일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 종래의 광 리소그래피 공정은 웨이퍼 이동 중 기판의 오염이 쉽고, 웨이퍼의 대형화로 인해 균일한 레지스트 막의 형성이 곤란하고, 강한 용매에 의해 레지스트 막의 깨끗한 미세 패턴을 구현하는데 어려움 및 더욱이 기가 디램시대에 접어들면서 광의 회절 현상으로 인한 나노미터 단위의 패턴을 형성하는데 어려움을 해결하고자 한다.본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위한 진공 리소그래피 공정 및 그 공정 중에 제조되는 레지스트 막에 관한 것으로, 플라즈마 처리를 이용한 기판 세척 공정, 플라즈마 중합을 이용한 레지스트 막의 제조 공정, 전자 빔을 사용하는 조사 공정, 플라즈마 에칭을 이용한 레지스트 막의 현상 공정 및 레지스트 막의 제거 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 진공 리소그래피 공정은 상기 모든 공정들이 단일 챔버 내에서 건식으로 수행되어 전체 반도체 공정의 신뢰도를 향상시킬 수 있으며, 상기 공정 중에 제조되는 플라즈마 중합막은 나노미터 단위의 패턴 구현에 적합한 레지스트 막이다.본 발명은 플라즈마 처리를 이용한 기판 세척공정, 플라즈마 중합을 이용한 레지스트 막의 제조 공정, 전자 빔을 사용하는 조사공정, 플라즈마 에칭을 이용한 레지스트 막의 현상공정 및 레지스트 막의 제거공정을 단일 챔버내에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 진공 리소그래피공정을 특징으로 한다. 또한, 본 발명은 상기 진공 리소그래피 공정 중에 제조되는 나노 미터 단위의 패턴 구현에 적합한 레지스트 막을 특징으로 한다.본 발명은 종래의 습식 리소그래프 공정을 단일 진공 챔버내에서 행할 수 있는 건식의 진공 리소그래피 공정으로 대체하여 리소그래피 전공정의 신뢰도를 향상시키고, 이로 인하여 웨이퍼의 수율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 플라즈마 중합과 플라즈마 에칭을 이용할 수 있다.본 발명은 새로운 진공 리소그래피 공정을 제공함과 동시에 진공 리소그래피 공정에 적합한 레지스트 막을 제공함으로써 이 분야에 대한 그 시장성은 매우 크다.
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- 인하대학교
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- 2006-05-12
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재료 > 기타 고분자재료
[해결하고자 하는 과제]본 발명은 웨이퍼 표면의 오염 물질, 먼지 등과 같은 불순물로 인한 문제점을 해결하고자 한다.[과제 해결의 수단]본 발명은 반도체 표면 위의 철 오염 물질을 제거하는 건식 세정 기술에 관한 것으로서, 구체적으로는 UV/O3에 반도체 기판을 노출시키는 단계 ;원격 수소 플라즈마에 반도체 기판을 노출시키는 단계 ; 및선택적으로 반도체 기판을 열처리하는 단계로 이루어지는 반도체 표면 위의 철 오염 물질을 제거하는 방법에 관한 것이다.본 발명의 방법은 철 오염 물질의 효율이 우수하고 사용 장치를 부식시키지 않는 장점을 갖는다.본 발명의 방법에 의해 UV/O3에 이어 원격 수소 플라즈마에 반도체 기판을 단계적으로 노출시키고 선택적으로 반도체 기판을 열처리함으로써 반도체 표면 위의 철 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있으며 반도체 표면의 거칠기를 감소시킬 수 있다. 또한 본 발명에 의한 방법은 어떠한 반도체 공정 반응기에도 적용하여 사용할 수 있으므로, 게이트 산화 전세척 (pre-gate oxidation cleaning), 에피탁시 전세척 (pre-epitaxy cleaning) 또는 금속화 전세척 (pre-metaliization cleaning)을 통해 초대규모 집적 회로의 제작에 응용할 수 있다. 더욱이 본 발명에 의한 세척 방법은 사용 장치를 부식시키지 않는 장점을 갖는다.본 발명은 반도체 기판을 단계적으로 UV/O3 세정에 이어 원격 수소 플라즈마에 노출시킨 다음, 선택적으로 반도체 기판을 열처리함으로써 장비의 부식없이 반도체 표면 위의 철 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있고 반도체 표면의 거칠기가 감소시킬 수 있다.종래 습식 세정의 문제점을 해결하기 위해 건식 세정 기술이 개발되었으며, 일반적으로 사용되는 기술은 UV를 사용하는 광화학적 방법과 플라즈마를 이용하는 방법이다. 특히 금속 오염 물질을 제거하기 위해 UV/Cl2 세정법, 원격 HCl 플라즈마 세정법 등과 같이 최근에 많이 연구되고 있는 방법이다. 그러므로 반도체 제조공정상의 불순물 제거용으로 널리 쓰일 수 있어 그 시장성이 매우 넓다.반도체 기판의 철 불순물을 제거하기 위한 본 발명의 다단계 방법에서 각 단계의 순서는 철 불순물 제거 효율에 영향을 미치는데, UV/O3에 이어 원격 수소 플라즈마 세정을 하는 것이 원격 수소 플라즈마 세정을 한 후 UV/O3 세정하는 것보다 더 우수한 세정 효과를 나타낸다. 그러므로 반도체 제조공정에 널리 쓰일것이다.
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- 인하대학교
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- 2006-05-24
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재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 전기 방사법에 의한 폴리스티렌 초발수성 섬유 멤브레인의 제조 방법 및 그 방법에 따라 제조된 폴리스티렌 섬유 멤브레인에 관한 것이고, 구체적으로 비휘발성 용매에 폴리스티렌을 용해시켜 제조된 용액을 전기 방사하여 초발수성 섬유 멤버레인을 제조하는 방법 및 그 방법에 의하여 제조된 초발수성 섬유 멤브레인에 관한 것이다. 본 발명에 따른 방법은 폴리스티렌 고분자의 농도가 30 내지 40 wt%가 되는 폴리스티렌 및 디메틸포름아미드의 혼합 용액을 제조하는 단계 및 혼합 용액을 전기 방사하는 단계를 포함하고, 상기에서 전기 방사의 전계 강도는 16 kV 내지 19.6 kV가 되는 것을 특징으로 한다.본 발명은 전기 방사법에 의한 폴리스티렌 초발수성 섬유 멤브레인의 제조 방법 및 그 방법에 따라 제조된 폴리스티렌 섬유 멤브레인에 관한 것이고, 구체적으로 비휘발성 용매에 폴리스티렌을 용해시켜 제조된 용액을 전기 방사하여 초발수성 섬유 멤버레인을 제조하는 방법 및 그 방법에 의하여 제조된 초발수성 섬유 멤브레인에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 간단한 전기방사장치의 설비를 사용하여 고분자 재료로부터 고분자 섬유로 이루어진 멤브레인의 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 섬유 및 멤브레인의 고유특성 및 표면특성을 이용하여 물의 대한 접촉각이 150°이상이 되는 우수한 초발수성 섬유 멤브레인을 제공하는 것이다. 본 발명에 따른 방법에 의하여 폴리스티렌 용액으로부터 전기 방사하여 폴리스티렌 섬유 멤브레인이 제조되었다. 30 wt% 이상의 농도에서 전기방사를 하여 얻어진 폴리스티렌 섬유표면에는 규칙적으로 분포된 돌기들이 존재하였다. 그리고 제조된 섬유 멤브레인의 물에 대한 접촉각은 150° 이상이 되었다. 이와 같은 접촉각에 대한 값은 초발수성에 해당하는 것으로 기존의 연구결과에 비해 아주 간단한 장치에 의하여 본 발명에 따라 제조될 수 있었다. 제조된 섬유는 다양한 분야의 산업 소재로서 사용될 수 있도록 한다. 본 발명에 따른 폴리스티렌 섬유 및 멤브레인은 우수한 초발수성의 특성으로 인하여 신-개념 방수/방오성 코팅재료 또는 도료산업, 접착제산업, 섬유산업, 정밀 화학산업, 전기전자산업, 자동차산업 및 금속산업 등의 각종 산업에서 발수성, 방오성 또는 낮은 표면장력 등의 기능성을 부여하여 다양한 용도로 활용될 수 있다. 이로 인하여 본 발명에 따라 제조된 섬유는 상당한 규모의 시장을 형성할 것으로 보이는 중요한 재료로 사용이 될 수 있는 것으로 판단이 된다.
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- 인하대학교
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- 2006-05-12
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본 고안은 산화티탄 광촉매를 이용한 식수 처리장치에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 자외선을 발산하는 램프 주위에 산화티탄이 엠보싱처리로 표면코팅된 관형의 광촉매체를 장착함으로서, 자외선에 의한 살균효과를 비롯하여 산화티탄의 광촉매에 의한 염소나 곰팡이 그리고 냄새의 원인이 되는 유기물, 트리할로메탄과 같은 발암성물질 및 환경호르몬을 제거하여 안전한 식수로 정화할 수 있다는 효과를 가져오는 산화티탄 광촉매를 이용한 식수 처리장치에 관한 것이다.외주면에 나사돌기(12)가 형성되어 있는 몸체(11)가 있고, 상기 몸체(11)의 하면에 장착되어 자외선을 발산하는 램프(12)가 구비되어 있는 자외선 램프부(10)와, 상기 자외선 램프부(10)에 형성된 나사돌기(11)와 대응되는 나사홈(21)이 내주면에 형성되어 있고, 하면에는 식수가 유입되는 식구 유입구(22)가 있으며, 상방 일측부에는 유입된 식수가 배출되는 식수 배출부(23)가 형성되어 있는 용기체(20)와, 상기 용기체(20)의 내측면에 장착되어 자외선에 광촉매를 일으키는 산화티탄 광촉매가 코팅된 관형의 광촉매체(30)로 구성되는 것을 특징으로 하는 산화티탄 광촉매를 이용한 식수 처리장치.
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- 순천대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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재료 > 기타 고분자재료
본 기술은 기저귀를 형성하는 투액성시트(외피)와 비투액성시트(내피)에 고농도로 제조된 은 나노입자 용액을 고착시켜, 기저귀를 착용하였을 때 외피 또는 내피에 고착된 은 나노입자에 의한 항균효과를 나타낼 수 있는 항균기저귀 및 항균기저귀의 제조방법을 제공한다. 크기가 1~20nm인 은 나노입자가 잘 분산되어 있는 1,000~100,000ppm의 은 콜로이드 용액을 적정량의 증류수로 희석하여 처리함으로써 은 나노입자를 기저귀의 내피 또는 외피에 고착시키는 고착단계, 은 나노입자가 고착된 기저귀의 내피 또는 외피를 5~40℃씩 순차적으로 온도가 상승하는 3개 내지 10개의 예비건조기를 연속적으로 통과시켜, 40~120℃에서 30초~15분간 건조시키는 예비건조단계, 예비건조단계를 거친 내피 및 외피를 100~170℃의 온도에서 1~10분간 건조시키는 본건조단계, 본건조를 마친 내피 및 외피를 이용하여 기저귀를 제조하는 제조단계를 포함하다.기존의 화학항균제로 위생가공처리된 일회용 기저귀의 경우 피부에 자극을 줄 뿐만 아니라 인체에 유해한 성분들로 인해 사용상에 제약이 있음. 항균 효과를 위해서 은을 적용하는 경우 전기분해에 의한 은용액으로 처리할 경우 고농도로 제조될 수 없는 한계로 인하여 기저귀가 일회성 소모품임을 감안할 때 경제성이 떨어지는 단점이 있음. 본 발명은 인체에 무해하면서 경제적으로 대량생산이 가능하다는 면에서 독창성이 뛰어나며, 은 나노입자가 여러 가지 용매에 분산되어 있는 고농도의 은 콜로이드 용액을 적용함으로써 경제성이 있다는 면에서 우수하다.은 나노 콜로이드 용액은 은 나노입자 이외에도 미생물에 선택적으로 작용하는 항균성 금속 성분들을 이용한 응용이 가능. 일회용 기저귀뿐 아니라 여성용 위생 패드에도 충분히 확장 적용 가능하다.
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- 서울대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
아파타이트 분말 제조 방법에 있어서, 칼슘염 및 인산염을 포함하는 혼합 수용액을 제공하는 단계, 상기 수용액내의 칼슘염 및 인산염을 반응시켜 상기 아파타이트와는 다른 상을 갖는 중간 반응물을 생성하는 단계, 상기 중간 반응물로부터 아파타이트 분말을 합성하기 위해 상기 수용액을 숙성하는단계 및 상기 수용액에 침전된 슬러리를 건조하는 단계를 포함하는 아파타이트 제조 방법을 제공한다. 상기 중간 반응물은 디칼슘 포스페이트 디하이드레이트인 것이 바람직하다. 본 기술에서 상기 칼슘염은 수산화칼슘이고, 상기 인산염은 인산인 것이 바람직하다. 본 기술의 상기 숙성 단계는 5 ∼ 90℃에서 수행될 수있다. 본 기술의 방법에 의해 판상의 입자 형상을 갖는 아파타이트 분말이 제조될 수 있다. 칼슘염 및 인산염을 포함하는 혼합 수용액을 제공하는 단계, 상기 수용액내에 가스를 공급하면서 인산칼슘 화합물을 합성하는 단계 및 상기 합성된 인산칼슘 화합물을 건조하는단계를 포함하는 아파타이트 제조 방법을 제공한다.아파타이트는 칼슘염과 인산염으로부터 DCPD와 같은 중간 반응 생성물을 먼저 형성한뒤 재석출되는 것을 특징으로 하고 있다. 따라서, 이 과정에서 입자의 크기 및 형상을 제어할 수 있게 되며, 가스 공급 여부에 따라 또는 공급 가스의 종류에 따라 다양한 형상 및 크기를 갖는 아파타이트 입자 제조가 가능하다.반응 온도 및 건조 조건을 조절하여 다양한 기공율과 비표면적을 갖는 아파타이트 분말을 얻을 수 있다. 따라서 본 기술의 방법에 따르면, 특정 응용 분야에서 요구되는 사양에 맞는 물성을 갖는 아파타이트를 제공할 수 있다.본 기술은 인체 이식용 고강도 아파타이트 복합체로서 요구되는 침상 혹은 판상의 아파타이트 입자, 골충진재 및 고무와 제지의 충진재로서 사용되기 위한 판상형의 아파타이트 입자, 인체에 공급되는 단백질 혹은 의약품 전달체용으로 적합한 허니컴 구조의 다공성 아파타이트 입자 및 항균 및 방취용 재료로 이용할 수 있는 다양한금속이온과 음이온 혹은 각종 촉매를 함유한 다공성의 아파타이트 입자를 제공할 수 있다.
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- 서울대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 기술은 BaO와 Nb2O5로 이루어지는 저온동시소성(Low-Temperature Cofiring) 유전체 세라믹 조성물에 관한 것으로서, 이 유전체 조성물은 1000℃ 이하의 낮은 온도에서 소결(sintering)이 이루어지므로 은 또는 은/팔라듐 전극과 동시소성(Cofiring)이 가능하며 높은 유전율(dielectric constant)과 작은 유전손실(dielectric loss), 그리고 ±30ppm/℃ 이하의 유전율 온도계수(temperature coefficient of dielectric constant)를 갖기 때문에 온도안정 적층 캐패시터(MLCC, Multilayer Chip Capacitor)에 사용할 수 있다. 특히, 환원분위기(Reducing atmosphere)에서 구리(Cu)나 니켈(Ni) 등의 금속전극과 동시소성이 가능하므로, 적층(Multilayer) 또는 평면형(Planar) 소자 제조에 있어서 전극의 원가절감과 소자의 고주파(high-frequency)화를 이룰 수 있다.유전체 세라믹 조성물은 900℃에서 소결이 가능하고, 10-11 atm의 낮은 산소분압에서 소결한 경우에도 낮은 유전손실을 갖고 있기 때문에 은, 구리, 니켈 금속전극과 동시소성이 가능하고,유전율 온도계수가 ±30 ppm/℃ 이하의 값을 갖기 때문에 온도안정성이 요구되는 부품, 예를 들어 온도안정 적층 캐패시터(NPO MLCC)에 사용할 수 있으며, 1 GHz 이상의 주파수에서 1x10-4 이하의 유전손실을 갖기 때문에 마이크로파용 필터, 오실레이터, 평면안테나, MCM 등의 통신부품에 사용할 수 있다. 그리고, 900∼950℃의 소결온도 범위에서 유전특성 변화가 거의 없으며 유전율 온도계수(τε)가 ±30 ppm/℃ 이하의 값을 갖는 조성범위가 넓기 때문에 안정적인 제품생산 가능하다.본 기술에 따른 세라믹 조성은 900℃에서 소결이 이루어지기 때문에 은 또는 은/팔라듐 전극과 함께 동시 소성하여 적층소자를 만들 수 있다. 또한, 유전율이 40∼45, 유전손실이 1×10-4 이하의 우수한 유전특성을 가지므로 GHz 대역의 마이크로파용 소자에도 충분히 사용할 수 있으며, 예를들어 칩 LC 필터, 칩 듀플렉서, 평면안테나, 평면필터(planar filter), MCM, 회로기판(substrate) 등의 칩형 부품을 제작할 경우, 유전율이 크고 유전손실이 작기 때문에 부품의 소형화와 저손실화를 얻을 수 있다. 그리고, 유전율 온도계수값이 작기 때문에 온도안정 캐패시터(NPO MLCC)에 사용할 수 있다.
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- 서울대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 기술은 이러한 종래 기술의 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 그 목적은 유전체로 오산화인(P2O5)과 2가 금속(Ba, Sr, Ca, Zn, Mg, Cu, Mn) 산화물을 다양한 비율로 혼합하여 저유전율을 확보하고, 2가 금속 이온들의 고용체 형성으로 유전 물성 조정이 용이하도록 하였으며, 글래스가 아닌 소량의 소결 조제 및 첨가제를 이용하여Ag 전극을 사용할 수 있도록 저온 소결을 가능하게 하며, 품질 계수의 저하없이 기존의 알루미나계의 유전체보다 온도 안정성이 우수한 유전체 세라믹 조성물을 제공하는데 있다. 아룰러, 본 기술은 생체 재료와 형광 특성에만 국한되었던 인산염계 세라믹 조성물들의 고주파 대역에서의 유전 특성 및 저온 소결 가능성을 확인하고, 저유전율계 세라믹 조성물로써, 은, 구리, 은/팔라듐 등의 금속 전극과 동시 소성을 통하여 적층 세라믹 캐패시터, 유전체 도파로용 재료 등으로의 이용 가능성을 확대하는데 다른 목적이 있다.본 기술에 의한 유전체 조성물은 아주 소량의 첨가제만으로, 1,000℃ 이하에서소결이 이루어지기 때문에 은(Ag)과 같은 저융점 전극과 동시 소성이 가능하고, 이렇게 제조된 세라믹 유전체 조성물은 적층 캐패시터(MLCC)에 유전체로 사용이 가능하며 유전 손실이 작고 유전율 온도 계수가 작기 때문에 PCS등의 이동 통신용 부품을 제조하기에 적합하다.첨가제가 첨가된, (1-x)(A'1-yA"y)O-xP2O5 주 조성물 (A' 및 A" = Ba, Sr, Ca, Zn, Mg, Ni, Cu, Mn)계 유전체 조성물은 낮은 유전 손실과 저온 소결의 특성을 갖으며 공진 주파수 온도 변화가 매우 작기 때문에 온도 안정 부품, 예를 들어 온도 안정 캐패시터(NPO MLCC), 마이크로파용 오실레이터, 기판, 필터, 평면 안테나 등에 사용이 가능하고, 또한 우수한 유전특성을 갖는 조성의 범위가 넓고 소결 온도에 따라 유전 특성이 거의 변하지 않기 때문에 안정적인 생산이 가능하다는 장점이 있다.(1-x)(A'1-yA"y)O-xP2O5 주조성물에 산화물 CuO, B2O3, Bi2O3를 첨가한 경우 소결 온도를 크게 낮출 수 있음을 볼 수 있다. 특히 이들 소결 조제는 품질 계수와 유전율은 크게 감소시키지 않으면서소결 온도를 저하시키는 장점을 갖고 있다. 또한 상기 실시예 19에 해당하는 조성물(x = 1/4, A' = Sr)의 경우 CuO및 B2O3의 첨가시 소결 온도가 900℃일 뿐 아니라 공진 주파수 온도 계수를 음의 값으로 조절하여 0ppm/℃로 보상이 가능함을 알 수 있다.
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- 서울대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 기술은 이러한 종래 기술의 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 그 목적은 유전체로 오산화인(P2O5)과 2가 금속(Ba, Sr, Ca, Zn, Mg, Cu, Mn) 산화물을 다양한 비율로 혼합하여 저유전율을 확보하고, 2가 금속 이온들의 고용체 형성으로 유전 물성 조정이 용이하도록 하였으며, 글래스가 아닌 소량의 소결 조제 및 첨가제를 이용하여Ag 전극을 사용할 수 있도록 저온 소결을 가능하게 하며, 품질 계수의 저하없이 기존의 알루미나계의 유전체보다 온도 안정성이 우수한 유전체 세라믹 조성물을 제공하는데 있다. 아룰러, 본 기술은 생체 재료와 형광 특성에만 국한되었던 인산염계 세라믹 조성물들의 고주파 대역에서의 유전 특성 및 저온 소결 가능성을 확인하고, 저유전율계 세라믹 조성물로써, 은, 구리, 은/팔라듐 등의 금속 전극과 동시 소성을 통하여 적층 세라믹 캐패시터, 유전체 도파로용 재료 등으로의 이용 가능성을 확대하는데 다른 목적이 있다.본 기술에 의한 유전체 조성물은 아주 소량의 첨가제만으로, 1,000℃ 이하에서소결이 이루어지기 때문에 은(Ag)과 같은 저융점 전극과 동시 소성이 가능하고, 이렇게 제조된 세라믹 유전체 조성물은 적층 캐패시터(MLCC)에 유전체로 사용이 가능하며 유전 손실이 작고 유전율 온도 계수가 작기 때문에 PCS등의 이동 통신용 부품을 제조하기에 적합하다. 첨가제가 첨가된, (1-x)(A'1-yA"y)O-xP2O5 주 조성물 (A' 및 A" = Ba, Sr, Ca, Zn, Mg, Ni, Cu, Mn)계 유전체 조성물은 낮은 유전 손실과 저온 소결의 특성을 갖으며 공진 주파수 온도 변화가 매우 작기 때문에 온도 안정 부품, 예를 들어 온도 안정 캐패시터(NPO MLCC), 마이크로파용 오실레이터, 기판, 필터, 평면 안테나 등에 사용이 가능하고, 또한 우수한 유전특성을 갖는 조성의 범위가 넓고 소결 온도에 따라 유전 특성이 거의 변하지 않기 때문에 안정적인 생산이 가능하다는 장점이 있다.
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- 서울대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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재료 > 기타 고분자재료
본 기술은 자가 발포형 다공성 세라믹 조성물 및 이를 이용한 다공성 세라믹의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 조성 중에 고온에서 가스를 발생하는 성분을 포함한 유리로서 이를 분쇄한 후 열처리시 치밀하게 소결된 후 급격히 발포되어 높은 기공율을 가지나 강도가 매우 높은 다공성 세라믹 조성물 및 이를 이용한 다공성 세라믹의 제조방법에 관한 것이다.상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 기술은 각각 몰비로 산화칼슘(CaO)이 43∼47%, 실리카(SiO 2 )가 43∼47%, 보레이트(B 2 O 3 )가 6∼14% 범위 안에서 조성되는 것을 특징으로 하는 자가발포형 다공성 세라믹 조성물을 제공한다.그리고, 본 기술은 CaO, SiO 2 및 B 2 O 3 로 구성된 유리를 제조하는 단계와; 이 유리를 평균입경 1∼10μm 범위의 미세한 분말로 분쇄하는 단계와; 상기 분말을 프레스로 성형하는 단계와; 상기 성형물을 950~1200℃ 사이의 온도에서 열처리하여 자가발포시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다공성 세라믹 제조방법을 아울러 제공한다.현재까지 알려지거나 상용화한 다공성 세라믹스 제조 방법의 경우에는 고분자와 혼합하거나 코팅하여 제조되거나 가소결시켜 제조되는데 기공율이 높으면 강도가 너무 약한 단점이 있고 강도가 높으면 기공율이 낮은 문제점이 있었다.따라서, 본 기술은 이러한 종래기술의 문제점을 극복하기 위해 안출된 것으로, 발포성 고분자 대신에 세라믹 성분 중에 고온 발포되는 무기 발포제 성분을 포함하여 소결 후 자가 발포됨에 따라 기공율이 높지만 기계적 강도가 매우 높은 다공성 세라믹 조성물을 제공할 수 있다.강도가 높고 연성을 가지며 생체활성을 갖는 인공골용 다공성 세라믹을 제공할 수 있다.다공성 세라믹스로 구성 성분 중에 자가발포 성분을 포함하기 때문에 다공체를 만들기 위한 별도의 공정이 필요하지 않고 보통 세라믹 공정을 그대로 이용함에 따라 제조공정이 간단한 다공성 세라믹의제조방법을 제공할 수 있다.
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- 서울대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 분말사출성형에서 사용되는 고속탈지가 가능한 고강도 수용성 결합제에 관한 것으로서, 본 발명의 결합제는 폴리올레핀에 무수말레인산을 혼합하여 만든 폴리에틸렌·폴리프로필렌계 접착성 수지 20∼80중량%와 폴리에틸렌글리콜 80∼20중량%로 구성된다. 본 발명의 고강도 결합제를 이용하여 사출성형체를 제조할 경우 형상 보지력이 우수하고 고속 용매 탈지를 가능하게 하여 분말사출성형 공정에 있어서 가장 문제시되고 있는 탈지 공정의 소요시간을 줄일 수 있으며, 용매 추출시 용제로 물을 사용함으로써 환경오염 개선과 경제적인 효과를 가져올 수 있는 장점이 있다.발명은 상기한 종래 분말사출성형의 문제점을 해결하고자 발명한 것으로 금속, 초경, 세라믹, 합금 분말 등을 혼합하여 분말과의 상 분리 없이 사출성형 한 뒤 용제로 물을 사용하여 수용성 결합제를 제거하는 것으로서 기존의 탈지 방법보다 시간을 단축시킬 수 있고, 높은 사출성형 강도를 가지는 결합제를 제공함을 목적으로 한다. 본 발명의 결합제를 사용할 경우 결합제의 형태 보지력이 우수하고 성형 강도가 높아 작업공정이 용이하며, 물속에서 고속으로 수용성 성분을 제거함으로 분말사출성형 공정의 시간을 단축할 수 있다. 그리고 기타 용제에 비해 값이 싼 물을 이용함으로 경제적인 효과와 작업자의 인체에 유해한 질병을 유발하지 않으며 환경오염이 전혀 되지 않는 장점이 있다.
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- 영남대학교
- 등록일
- 2006-05-10
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재료 > 기타 고분자재료
소지의 강도를 증가시키는 방법으로는 점토(clay), 도석(pottery stone), 고령토(kaolinite), 장석(feldspar), 실리카(silica)를 사용한 기본 자기소지에 Al2O3를 입도에 따라 첨가하여 mullite 결정을 증가시키고 입도분포가 최밀 충전되도록 조정함으로 소결체의 미세구조가 치밀화되고 물리적 강도가 향상되는 소지를 개발하였다. 방법으로는 여기에 Al2O3 powder를 1, 3, 5, 10%첨가하였다. 이때의 Al2O3 powder의 입자크기는 3～5㎛, 1～3㎛, 및 0.2～0.5㎛등 세가지의 범위이다. 최밀충전에 필요한 미분쇄는 planetary mill, grinding bowl 250㎖을 사용하여 각각 혼합된 시료를 240rpm의 속도로 일정 시간동안 분쇄 및 혼합하였다. 소성은 3C°/min 속도로 1220C°, 1250C°, 1280C°, 1350C°까지 승온 시킨 뒤 각각의 최고 온도에서 1시간 유지한 후 실온까지 로냉 시킴다음 꺾임강도, 전자현미경 등으로 소결체의 고강도 특성을 구명하였다.1.입도분석 결과 평균 입자 크기가 기본소지는 9.33㎛이고 Al2O3 powder의 입도에 따라 10㎛-20㎛ 범위의 입도 분포를 보였다. 특히 Al2O3 powder의 입자 크기에 따라 분쇄 효과가 달라짐을 확인하였다. 2. X-ray pattern은 1220℃ 소성 소지에서는 mullite와 cristobalite, wollastonite, orthoclase 결정상이 나타났지만 1250℃이상의 소성 소지는 quartz와 mullite, 5% 이상의 Al2O3 powder를 첨가한 소지는 αcorundum 결정상이 나타났다. 3. 꺽임강도(1280℃시편)는 기본소지와 비교하여 Al2O3 powder를 첨가하였을 때 비교값은 각각 6.0％, 9.2％, 13.5％, 20.1％, 21.6％, 22.6％, 1.7％, 1.5％, 1.5％로 더 증가 되는 것을 확인하였다. 4. 미세구조(1280℃시편) 관찰 결과 Al2O3 powder를 첨가한 소지는 mullite 섬유 결정상 평균 두께는 247Å, 108Å, 261Å 및 140Å로 나타났다.
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- 동신대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 연료전지용 고분자 전해질 막용 고분자 재료에 관한 것으로, 폴리 스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰에 관한 것이다. 폴리스티렌 술폰산의 그라프트 방법은 폴리술폰에 관능기를 도입 한 후 이를 이용하여 리빙 라디칼 중합을 이용하여 나트륨 스티렌 술폰산염을 중합하여 폴리스티렌 술폰산염이 그라프트된 폴리술폰 유도체를 얻었다. 이렇게 제조된 고분자를 막으로 제조한 후 수소 이온을 교환하여 우수한 이온 전도성을 나타내는 고분자 막을 제조하였다.본 발명에서 제조된 고분자 막은 최근 많은 관심을 받고 있는 연료전지용 고분자 전해질 막으로 적용이 가능하여, 자동차, 노트북, 핸드폰 등의 에너지 원으로 응용될 수 있으며 상업화될 경우 금액으로 환산할 수 없을 정도의 부가가치를 지니게 된다. 본 발명이 성공적으로 상업화 될 경우 현재 고분자 막 분야의 많은 부분을 대체 할 수 있을 것으로 생각된다. 폴리스티렌 술폰산이 그라프트된 폴리술폰의 제조와 연료전지용 고분자 전해질 막으로의 응용에 관한 것으로, 리빙 라디칼 중합을 이용하여 그 구조가 제어된 고분자물을 제조하고, 이를 연료전지용 고분자 전해질 막으로 응용하는 것을 그 특징으로 한다.
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- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 오버런 공정을 이용한 다공성 지지체의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 (1) 고분자 용액을 오버런(over-run)시켜 기체를 혼입시키는 단계; 및 (2) 상기 기체가 혼입된 용액을 동결건조시키는 단계를 포함하는 다공성 지지체의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 다공성 지지체의 제조방법에 따르면 인체에 유해한 화학약품의 잔유 위험이 없어 무독성의 생체적합성 다공성 지지체를 제조할 수 있고, 부가적인 세척공정 단계가 불필요하여 제조공정을 최소화할 수 있으며, 제조공정시의 여러 가지 인자들의 조절과 부가적인 가교반응과 염침출(particle-leaching)법 통해 원하는 적절한 다공도, 기계적 물성, 생분해 특성 등을 가진 3차원의 다공성 지지체의 제조가 가능하여 상처피복재료, 조직공학적 인공장기, 의료용 충진제, 또는 세포배양을 위한 지지체의 제조에 널리 활용될 수 있다.본 발명의 오버런 공정에 의한 다공성 지지체의 제조방법에 따르면 인체에 유해한 화학약품의 잔유 위험이 없어 생체적합성 다공성 지지체를 제조할 수 있고, 부가적인 세척공정 단계가 불필요하여 제조공정을 최소화할 수 있으며, 제조공정시의 여러 가지 인자들의 조절과 부가적인 가교반응과 염침출(particle-leaching)법을 통해 원하는 적절한 다공도, 기계적 물성, 생분해 특성 등을 가진 3차원의 다공성 지지체의 제조가 가능하다. 본 발명의 오버런 공정을 이용한 다공성 고분자 지지체의 제조방법은 세포의 접착과 분화, 성장을 촉진할 수 있는 적절하고 균일한 기공의 크기와 다공성을 가진 3차원의 다공성 지지체를 제공하여, 상처피복재료, 조직 공학적 인공장기, 의료용 충진제, 또는 세포배양을 위한 지 지체의 제조에 널리 활용될 수 있다.
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- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
* 원리 및 구성본 기술은 해양생물로부터 추출된 콜라겐을 이용하여 제조된 조직공학용 고분자 지지체 및 그 콜라겐의 추출방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 콜라겐의 아미노산 조성에 있어 프롤린(proline)이 6 내지 10.5 몰%, 히드록시프롤린(hydroxyproline)이 3 내지 7 몰%인 해양생물로부터 추출된 콜라겐을 이용하여 제조되는 조직공학용 고분자 지지체 및 그 콜라겐의 추출방법에 관한 것이다.* 기술효과본 기술의 조직공학용 고분자 지지체는 포유동물 유래 콜라겐에 비해 세포친화성이 우수하고, 세포독성 및 면역 반응의 위험이 없는 해양생물로부터 추출된 콜라겐을 이용하여 제조됨으로써, 상처피복재료, 조직공학용 인공장기, 의료용 충진제, 또는 세포배양을 위한 지지체로 널리 활용할 수 있다. 또한, 본 기술의 추출방법에 의하면, 비교적 저가의 가격으로 광우병 등의 전염성 병원체의 감염 위험이 없는 콜라겐을 다량 생산할 수 있다.* 기술특징본 기술의 목적은 저온에서 안정하고, 전염성 병원체, 세포독성, 면역반응의 위험이 없는 해양생물 유래의 콜라겐을 이용하여 제조되는 조직공학용 고분자 지지체를 제공하는 것이다. 본 기술의 다른 목적은 전염으로 인한 오염 위험, 특히 프리온(prion) 타입의 전염성 병원체의 오염 위험이 없는 콜라겐을 비교적 저가의 가격으로 대량 생산할 수 있는 추출방법을 제공하는 것이다.* 주요 적용 제품 - 상처피복재료 - 조직공학용 인공장기 - 의료용 충진제 - 세포배양을 위한 지지체* 특징 및 장점 - 첫째, 비교적 저가의 가격으로 광우병 등의 전염성 병원체의 감염 위험이 없는 콜라겐을 다량 생산할 수 있다. - 둘째, 유래 콜라겐에 비해 세포친화성이 우수하다. - 셋째, 질병감염, 세포독성 및 면역반응의 위험이 없는 해양생뮬로부터 추출된 콜라겐을 사용한다.
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- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
* 원리 및 구성본 기술은 기체분리용 규소함유 탄소분자체 분리막의 제조방법 및 그 전구체가 되는 고분자의 성분 및 조성에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 규소를 함유한 고분자전구체막을 제조하는 단계; 기존의 폴리이미드의 합성에 이용되었던 단량체와 실록산기를 함유한 양말단이 아민기인 올리고머를 공중합시키는 조성 결정단계, 상기 고분자전구체막을 5-10oC/min의 승온속도로 400oC까지 승온시킨 다음, 3-5oC/min의 승온속도로 550-600oC까지 승온시킨 후 같은 온도범위에서 1-2시간의 등온과정을 거치는 단계, 및 상기 등온과정을 거친 안정화된 분리막을 1-5oC/min의 승온속도로 800oC와 1000oC까지 각각 승온시켜 같은 온도에서 1-2시간의 등온과정을 거쳐 탄소화시키는 단계를 포함하는 기체분리용 탄소분자체 분리막의 조성 및 제조방법에 관한 것이다. 상기 분리막은 헬륨, 수소, 산소, 질소, 메탄 또는 이산화탄소와 같은 기체를 매우 효율적으로 분리할 수 있다.* 발명의 특징본 발명은 기체를 높은 투과도와 함께 효율적으로 분리할 수 있는 규소를 함유한 탄소분자체 분리막의 고분자 전구체 조성 및 제조방법에 관한 것이다. 두 개의 서로 다른 영역을 가지는 미세상분리 구조로 된 폴리이미드실록산을 탄화과정을 통해 높은 투과도와 선택도를 가지는 규소 함유 탄소막을 제조한다.* 적용응용분야 및 시장성탄소분자체막은 기체 혼합물의 분리에 이용되며 이외에 바이러스, 단백질, 박테리아 분리와 같은 의료분야 및 주류, 탄산음료와 같은 식품산업에 대해서도 탄소막을 이용한다. 탄소분자체는 기체분리 뿐 만 아니라 그 용도가 매우 다양하여 분리산업 및 촉매산업에도 큰 각광을 받을 것으로 기대된다. 본 발명은 산소 산업의 핵심 기술인 고분자 분리막의 대체기술이며 최근 들어 신()산업으로 급부상하고 있는 산소관련 산업은 시장규모가 오는 2003년 1조원대에 달할 것으로 예상된다.
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- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
* 기술 개요본 기술은 광산발생기로 플루오로알킬술폰늄염이 치환된 신규 화합물과, 상기한 신규 화합물과 메타아크릴레이트를 라디칼 중합하여 제조된 유기용매에 대한 용해성이 우수한 신규 공중합체에 관한 것이다. 본 기술에 따른 플루오로알킬술폰늄염의 광산발생기가 치환된 신규의 단량체로부터 중합하여 제조된 공중합체는 유기용매에 대한 용해성 및 도포성능이 우수하다. 본 기술에서 합성한 신규한 고분자는 화학증폭형 포토레지스트, AFM 리소그래피용 레지스트 및 e-beam용 레지스트로 쓰일 수 있으며, 그 성능이 좋을 시 아주 좋은 시장성을 지닐 수 있다.* 장점본 기술에 따른 플루오로알킬술폰늄염의 광산발생기가 치환된 신규의 단량체로부터 중합하여 제조된 공중합체는 유기용매에 대한 용해성 및 도포성능이 우수하다.* 발명의 특징 - 신규한 PAG 단량체의 합성. - 신규 합성한 PAG 단량체와 다양한 아크릴레이트 단량체의 라디칼중합을 통한 신규한 고분자 합성.* 적용응용분야 및 시장성본 발명에서 합성한 신규한 고분자는 화학증폭형 포토레지스트, AFM 리소그래피용 레지스트 및 e-beam용 레지스트로 쓰일 수 있으며, 그 성능이 좋을 시 아주 좋은 시장성을 지닐 수 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 고분자, 용매 및 첨가제로 이루어진 혼합 용액을 폴리에스테르 부직포에 함침 도포 후, 일정한 습도에 의해 상분리를 유도하여 이를 건조시킨 막의 제조 공정에 있어서, 폴리염화비닐을 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시킨 용액에 용매와는 잘 혼합되고 고분자에 대해서는 비용매로 작용하는 1-40중량%의 알코올을 첨가하여 고분자 용액을 형성하고, 이 고분자 용액을 폴리에스테르 부직포에 함침 도포한 후, 온도 25。C, 상대습도 50-90% 분위기 하에서 건조시켜 얻게 되는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리염화비닐 막의 제조 방법 및 상기 미세 다공성 막의 제조방법에 있어서 끓는점이 50-150oC이고, 고분자에 대해서 비용매로 작용하는 첨가제를 선택함으로써 다공성 고분자 막의 기공의 크기가 0.01-2μm이고 다공도가 25-88%인 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리염화비닐 고분자 막을 얻고, 다공성 고분자 막의 순수투과유속이 25-7000 LMH임을 특징으로 하는 폴리염화비닐 고분자 막에 관한 것으로, 미세 다공성 막의 제조방법 및 이로부터 제조된 기공의 크기가 조절되고, 순수 물의 투과유량이 개선된 다공성 폴리염화비닐 막에 관한 것이며, 본 발명에 따른 방법으로 제조된 막은 투과성능이 우수하여 정밀여과 등에 응용이 가능하다.본 발명은, 비용매 첨가제가 함유된 폴리염화비닐 용액으로부터 다공성 막을 얻을 수 있고, 비용매의 함량을 증가시킴과 동시에 상대습도를 조절함으로써 기공의 크기 및 기공도의 조절이 가능하고 기공사이의 상호연결성이 증가하여 투과성능이 우수한 다공성 막을 제조할 수 있어 정밀여과에 응용이 가능하다. 정밀여과용 폴리염화비닐 막의 제조시 n-butyl alcohol의 사용으로 우수한 투과성능을 가진 막을 제조할 수 있다. 정밀 여과막의 표면 기공의 제어와 높은 투과성능을 가져 왔다.
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- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 마이크로펄스 글로우방전을 이용하여 피처리물의 표면에 이온질화처리 및 다이아몬드형 탄소막을 코팅하기위한 방법에 관한 것으로서, 특히 다이아몬드형 탄소막을 증착하기 전에 마이크로펄스 글로우방전을 이용하여 피처리물의 표면을 질화처리함으로써 다이아몬드형 탄소막과 피처리물과의 밀착력을 좋게 한 마이크로펄스 글로우방전을 이용한 이온질화 및 다이아몬드형 탄소막 증착방법에 관한 것이다.본 발명은 진공 반응실 내에 피처리물을 장입하는 피처리물 장입단계와, 피처리물이 장입된 상기 진공 반응실을 진공상태로 만들기 위한 배기단계와, 배기된 상기 진공 반응실에 질소와 수소의 혼합가스를 공급하고 마이크로펄스 전원을 인가하여 질소와 수소의 혼합가스를 마이크로펄스 글로우 방전으로 이온화시켜 피처리물 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하는 이물질 제거단계와, 이물질이 제거된 상기 진공 반응실에 질소 가스를 공급하고 활성화시켜 피처리물의 표면에 질소 이온을 침투 또는 확산시키는 질화단계와, 상기 진공 반응실 내에 탄소를 포함하는 반응가스를 공급하여 이온화된탄소 이온을 피처리물의 표면에 증착시키는 다이아몬드형 탄소막 증착단계 및 상기 다이아몬드형 탄소막이 증착된 피처리물을 상온으로 냉각하는 냉각공정으로 이루지며, 상기 마이크로펄스는 직류전원을 수십 또는 수백 마이크로 세컨드(㎲) 간격으로 단속(온/오프)하여 생성되는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 마이크로펄스 글로우방전을 이용한 이온질화 및 다이아몬드형 탄소막 증착방법은 이온 질화처리와 다아아몬드형 탄소막의 증착공정을 동일한 진공 반응실에서 연속적으로 수행함으로써 고품질의 코팅막을 형성할 수 있고,수십 또는 수백 마이크로 세컨드의 펄스주기를 갖는 직류전원을 사용함으로써 아크방전과 이온축적이 일어나지 않으며고밀도의 플라즈마를 넓은 영역에 걸쳐 형성할 수 있어 대형물 처리의 대량 처리에 적합할 뿐만 아니라 장치의 대형화비용이 저렴하고 각종 제어부품에 간섭을 일으키는 노이즈가 발생하지 않아 자동화에도 유리한 효과가 있다.위와 같이 마이크로펄스 글로우방전을 이용한 이온질화 및 다이아몬드형 탄소막 증착방법은 이온질화를 이용하여 피처리물의 표면에 경화층을 먼저 형성함으로써 피처리물과 다이아몬드형 탄소막의 밀착성을 증대시켜 처리물의 내구성을 증가시키는 효과가 있다.본 발명에 따른 마이크로펄스 글로우방전을 이용한 이온질화 및 다이아몬드형 탄소막 증착방법은 이온 질화처리와 다아아몬드형 탄소막의 증착공정을 동일한 진공 반응실내에서 연속적으로 수행하기 때문에 생산성이 향상되고, 불순물의침입이 원천적으로 봉쇄되어 고품질의 코팅막을 형성할 수 있는 효과가 있다.또한 본 발명에 따른 마이크로펄스 글로우방전을 이용한 이온질화 및 다이아몬드형 탄소막 증착방법은 수십∼수백 마이크로 세컨드의 펄스주기를 갖는 마이크로펄스를 이용하기 때문에 직류전원의 장점과 마이크로펄스의 장점을 모두 가짐으로써 아크방전이 일어나지 않고 절연막의 일종인 탄소막에 이온축적이 발생되지 않으며 고밀도의 플라즈마를 넓은영역에 걸쳐 형성할 수 있어 대형물 처리와 대량 처리물의 처리에 유리하다.본 발명의 다른 효과는 마이크로펄스 전원을 사용함으로써 장치의 대형화 비용이 저렴하고 각종 제어부품에 간섭을 일으키는 노이즈가 발생하지 않아 자동화 하는데 유리하다.또한 본 발명은 마이크로펄스 전원을 이용하여 350℃ 이하의 비교적 낮은 온도에서 수행되므로 피처리물의 변형이 발생되지 않고 균일한 제품을 얻을 수 있는 효과가 있다.그리고 본 발명은 다이아몬드형 탄소막을 코팅하기 전에 이온 질화처리를 하는 동시에 저온에서 다아이몬드형 탄소막을 증착하므로 피처리물과의 밀착력이 향상되고 내부응력성이 증가되어 반도체 정밀금형(SKD61), 프레스금형(SKD11), 본플레이트(SUS) 등에 적용할 수 있는 효과가 있다.
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- 한국생산기술연구원
- 등록일
- 2006-05-24
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재료 > 기타 고분자재료
본 발명은 강판의 표면에 부식을 방지하기 위한 보호막을 위한 코팅제와 그 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 수용성 또는 수분산성 고분자에 가교제와 알루미나 졸등 부식방지 향상제를 첨가하여 부식방지용 코팅제를 제조하는 종래의 방법에 나노클레이(clay)를 첨가하는 새로운 방법에 관한 것이다. 특히 크롬(Cr) 성분이 전혀 포함되어 있지 않은 무크롬내부식성 코팅제 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 나노 점토가 포함된 부식방지용 코팅제 조성물은 종래의 아연도금 강판 코팅제 보다 부식방지에 탁월한 효과가 있었다. 인체에 유해한 크롬을 사용하지 않고 유기용제를 사용하지 않는 수분산된 코팅제이므로 친환경적이다.본 발명은 강판의 표면에 부식을 방지하기 위한 보호막을 위한 코팅제와 그 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 수용성 또는 수분산성 고분자에 가교제와 알루미나 졸등 부식방지 향상제를 첨가하여 부식방지용 코팅제를 제조하는 종래의 방법에 나노클레이(clay)를 첨가하는 새로운 방법에 관한 것이다. 특히 크롬(Cr) 성분이 전혀 포함되어 있지 않은 무크롬내부식성 코팅제 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 나노 점토가 포함된 부식방지용 코팅제 조성물은 종래의 아연도금 강판 코팅제 보다 부식방지에 탁월한 효과가 있었다. 인체에 유해한 크롬을 사용하지 않고 유기용제를 사용하지 않는 수분산된 코팅제이므로 친환경적이다.
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- 한국생산기술연구원
- 등록일
- 2006-05-24
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