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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

평균출력 1Wt의 적외선 자유전자 레이저(FEL)

FEL은 평균출력 1Wt 및 20-50 um의 적외선을 제공한다. 낮은 에너지를 사용하므로 설치 및 운잔중의 방사능 오염 위험이 적다.적은 에너지 소모량에 비해 효과적인 레이저 생산가능

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2001-07-18
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

다파장 레이저 헤드

다파장 레이저 헤드는 4개위 독립적인 레이저빔 채널을 가지고 있어 하나의 레이저 헤드에서 1.06, 1.32, 2.09uM 파장의 다양한 진동수의 레이저를 발생시킬 수 있어 골수또는 연조직의 효과적인 절제나 이들조직의 공간적 또는 표면의 응집을 행할 수 있다. .하나의 WAVEGUIDE를 가진 다파장 레이저 헤드를 사용함에 다라 의학적인 용도가 다양하고, 수술시간을 줄일 수 있다.

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특허법인충정
등록일
2001-07-18
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

표면 품위에 대한 접촉 특성 제어

이 기법은 레이저 발진기, 광학 부품, 대형 통합 배치 라인 등에서 미러의 정밀 표면에 대해 접촉 특성을 제어하기 위해 사용된다. 이 방법에 의해 평판 및 준-평판 표면에 대해 평균 제곱 의미의 제어가 가능하다. 이 장치의 기술적인 특성으로는, 프로브 레이저 펜의 직경은 2-4mm, 표면의 곡률 반경은 600mm 이상, 레이저 방출 파장은 337nm, 원형 측정 시간은 0.65c 이하, 샘플의 주사 단면 영역은 50mm, 샘플의 최대 치수는 160*160mm, 장치의 최대 치수는 1860*650*770mm, 서로 다른 재료의 표면에 대한 장치의 감지 능력의 한계는, 은의 경우 0.18nm, 알루미늄은 0.13nm, 구리는 0.24nm, 철은 0.18nm, 유리는 0.57nm, 실리콘은 0.16nm 등이고, 측정 가능 거칠기의 상한은, 금속의 경우 10nm, 유리의 경우 25nm 등이다. 이 기술의 주요 장점으로는, 다양한 거칠기를 갖는 다양한 재료의 표면 특성을 측정할 수 있고, 산업적인 조명 및 진동 조건에서의 제어가 가능하다는 것이다.

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2001-07-04
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

고체 상태 슬랩 레이저를 위한 보호 코팅 개선

고출력 레이저 설계에서 역적 렌싱 효과와 응력 복굴절 모두를 감소시키는 지그재그 슬랩 레이저 설계를 위한 개선된 저손실 보호 코딩은 레이저 동작의 품질을 줄여줄 수 있다.지그재그 슬랩 레이저의 성능 개선, 간단한 응용을 위한 솔벤트에서의 용해와 제거, 코팅 두께, 전도 냉각

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2001-02-26
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

라만과 제2조파 변환을 통한 Nd:YAG의 비선형 주파수 변환

노란 나트륨 생성을 위한 단일 경로와 단일 레이저원이 가능한 제2고조파 생성(SHG)에 따른 라만을 이용한 589nm에서 노란 나트륨에의 1064nm에서 Nd:YAG 변환 방법나트륨 노란색광을 생성하기 위한 단일 경로를 가진 단일 레이저원 사용, 오직 단결정 Nd:YAG를 요구하는 직선 접근

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특허법인충정
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2001-02-26
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

횡펌프 슬랩 레이저/증폭기

이 발명품은 보다 효율적이고 보다 신뢰성 있는 레이저 결과와 단순화된 설계를 가진 지그재그 슬랩속으로 펌프 방사 결합을 위한 새로운 방법이다. 실제를 위한 예비 실험 장소가 행하여 졌다.주파수와 시간 특성 변경없이 저전력 CW파 증폭과 펄스 마스터 발진 가능

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특허법인충정
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2001-02-28
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

전자기 방사의 효율적인 방사원

이 발명품은 주기적으로 극을 가진 리튬니노베이트에서 고효율 단일 통과 CW 제2고조파 생성을 제공한다. 이것은 6.5 마이크로미터 영역 주기를 가진 주기적으로 극 리튬니노베이트에 대한 완전 웨이퍼 제조 공정이다. 샘플들은 단일 통과 CW1064nm Nd:YAG 2고조파 생성을 위한 42% 전력 변환 효율을 나타내고 53nm 길이와 0.5nm 두께를 가진다.낮은 단위 비용으로 웨이퍼 제작, 가능한 파장 범위에 대한 출력 동조

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특허법인충정
등록일
2001-02-28
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

마이크로머신 고반사 변형 가능 거울

고굴절율 광품질 연속 표면, 고강도 처리 용량을 가지는 새로운 실리콘 변형 가능 거울 설계가 개발되었다. 이것은 집적 회로 기술로부터 생산 비용 감소까지의 제작 공정 채택에 의해 인접 채널 분리 기법과 새로운 동작의 사용에 의해 생산되었다.보고된 고반사 코팅을 가진 연속막 마이크로머신 변형 가능 거울, IC 생산에 의한 저비용, 저전압, 누화와 인접 채널 결합 감소 절연 그리드

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특허법인충정
등록일
2001-02-28
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

동기 공동 CW 공동 링다운 분광기

레이저와 링다운 공동이 연속적으로 동기되는 동안 다중 링-다운 측정 수행을 위한 공동 링-다운 분광기(CRDS) 시스템에 구별 동기와 샘플링 광빔이 사용되었다. 샘플링과 동기 광빔은 다른 주파수를 가지며 공동내에 감결합된 샘플링과 동기광을 확실하게 보증해 준다. 오히려 링-다운 공동은 링 정형이며 샘플링 광은 S 편광이며 동기광은 P 편광이다. 반사 동기광이 Pound-Drever 기구에서 동기를 위해 사용한 반면 송신된 샘플링 광은 링다운 측정을 위해 사용한다.샘플링과 동기 광빔은 다른 주파수를 가지며 공동내에 감결합된 샘플링과 동기광을 확실하게 보증해 준다. 오히려 링-다운 공동은 링 정형이며 샘플링 광은 S 편광이며 동기광은 P 편광이다.

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2001-02-28
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

비선형 광학 주파수 변환기와 펄스 내부 공동 비선형 광학 주파수 변환기

레이저 기술 영역에서 2가지 특허를 다루었다. 5247389는 I형 비선형 광학 파라메트릭 상호 작용을 위한 확장된 2차 기법의 일반적인 방법이다. 5321709는 Q스위치 레이저 발진 내의 합주파수 혼합과 제2고조파 생성을 효율적으로 제어하기 위한 방법이다.5247389는 I형 비선형 광학 파라메트릭 상호 작용을 위한 확장된 2차 기법의 일반적인 방법이다. 5321709는 Q스위치 레이저 발진 내의 합주파수 혼합과 제2고조파 생성을 효율적으로 제어하기 위한 방법이다.

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등록일
2001-02-28
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

굴절 레이저 강도 프로파일 컨버터 제조 방법

본 발명품은 초가우시안으로 또는 탑-햇 그리고 초가우시안 후방을 가우시안으로 광을 레이저빔 강도 프로파일로 변환하는 쌍을 만들기 위한 간단한 기법이다. 가우시안대 초가우시안 변환기는 전적으로 용융 실리카로 제작되었으며 그것은 높은 레이저 손상 임계를 가지며 반사 손실을 최소화하기 위해 코팅되어 있다. 초가우시안대 가우시안 변환기는 또한 용융 실리카로 제작되었으며 다층 유전체 스택이 최소 손실에 사용되므로 반사에 이용된다. 이 발명품은 저비용 큰 체적 제로의 방법으로서 잘 알려진 반도체 제조 공정에 이용된다.저비용 제작, 실리콘 공정 질량 제작, 고변환 효율, 저광학 손실

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2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

마이크로파 여기 액시머 레이저

액시머 레이저를 위한 펌프원으로서 마이크로파 가열간단하며 실제적인 설계, 마이크로파 에너지의 80-90% 흡수, 전력 증착은 가스 화합물과 독립, 마이크로파 여기는 플라스마 특성에 불감도

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2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

고평균 전력 고체 상태 레이저

이 발명품은 열부하에 관한 유효 평균을 위한 Nd:유리의 가역성 슬랩을 채택한 킬로와트 평균 전력 고체 상태 레이저이다.2%이상의 고효율, 330Hz의 고반복율, 저비용, 소형, 현재 레이저 기술과 비교하여 킬로와트 평균 전력이 유용

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2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

고체 상태 비평면 내부 반사 링레이저

적어도 2개의 평면에 적어도 4개의 조각을 정의하는 것을 가지는 광선 경로를 정의하기 위한 지연 광선 경로의 입사면 변화를 적응하는 적어도 2개의 거울 표면과 융합한 고체 상태 레이저 재료의 단일 조각우수한 기계적 안정도를 가진 간단, 소형 구성, 정렬 유지, 우수한 주파수 안정도, 전자적으로 스위치 가능한 출력 방향, 우수한 열적 안정도

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2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

양자 우물 광전계 바이어스 비선형 방법과 장치

종속적으로 광학적으로 방사에 투명하다고 하고 동일 재료 내에서 자유 캐리어를 포함하는 3파 방사 상호 작용, 2차를 생성해 내기 위한 방법대규모 비선형형, GaAs 결정의 투명 영역, 특수 응용 설계

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2001-03-01
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반도체에서 전하 밀도 변조의 광검출을 위한 방법

이 발명품은 반도체 소자에서 동적 시트 전하 밀도 변화를 탐침하기 위한 기법이다. 이 기법은 정적 전하 밀도 측정 또는 전하 밀도의 변조를 결정하는데 이용할 수 있다. 전하 밀도 감도는 능동 소자에서 마이크로 볼트 신호 레벨 검출을 가능하며 신호/잡음 레벨에 대응한 디지털 신호는 실시간으로 수집할 수 있는 다중 메가 바우르 데이터로 충분히 높다. 정적 전하 밀도 측정 또는 전하 밀도의 변조를 결정하는데 이용. 전하 밀도 감도는 능동 소자에서 마이크로 볼트 신호 레벨 검출을 가능. 신호/잡음 레벨에 대응한 디지털 신호는 실시간으로 수집할 수 있는 다중 메가 바우르 데이터로 충분히 높다.

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2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

이동 슬랩 레이저

이 발명품은 이동 슬랩 레이저와 관련된다. 보다 특별히 이와 같이 슬랩이 있는 레이저는 빔조타 효과를 억제하기 위한 정밀 직선 가역 경로상에 여기저기 이동한다. 이동 종속에서 이동 슬랩 레이저 증진을 마모하는 것이고 빔조타 효과를 최소화하는 것이 목적이다.신뢰성 증가, 제조 가능성 증가, 비용 감소, 저비용, 소형, 현재 레이저 기술과 비교하여 킬로와트 평균 전력이 유용

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2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

3거울 공동 배열에서 다이오드 레이저 펌프와 모드 동기 고체 상태 레이저

이 발명품은 전고체 상태 모드 동기 레이저의 개발과 관련이 있다. 다이오드 펌프 고체 상태 레이저의 효율과 레이저의 전반적인 설계와 최단 가능 모드 동기 펄스폭의 생성이 레이저의 전반적인 설계에 크게 의존한다. 훌륭한 설계의 다른 검증서는 레이저 효율과 성능의 희생없이 고평균 출력 전력 레벨의 크기를 향상시키는 능력이다. 현재의 발명품은 유일한 방법에서 이들 2가지 문제를 다루었다.소형 고효율 설계, 단순한 공동 길이 제어와 안정화, 재충전 가능 배터리 전력 동작, 다양한 레이저 형태에 확장 가능, 1.3 마이크로미터 동작 가능

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특허법인충정
등록일
2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

섬유 결합 다이오드 펌프 이동 고체 상태 레이저

이동 고체 상태 레이저 이득 구조는 거의 레이저 다이오드와 같이 다이오드들의 원격 뱅크로부터 유도된 광학 펌핑 방사에 의해 광학적으로 펌핑된다. 개선된 고체 상태 레이저는 고평균 전력 동작이 가능하고 다이오드 펌프로 가능하다.고효율 고출력 고체 상태 레이저(>5w), 100kW 가능

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특허법인충정
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2001-03-01
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일반기술 물리학 > 레이저 광학(R12)

고첨두 전력 Q 스위치 레이저

이 발명품의 특징은 증폭된 레이저 방사의 단펄스열로서 Q 스위치 레이저 발진기 또는 동일한 시딩 속으로 주입된다. 펄스 반복 시간은 주입된 펄스의 효율적인 증폭을 위하여 펄스 모드 동기 레이저 발진기가 주입되기 위하여 레이저 발진기의 라운드 트립 시간에 대응하기 위하여 펄스를 주입한다.현재 상업용 레이저 시스템의 변환 용이, Q 스위치 레이저 공동 실행 제어가 임계적이 아님, 보다 적은 내부 공동 요소로 인한 신뢰성 증가, 공통 파장에서 동작하는 다른 레이저 형태 조합 가능

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특허법인충정
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2001-03-01
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