(F2)가, 음극측에서 수소(H2)가 발생한다. 각각의 가스는 전해용액 중에서 분리되어 상승한 후 서로 다른 방안에 포집되는데 이 때 불소기포와 수소기포가 일부 혼합되면 폭발적인 재결합이 일어난다. 용융 알카리금속 불산화합물의 전기분해에는 탄소전극을 양극으로 사용하는 것이 보편적인데, 탄소전극은 불소-수소 재결합에 의한 폭발충격에 의해 파손되기도 하고 오래사용하면 저항이 증가하여 전압이 상승하면서 생성되는 열로 절단되기도 한다. 따라서 탄소전극의 밑에 절연체로 피복한 수평지지대를 설치하여 탄소전극이 크게 흔들리지 않도록 고정시키므로써 운전 중 미세한 폭발충격의 진동에 의하여 탄소전극이 파손되는 것을 방지하며, 동시에 탄소전극이 충격이나 노후화로 파손될 때 절단된 탄소전극 파편을 수평지지대 위에 안전하게 고정시켜 탄소전극 파편이 양극과 음극을 접속시켜 발생하는 전기적 쇼트 현상을 방지하는 방법이다. 즉, 탄소전극의 상부는 전해조 뚜껑에 고정시키고, 하부 밑에는 고분자 절연체로 피복한 수평지지대를 설치하여 탄소전극 하부에 고정시킨 고분자판을 두 개의 수평지지대 사이에 끼이게 하므로써 탄소전극이 일정한 위치에 고정되도록 지지하여 충격진동에 의해 탄소전극의 파손을 방지하며, 스커트의 탄소전극측 면에는 고분자로 피복한 작은 스페이서들을 여러개 설치하여 탄소전극이 깨지는 경우에는 그 파편이 수평지지대 위에 고정되어 전해용액 깊이 침강하는 것을 막음과 동시에 파편이 옆으로 쓰러지면서 양극측과 스커트를 접속시키는 것을 막아 전기적 단락에 의한 전기사고를 방지한다탄소전극이 사용되는 불소 제조용 전해조에서 폭발충격에 의한 탄소전극의 파손을 억제하고, 파손된 탄소전극 파편을 일정한 위치에 고정시켜 전기적인 단락현상을 방지하는 데에 효과가 큰 탄소전극 고정 기술로 탄소전극의 파손을 방지하므로써 전극수명을 연장시키고, 파손된 탄소전극의 파편을 제거하기 용이한 장점을 갖는 불소 제조용 전해조의 개량기술이다
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-05-12
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
본 기술은 전계인가에 대한 발생 변위가 크면서도 온도특성이 안정한 압전 엑츄에이터용 세라믹 조성물에 관한 것이다. 세라믹 압전 엑츄에이터 (piezoelectric actuator)는 잉크젯 프린터 헤드, 초음파 모터, 전자광학기기의 시편 이동대 등 정밀한 위치제어에 널리 사용되고 있으며 사용되는 재료로는 Pb(Zr0.53,Ti0.47)O3 (PZT)계 고용체가 가장 대표적인 재료이다. 본 기술에서는 우수한 온도안정성을 가진 새로운 엑츄에이터용 세라믹 조성물을 제안하기 위해 일반적으로 단위전계인가에 대해 발생변위가 크게하는 효과가 있다고 알려져 있는 donor 재료가운데서 Nb2O5를 택하여 이를 PZT에 첨가하여 큰 변위를 얻었다.본 기술에서는 우수한 온도안정성을 가진 새로운 엑츄에이터용 세라믹 조성물을 제안하기 위해 일반적으로 단위전계인가에 대해 발생변위가 크게하는 효과가 있다고 알려져 있는 donor 재료가운데서 Nb2O5를 택하여 이를 PZT에 첨가하여 큰 변위를 얻었다. 그러나 이 경우 순수한 PZT에 비하여 발생변위의 크기는 증대되지만 온도 안정성은 낮게 되므로 Mn(NO3)2 6H2O를 동시에 첨가하여 -30도에서 +85도의 온도범위 사이에서 온도변화에 따른 발생변위가 매우 안정한 압전 세라믹 조성물을 발명하였다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-04-18
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
본 기술은 첨가제가 없는 순수한 PFN 유전체 세라믹스의 제조방법에 있어서 유전율이 높으면서도 유전손실을 극소화하기 위한 방법을 제공하는 것에 관한 것이다. Pb(Fe1/2Nb1/2)O3 (PFN)계는 비교적 저온 (1000도 부근)에서 소결이 가능하며, 유전율이 매우 높지만 유전손실이 큰 것이 단점이다. 본 기술에서는 900-950도 사이의 온도범위 및 O2 분위기 하에서 소결함으로서 양호한 유전특성과 아울러서 유전손실특성도 극소화된 결과를 얻을 수 있었다. 결국 본 기술에서는 첨가제의 혼입이 없이 공정의 제어만으로 유전손실이 극소화된 PFN 소결체를 얻을 수 있었다.본 기술에서는 925-950도 사이의 온도에서, O2 분위기 하에서 소결된 경우 양호한 유전특성과 아울러서 유전손실특성도 극소화된 결과를 얻을 수 있었다. 종래에 PFN의 제조 과정에서 높은 유전손실을 억제하기 위해 Mn 등과 같은 첨가제를 넣어서 Fe를 치환함으로서 전도전자의 농도를 낮추고 따라서 유전손실을 억제한 보고는 있으나 본 기술에서는 첨가제의 혼입이 없이 공정의 제어만으로 유전손실이 극소화된 PFN 소결체를 얻었다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-04-18
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일반기술
보건·의료 > 원료의약 대량제조 기술
3-치환 세팔로스포린 유도체를 인듐 금속원자 또는 인듐 화합물 존재하에 반응시켜 7-아미노데스아세톡시세팔로스포린산 유도체와 3-엑소메틸렌세펨 유도체와의 혼합물을 얻고 이 혼합물 중의 3-엑소메틸렌세펨 유도체를 7-아미노데스아세톡시세팔로스포린산 유도체로 전이시키는 제조방법에 관한 것이다. 제조방법은 3-치환 세팔로스포린 유도체를 유기용매 또는 유기용매와 물과의 혼합용액 중에서 인듐금속 단독 혹은 인듐금속과 요오드화 금속과의 혼합물에서 반응시켜 7-아미노데스아세톡시세팔로스포린산 유도체와 3-엑소메틸렌세펨 유도체와의 혼합물을 제조하는 제 1 공정과, 제 1 공정에서 얻은 혼합물을 피리딘 용매에서 테트라메틸시릴클로라이드와 반응시켜 7-아미노데스아세톡시세팔로스포린산 유도체를 제조하는 제 2 단계로 구성된다.7-아미노데스아세톡시세팔로스포린산 유도체는 다양한 치료효과를 가지는 항생제의 반합성 제조에 있어서 매우 유용한 중간체이다7-아미노데스아세톡시세팔로스포린산(7-ADCA) 제조 기술은 일반적으로 ACA 제조 기술보다 앞선 기술로서 특수장치를 필요로 하지 않으며 공정과 정제가 간단하고 수율이 높는 장점이 있다.7-아미노데스아세톡시세팔로스포린산 유도체는 다양한 치료효과를 가지는 항생제 제조에 유용하다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-13
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일반기술
화학 > 기타 유기화학
일반식(I)(첨부파일)로 표시되는 벤질 할로겐 화합물과 일반식(II)로 표시되는 방향족 화합물을 금속 인듐(Indium) 촉매 존재 하에 일반식(III)으로 표시되는 벤질화된 방향족 화합물을 제조한다.일반식(I)에 있어서 R1, R2 그리고 R3는 독립적으로 수소, 불소, 브롬, 메틸, 니트로기를 표시하며, X는 할로겐을 표시하며, 일반식(II)에 있어서 R4, R5 그리고 R6는 독립적으로 수소, 불소, 염소, 히드록시, 메톡시, 메틸기를 표시하며, 일반식(III)에 있어서 R1, R2, R3는 일반식(I)에서의 것과 동일하며 R4, R5 그리고 R6는 일반식(II)에서의 것과 동일하다.일반식(II)로 표시되는 방향족 화합물이 용매역할을 하며, 촉매는 2.3X10-2 mM을 사용하고 반응온도는 20~120도, 반응시간은 1~24시간 수행한다.합성된 벤질화된 방향족 화합물은 합성화학공업에서의 중간체 또는 최종 화합물로 사용된다벤질 할로겐 또는 벤질 알코올을 사용하여 방향족 화합물에 벤질화시키는 기존의 방법들은 치환체의 한정성, 촉매 제조의 번거로움, 경제성, 과량반응 등으로 산업적으로 제조하는데 어려움이 있다.인듐 촉매를 사용하여 벤질화된 방향족 화합물을 제조하는 방법은 편리한 방법으로 촉매를 회수하여 재사용할 수 있고, 반응 선택성이 높다. 또한 특별한 용매가 필요치 않으며 높은 수율로 대량 반응에도 잘 적용되는 장점이 있다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-06-08
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일반기술
재료 > 분리·환경·생체기능재료
인공 고관절의 아세테뷸라 컵(acetabular cup)과 인공 무릎관절의 아티큘라 플레이트(articular plate)용 재질인 초고분자량 폴리에틸렌과 접착제인 폴리메틸메타크릴레이트 골시멘트와의 접착력을 높이기 위하여 초고분자량 폴리에틸렌의 표면에 메틸메타크릴레이트, 메타크릴산, 아크릴산 등을 방사선으로 그라프트중합시켜 표면을 개질한다방사선으로 표면중합처리하므로 폴리에틸렌 파트의 기계적 물성의 저하가 없으며 인공고관절 파트와 골시멘트의 접착 개선으로 관절이 탈리되는 현상을 감소시킴으로써 종래의 커다란 문제점을 개선하였다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-11
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
폴리카보네이트와 같은 고분자 합성이나 제약공정에서의 중간체, 염료합성 과정의 옥시알킬화제, 이차전지 전해질 용매, 섬유 생산과정의 용매등 응용범위가 매우 넓은 물질인 알킬렌카보네이트를 고효율 촉매인 리튬할라이드 화합물을 사용하여 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 반응시켜 제조하는 방법에 관한 것이다. 기존에 사용하는 방법은 독성이 강한 포스겐을 사용하는데 반해, 이 반응은 용매를 사용하지 않고 이산화탄소를 합성 원료로 사용하는 환경 친화적 공정이다.본 기술에 따라 리튬할로겐화합물을 새로운 촉매로 사용하면 다양한 종류의 알킬렌 옥사이드와 이산화탄소를 이용하여 보다 용이한 반응조건에서 빠른 속도로 알킬렌카보네이트를 높은 수율로 합성하는 것이 가능하다. 또한 촉매활성이 높을 뿐만 아니라 단일물질로 이루어져 있기 때문에 생성물과의분리가 쉽고 재처리가 용이하여 경제적인 관점에 있어서도 큰 장점을 가지고 있다알킬렌 옥사이드와 이산화탄소를 반응시켜 알킬렌카보네이트를 제조하는 방법에 있어서, 촉매로서 LiX(X=Cl, Br 또는 I) 중에서 선택된 1종 이상의 리튬할로겐화합물을 사용하여 알킬렌카보네이트를 제조하는 방법이다.촉매의 사용량은 원료 알킬렌옥사이드에 대해 0.005~3몰%이며, 반응온도는 80도~170도, 반응압력은 10~100기압,용매는 에틸렌카보네이트 또는 프로필렌카보네이트인 것이 특징이다.본 기술의 리튬할로겐화합물을 촉매로 사용하면 기존 촉매를 사용할 때보다 낮은 압력과 낮은 온도 조건에서 짧은 시간에 높은 수율을 얻을 수 있다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-06-20
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
본 기술은 폴리카보네이트와 같은 고분자 합성이나 제약공정에서의 중간체, 염료합성 과정의 옥시알킬화제, 이차전지 전해질 용매, 섬유 생산과정의 용매등 응용범위가 매우 넓은 물질인 알킬렌카보네이트를 납할로겐 및/또는 인듐할로겐 화합물로 구성된 고효율 촉매시스템을 사용하여 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 반응시켜 제조하는 방법에 관한 것이다.본 기술에 따라 납할로겐 및/또는 인듐할로겐 화합물 그리고 알칼리금속화합물로 이루어진 촉매계를 이용하면 다양한 종류의 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 이용하여 보다 용이한 반응조건에서 빠른 속도로 알킬렌카보네이트를 높은 수율로 합성하는 것이 가능하다. 또한 촉매활성이 높을 뿐만 아니라 생성물과의 분리가 쉽고 재처리가 용이하고 가격이 저렴하기 때문에 경제적인 관점에서도 큰 장점을 가지고 있다알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 반응시켜 알킬렌카보네이트를 제조하는 방법에 있어서, PbY2 또는 InY3(Y=Cl, Br 또는 I) 중에서 선택된 1종 이상의 화합물과 MX(M=알칼리금속, X=Cl, Br 또는 I) 중에서 선택된 1종 이상의 알칼리금속화합물로 이루어진 물질을 촉매계로 사용하여 알킬렌카보네이트를 제조하는 방법이다.PbY2/MX 및/또는 InY3/MX(M:알칼리 금속, X,Y:할로겐 원소)로 구성되는 촉매를 사용하면 기존의 촉매에 비해 촉매의 비용이 저렴하고, 낮은 온도와 낮은 압력에서의 반응이 가능하며, 부산물의 발생이 거의 없어 알킬렌카보네이트 생산의 효율성을 높이는 것이 가능하다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-06-14
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
메탄올을 솔팅-아웃(salting-out) 용매로 사용한 EDTAㆍ4Na (Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium)결정화 공정에서 초기에 포화용액을 만들기 위해 필요한 양의 메탄올을 일시에 투입한 뒤, 씨결정을 투입하고 교반하거나 추가 메탄올을 투입하여 결정핵을 생성시킨다. 결정의 석출을 위하여 시간에 따라 메탄올의 투입속도를 조절하여 생성되는 결정의 석출속도가 결정의 표면적에 비례하도록 함으로써 EDTAㆍ4Na 결정의 크기 및 크기 분포를 조절할 수 있다결정화 방법 중 솔팅 아웃법은 용질에 대한 용해도는 작으면서 용매에는 친화성이 큰 제 2의 용매를 투입하여 용해도 감소시키는 방법으로서 제약 산업에서 고순도 제품이 필요한 경우에 사용되는데 투입방법에 대한 이론적 설명이 부족하고 다른 시스템에 적용하는데 한정성이 있다.EDTAㆍ4Na를 결정화하는 공정에 있어서, 솔팅-아웃 용매로서 메탄올을 사용하는 경우 메탄올의 투입양과 속도를 조절하여 생성되는 결정의 크기 및 크기 분포를 조절할 수 있으며 다른 솔팅-아웃 결정화 공정에 적용이 가능하다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-12
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일반기술
화학공정 > 기타 촉매 기술
실리카겔 지지체에 결합된 트리플루오로메틸케톤 유도체, 그의 제조방법 및 용도에 관한 것으로, 실리카겔 지지체에 결합된 트리플루오로메틸케톤 유도체는 옥손(2KHSO5KHSO4K2SO4, Oxone )을 산화제로 사용하는 올레핀으로 부터 에폭사이드 화합물을 제조하는 에폭시화반응에 유용한 촉매로서 제조방법이 단순하고, 경제적이며 특히 올레핀의 에폭시화반응에 대한 탁월한 촉매활성을 갖고, 재사용이 가능하며, 열적, 기계적 안정성이 뛰어난 새로운 비균일계 트리플루오로메틸 케톤 유도체를 제공한다.실리카겔 지지체에 결합한 트리플루오로메틸케톤 유도체들은 옥손을 이용한 올레핀의 에폭시화 반응시 1,1,1-트리플루오로아세톤과 같은 기존의 균일상 촉매들에 비해 반응효과가 월등히 높고 반응 종결후 간단한 여과, 세척을 통해 회수한 촉매를 그대로 재사용할 수 있어 경제적이다.
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-13
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
고분자 재료의 표면에 반응성 기체의 플라즈마 이온을 주입하기 전 또는 주입한 후에 비활성 기체의 플라즈마 이온을 주입시키거나, 또는 반응성 기체와 비활성 기체의 혼합 기체의 플라즈마 이온을 주입하는 플라즈마 이온 주입에 의한 고분자 재료의 표면 처리 방법이 제공된다. 본 기술의 방법에 따라 고분자 재료의 표면을 처리하면, 비활성 기체의 플라즈마 이온에 의해 고분자 재료의 표면에 다수의 라디칼이 형성되고, 이 라디칼에 의해 고분자 사슬들이 가교반응을 하여 사슬과 사슬간에 결합을 형성함으로써 고분자 사슬들이 서로 고정되기 때문에, 반응성 기체의 이온 플라즈마에 의해 생성되는 여러 친수성 또는 소수성 작용기를 안정하게 유지할수 있어, 시간에 따른 에이징 측면에서 우수한 효과를 나타낸다플라즈마 이온주입에 의한 고분자 재료의 표면처리 기술의 원리는, 고분자 시료를 플라즈마 이온으로 둘러 싸인 시료대 위에 올려 놓고 시료대에 높은 음전압 펄스를 가해주면, 플라즈마 이온이 가해지는 펄스에 의해 추출되어 시료에 조사된다. 이렇게 조사된 이온은 시료에 가해지는 펄스의 높은 전압에 대응하는 높은 에너지를 가지며, 이 에너지에 의해 고분자 표면에 작용기를 형성함으로써 표면의 성질을 바꾸어 준다. 펄스가 가해지지 않은 상태에서는 플라즈마가 고분자 표면과 접촉하게 하여 기존의 플라즈마 처리에서 얻을수 있었던 효과를 얻고, 펄스가 가해지는 동안은 플라즈마에 있던 이온들을 보다 가속화시켜 시료에 끌어 당기므로써 이온주입의 효과를 얻을수 있게 한 것이다. 고분자 재료의 표면을 반응성 기체의 플라즈마 이온과 비활성 기체의 플라즈마 이온을 병용하여 주입처리 하면, 비활성 기체의 플라즈마 이온에 의해 고분자재료의 표면에 다수의 라디칼이 형성되고, 이 라디칼에 의해 고분자 사슬들이 가교반응을 하여 사슬과 사슬간에 결합을 형성하므로써 고분자 사슬들이 서로 고정됨에 따라, 반응성 기체의 플라즈마 이온에 의해 생성되는 여러 친수성 또는 소수성 작용기를 안정하게 유지할 수 있어, 시간에 따른 에이징 효과가 우수하고, 표면 안정성이 개선된 개질된 고분자 재료가 얻어졌다
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-04-18
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
스트론튬 비스무트 탄탈륨 니오븀(SBTN, strontium bismuth tantalum niobium) 산화물 층 사이에 소정 두께의 단일 비스무트 산화물 층을 삽입하여, SBTN/Bi2O3/SBTN 헤테로 구조를 형성하고, 저온 후열처리에 의하여, 삽입된 비스무트 산화물 층을 상하부에 있는 SBTN 층으로 확산시키는 방법을 이용하여 양질의 SBTN 박막을 제조한다.제조공정의 단계는 소정 두께의 두 SBTN 박막 사이에 소정 두께의 산화 비스무트(Bi2O3) 박막을 배치시켜 SBTN/Bi2O3/SBTN 헤테로 구조를 형성하는 단계;SBTN/Bi2O3/SBTN 헤테로 구조를 후열처리하는 단계;로 이루어지며 박막 내부의 휘발성 비스무트 성분이 정량적으로 제어된 균일한 SrBi(2+x)TaNbO(9+y) 박막을 형성한다.간단하고 저렴한 제조공정에도 불구하고, 제조된 SBTN 박막은 낮은 인가전압에서도 비교적 높은 잔류분극값을 나타내며, 퍼티그 테스트 결과 긴 수명을 가지는 등 우수한 강유전체 특성을 가진다. 즉, 소자의 고집적화에 필요한 높은 잔류 분극치를 얻을 수 있고, 저온 공정이 이용되므로 하부 소자의 확산방지 효과가 있다SBTN 층 사이에 첨가하는 Bi2O3 층의 두께를 조절함으로써 박막의 비스무트 양을 제어할 수 있고, Perino 법에 비해 제조 단가를 획기적으로 낮출 수 있으며, 제조 온도를 625도까지 낮출 수 있다. 또한 간단한 제조공정에도 불구하고, 낮은 인가전압에서 비교적 높은 잔류분극값을 나타내며, 퍼티그 테스트 결과 긴 수명을 가지는 등 우수한 강유전체 특성을 가진다.비스무트계 층상 페로브스카이트 구조 강유전체 박막의 휘발성 성분의 정량적 조절이 가능하고, 저온 제조공정을 도입함으로써 개발 기술에 응용될 수 있는 우수한 성능의 강유전체 기억소자 제조기술에 기여한다
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-12
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
입자가 큰 탄화규소 분말을 이용하여 일정크기의 지지층용 성형체를 제조하고, 성형체를 소결하여 지지층용 소결체를 제조한 다음 제조된 지지층용 소결체의 넥크부에 강도 향상제를 함침한 후 함침된 소결체의 외측에 입자크기가 작은 탄화수소 분말을 코팅하여 여과층을 형성하는 방법으로 세라믹 고온 가스필터를 제조한다.필터의 취약부인 넥크부는 강도 향상제에 의하여 입자의 치밀화가 이루어져 강도가 향상되며 필터링 기능은 저하되거나 손상되지 않는다.기존의 고온 가스필터는 세라믹 분말과 첨가제를 준비한 다음, 래밍법, 캐스팅법, 압출법 등과 같은 방법을 이용하여 성형하고, 성형된 부품을 소결하여 얻으며, 넥크부가 취약하여 파손되는 단점이 있다.고온가스에 포함된 미세한 분진을 여과할 수 있는 고온 가스필터의 제조 방법은 고온에서 사용할 수 있는 탄화규소 세라믹스로 지지층을 만들고, 여기에 탄화규소 미분을 이용하여 미세한 기공을 갖는 여과층을 형성하여 소결하므로써 기계적 강도가 높고, 미세한 분진을 여과할 수 있다.넥크 부분에서 균열이 잘 발생하여 오래 사용하지 못하는 일반적인 세라믹스 고온 필터와 달리 동일한 여과성능을 갖추면서 넥크 부분이 강화되어 실제 사용시 장기간 안정적으로 사용될 수 있다.용도는 IGCC 시스템의 고온가스 분진여과, 제철, 소각 및 기타 산업에서 고온가스에 포함된 분진을 여과하는데 사용할 수 있다
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-11
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
발열 반응을 이용하여 물질을 합성하는 자전고온 합성법(Self-propagating High temperature synthesis, SHS)을 이용한 카바이드 또는 보라이드 세라믹 분말의 제조방법에 관한 것으로 다음과 같이 제조한다.1. 반응 정량의 보론(B) 및 카본(C) 분말 중 어느 하나를 혼합하는 단계;2. 혼합된 혼합물을 자전 고온 합성 반응기 내부에 배치하고 불활성 가스를 반응기 안에 수기압으로 채운후 내보내는 과정을 수차례 반복하여 반응기 안의 공기를 제거하는 단계;3. 반응기 내부 압력이 5 내지 15 기압이 되도록 불활성 가스를 인가한 후 점화시키는 단계;4. 반응기를 충분하게 냉각한 후 생성물을 분쇄하는 단계반응 중 발생하는 산소를 제거하기 위하여 사용되는 금속(Mg 또는 Al)의 휘발을 억제하여 반응중에 생기는 압력증가를 억제하며 반응 과정중에 반응기 내의 압력차이를 작게하여 반응이 보다 균일하게 진행된다기존의 자전고온 합성법의 문제점인 미완결 반응 문제점을 해결하기 위해 반응기 내부의 압력을 5 내지 15 기압의 고압으로 유지하여, 반응 중에 생기는 압력 증가를 억제할 수 있으며, 반응과정 중의 압력차이를 작게하여 반응이 보다 균일하게 진행되게 할 뿐 아니라, 완전한 반응을 가능하게 하고 반응 시간이 짧으며 설비가 간단하다.또한 고온 반응으로 인해 불순물이 휘발하므로 효율적으로 순도 높은 카바이드 또는 보라이드 세라믹 분말을 합성할 수 있는 장점을 가진다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-11
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일반기술
화학 > 기타 유기화학
일반식(I)의 트리알킬실란과 일반식(II)의 탄소와 탄소의 이중 결합을 가진 알켄을 알루미늄 클로라이드(AlCl3) 또는 해프늄 클로라이드(HfCl4) 등의 루이스 산을 촉매로 사용하고 용매 존재하에 또는 무용매하에서 수소규소화 반응을 수행하여 일반식(III)으로 표시되는 트리알킬실릴 치환 알칸을 제조한다.일반식(I) R2-SiR1(-R3)-H일반식(II) R4-CH=CH-R5일반식(III) R2-SiR1(-R3)-CR4(-H)-CH2R5위의 일반식(I)과 (III)에 있어서, R1, R2 그리고 R3는 독립적으로 방향족기를 포함하거나 포함하지 아니하는 탄소수 1~18 까지의 알킬기이며, 일반식(II)와 (III)에 있어서, R4와 R5는 독립적으로 수소 또는 방향족기를 포함하거나 포함하지 않는 탄소수가 1~18까지의 알킬기로서 서로 독립된 치환기일 수도 있으며 서로 탄소로 연결된 고리형이다.수소규소화반응은 백금과 같은 귀금속 촉매를 사용하며 트리알킬실란은 반응성이 낮은 단점이 있으나 값이 싼 알루미늄트리클로라이드를 촉매로 사용하여 쉽게 반응시킬 수 있는 장점이 있다기존의 수소규소화 반응은 수율이 낮으며, 부가반응을 일으키거나 값비싼 촉매를 이용해야 하는 단점이 있다.이중결합을 가지고 있는 유기 알켄 화합물에 루이스 산을 촉매로 하여 트리알킬실란을 부가시켜 유기실란에 새로운 유기치환기를 도입하고 유기알켄 시작물질의 이중결합을 단일결합으로 바꾸어 주는 기술로써 유기합성 분야와 실리콘 분야에 활용가치가 높은 기술이다.
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-11
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일반기술
화학 > 기타 유기화학
3차 유기 포스핀을 촉매로 사용하여 수소-규소 결합을 갖는 화학식 1의 클로로실란 화합물과 화학식 2의 유기 할로겐화합물을 탈할로겐화수소 반응으로 결합시켜 화학식 3의 화합물을 제조한다.화학식 1 HSiR1Cl2화학식 2 R2CH2X화학식 3 R3CH2SiR1Cl2반응식 1 HSiR1Cl2 + R2CH2X ------> R3CH2SiR1Cl2 + HX벤질클로라이드와 알릴클로라이드와 같은 활성화된 염화알칸 뿐만 아니라 단순한 유기 할로겐 화합물에도 Si-H 결합을 갖는 실란을 결합시키는 것이 가능하다유기 할로겐 화합물에 3차 유기포스핀 화합물을 촉매로 하여 트리클로로실란이나 메틸디클로로실란을 반응시켜 할로겐화수소를 제거하고 유기기를 실란에 도입하는 기술로써 새로운 실리콘 원료합성 분야에 활용가치가 높은 기술이다.유기염화물에 트리클로로실란을 반응시킬 때 3차 아민을 과량으로 사용하여 염화수소를 제거하고 유기 트리클로로실란을 합성하는 기존의 방법에 비하여 10% 이내의 촉매를 사용하므로 경제적이다.또한 기존에는 유기염화물의 유기기가 활성이 큰 알릴이나 아릴기가 치환될 때만 반응이 진행되는 것으로 알려져 있으나 직쇄가 길고 활성화가 되지 않은 유기물도 반응이 진행된다
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-05-11
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