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일반기술 전기·전자 > 기타 전기/전자

유전 독성 및 방사선 차단성 평가 시스템

□ 기술개요유전적 안전성 논의는 심각한 환경 오염 및 빈번하게 발생하는 종양적 질환과 더불어 매우 중요한 문제로 떠오르고 있다. 인간에게 영향을 미치는 화학 물질과 물리적 요인, 그리고 기타 유기체의 범위가 매년 확대되고 있다. 광활한 토양에 걸쳐 심각해지는 자연 방사선 이온화 경향으로 인구 집단 대부분이 생태학적 안전성에 대한 위협을 받고 있어 인간의 면역력을 비선별적으로 개선하는 안전한 방사선 보호물질에 대한 필요성이 제기되었다. 변이원성을 유발하는 상이한 물질과 물리적 요소를 평가하는 복잡한 현대적 유전 기술은 러시아 과학원 시베리아 분원의 세포 및 유전학 연구소가 그 전문성을 갖추고 있다. 세포 모자이크를 이용한 노랑 초파리의 유도 기술은 상이한 화학 합성물의 방사선 보호 물질의 시험에 이용되고 있다. □ 기술적 평가와 경제적 이익 제안된 실험계를 이용해 선택된 방사선 보호 물질은 비독성적이며 부작용이 전혀 없다. □ 적용 분야 환경 보호 의약 농업

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2009-02-20
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다목적 용의 기능성 난방 소재

□ 기술개요유사 니크롬과 오옴 저항을 지닌 붕소화물을 기초로 한 분탄(briquette) 및 파우다 □ 의미전기물리적 접근으로 어떠한 형태의 물질을 안전하게 데울 수 있음. 사용된 주요 재료는 절연체 기판에 사진인화와 가열냉각을 이용하여 낮은 온도에서도 쉽게 녹을 수 있는 유리가 함유된 가루반죽이 섞여있다. □ 제품의 장점무진공 기술, 저온 합성, 저렴한 가격의 배합, 전기물리적 방법을 이용하여 정기적으로, 규칙적으로 파우다를 준비할 수 있음.

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2009-02-20
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초소형전자기술(microelectronics) 을 위한 소재

중합시아노아크릴레이트(Polycyanoacrylate)는 단분자 층을 형성할 때 유익한 특성을지니고 있다. Cyanoacrylate 중합반응은 단층 형성 시 물 표면에 직접적으로 스며들어기술 과정 자체가 단순해 진 결과를 낳았다. 물 분자와 상호작용하여 낮은 에너지를 생성하는 Cyanogen(가연성 유독가스)는 딱딱한 기질(基質)의 단층 전이를 잘 공급하여 준다. 중합시아노아크릴레이트(Polycyanoacrylate)막은 친수성(親水性)을 뛰는 것 같이 표면 위에도 친수성을 뛰어 강력한 접착을 이루어낸다. 분자 구조 내 단층과 단층 사이의구조의 횡단 Cross-link는 메커니즘 구조를 높여 주며, 생성될 소재의 온도 안정성을 공급하여 준다. 중합시아노아크릴레이트(Polycyanoacrylate) LB막은 사진과 전자빔 저항에 이용되어 왔다.

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표면 결점 측량을 위한 광전자 공학 시스템 레이다

□ 기술개요시스템은 원자력 발전소의 연료 엘리먼트의 표면의 결점의 깊이 그리고 프로파일의 자동 비접촉 측량을 위해 설계되어진다. X × Y 측량범위 2.3 × 2.3 mm 깊이 해상도 < 2 μm 깊이 Z에 측량 범위 ≤ 10 mm 측량시간 < 15 s (depth 50 μm) 기기술술적적 세 세부부설설명명 Optoelectronic system "RADAR" for surface defect measurement "Mark" defect □ 기술적 평가 및 경제적 이점 ● 짧은 측량 시간. ● 측량 결과는 모니터에 나타난다- 3차원 모델 결점의 개략 - 깊이 isolines 지도 - 측정한 결점 매개변수의 평가를 허용하는 선택된 지상 단면의 프로파일 ● 측정된 결점의 단면도는 더 많은 연구를 위해 데이타베이스에서 기록된다. □ 응용분야핵산업

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선대칭 3D 표면 회절 광학 엘리먼트의 합성을 위한 LASER GENERATOR OF IMAGES

□ 기술개요이미지(LGI) 레이저 제너레이터는 평면광학의 엘리먼트를 위한 정밀도 크롬 마스크나 마스터 디스크의 합성을 위해 설계 되어진다. LGI의 가동 원리는 크롬 필름에 있는 미래 광학적인 엘리먼트의 포토마스크의 숨겨진 이미지의 형성에 근거를 둔다. Workpiece diameter 제품 직경 20…300 mm Spatial resolution 공간 해상도 Up to 1000 lines/mm Linear resolution 선 해상도 Better than 10 nm Angular resolution 각 해상도 Better than 0.25" Range of Z displacement Z 변위 범위 Up to 25 mm Autofocusing error 오토포커싱 에러 ± 0.05 μm Light-sensitive layer 빛 민감 레이어 Chromium film, photoresist Material 원료 Glass, quartz □ 기술적 세부설명 □ 기술적 평가 및 경제적 이점 LGI에는 큰 작동 필드, 고해상 및 효율성이 있다; 그것은 간단함과 저렴한 기술등이 두드러지며 정밀원형스케일과 1""보다 적은 에러의 림스, 360,000까지의 소수, 18까지 2진 숫자의 수를 가진 멀티비트 변환기 ""앵글코드"", 회절 광학적인 성분 (선형 구조를 가진 임의 기하학의 선대칭, off-axis), 마이크로 공학의 단위 및 엘리먼트를 허용한다. □ 응용분야● 물리광학 ● 계기공학 ● 컴퓨터공학 ● 마이크로공학

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2009-02-20
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플러그의 기하학적인 매개변수의 측정을 위한 만능시스템 GRAD-2

□ 기술개요""Grad 2"" 시스템은 회전체유형의 물품들의 기하학적인 매개변수의 비접촉 측량을 위해 고안되어졌다. □ 기술적 세부설명 ● 표준 컴퓨터를 이용한 디자인 시설들 (예를들면, AutoCAD)로 고안된 드로잉에서 물품의 기하학적인 매개변수의 측량을 위한 자동 조정. ● 오퍼레이터를 위해 적절한 형태에서 측정된 매개변수의 물품과 표시도수의 기하학적인 치수들의 자동적인 검사 ● 기하학적인 치수들의 수동 측량 ● SUBD 형태에 있는 통계정보, 접근, 마이크로소프트 Office 97의 누적; 정보 처리(예를 들면, 측정된 로트, 일간 혹은 월간 산출 등)와 검사 결과와 통계자료의 프로토콜 이슈잉. ● 시스템 자가 테스트 기술적 평가 및 경제적 이점 시스템은 품질검열, 디자이너, 생산엔지니어 및 계기측량 검열의 4개의 자동작업장으로, 설계되어 진다. 시스템은 컴퓨터를 이용한 설계 시설들을 가진 드로잉 컴포넌트에 의해 측정한 리스트를 확장할 수 있다. 드로잉은 특별프로그램을 사용하게 하고 측량 알고리듬 개발을 위해 이용된다. 검열한 제품 매개변수에 명백한 정보가 생산 기술 조정하고 검열하는데 있어 생산 엔지니어의 없어서는 안 될 필요 도구가 되게 한다. □ 응용분야회전체처럼 물품의 기하학적인 매개변수의 검사를 위한 다기능 정보와 측정 광전자 공학 시스템은 몇몇 자동화된 작업환경의 소프트웨어 프로그램에서 이용되기 위하여 설계되어 진다. 시스템은 원통 모양 부속 ( 4μm보다 많지 않은 에러와, 1에서 13 mm에 직경 범위) 및 길이 (40μm 보다 많지 않은 에러와 0.5에서 60 mm에 범위) 그리고 콘 앵글 (0.5° 보다 많지 않은 에러) 측량을 제공한다. □ 개발 단계 기업들 중 한 곳에서 시험 가동 중에 있다. 안내견본 및 기술적인 문서는 유효하다.

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연료 성분 PARAMETRES의 산업적 치수 검사를 위한 광전자 공학 시스템 BLIK-2

□ 기술개요시스템은 전력발생 시스템에서 연료성분(TVEL)의 기하학적인 매개변수의 자동 무접촉 검사를 위해 개발 되어졌다. 그 시스템은 다음을 제공한다. ● 측정치의 표시 및 데이타베이스에 있는 측정된 매개변수의 저장을 포함하는 기하학적인 매개변수의 자동적인 측량; ● 오퍼레이터에 의해 선택된 단면에 있는 수동 모드에 있는 기하학적인 매개변수의 측량 ● 측량의 가공은 (예를들면, 검열된 로트, 교대 또는 매달 산출등의 범위내에서)검사와 통계 자료의 판독으로 나타난다; ● 프로토콜 이슈로 다수 표준 회사 측정자들에 의한 시스템의 도량형 검사; ● 시스템 자가테스트 □ 기술적 세부설명 검사 효율성은 시간 당 200의 품목이다. 다른 설명서의 유사한 시스템은 고객과의 계약에 따라 제조되어 질 수 있다. 측량범위(mm) 허용가능 에러(μm) 외부 지름(Ouside diameter) 길이(Length) 돌출부 높이와 용접된 조인트 할로우 깊이 (Protrusion height and welded joint hollow) □ 기술적 평가 및 경제적 이점 시스템은 독립적인 품질 검사 작업환경으로서 고안되어졌다. 그것은 측정 단위와 별도로 시스템 내 제품 대체를 위한 이동 메카니즘 뿐만 아니라 검사된 물품들의 선적과 품질과 거절된 제품의 하적의 슈츠를 포함한다. 검열된 제품 매개변수에 명백한 정보가 그 시스템이 생산 기술을 조정하고 검열하는데 있어 생산 엔지니어의 필수 도구임을 보여준다. 인간 공학적으로 설계된 그 시스템과 그것의 현대적, 사용하기 쉬운 소프트웨어 인터페이스는 오퍼레이터의 피로를 감소시키고 검사 효율성을 증가시킨다. □ 응용분야핵 산업 사업

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8-12 μM의 스펙트럼 범위를 위한 128Х128 매트릭스 광검출기 ARRAY

□ 기술개요매트릭스 광검출기 array는 인듐 칼럼에 의해 연결된 광검출기 매트릭스와 실리콘 판독장치 (다중화기)로 이루어져 있다. □ 기술적 세부설명 스펙트럼 범위(μm) : 8-12 작동 온도(K) : 78-80 센서기 형태 : 128х128 센서기 피치(Pitch of sensors, μm) : 35-40 최대 스펙트럼 감도 파장 (Λm), μm : 10.0±0.5 특정 검출 성능 D* Λm (Тph=300 K, 20=300), cm×Hz1/2 х W-1 : 3×1010 이상 온도 솔루션(Temperature resolution, K) : 0.02 초당 프레임 주파수 : 30 이상 작동 센서 수(%) : 95 이상 사이즈(mm) : 7.8×8.7 □ 기술적 평가 및 경제적 이점 IR 이미지에 매트릭스 광검출기 array의 적용은 비슷한 목적으로 고안 된 단 하나의 선형광검출기 array에 비교될 때 그 이미지의 추가적 기계적인 스캐닝을 삭제한다. 이것은 상응하는 IR 이미지의 무게와 크기를 크게 감소시킨다. □ 응용분야매트릭스 광검출기 array는 군사적 응용, 약, 전력공학, 지상, 하늘 및 물 수송, 야금술 및 석유 화학 산업 및 토목 공학에서 이용되는 IR 이미지를 위해 고안되어 졌다. □ 개발 단계 실험실 견본은 유효하다.

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2009-02-20
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반도체 에피택셜 구조

□ 기술개요각종 구조체에 매우 깨끗한 고품질의 얇은 에피택셜 반도체 필름 (질화물을 포함한 Si, Ge 및 III-V 화합물)은 성장된다. 1. 필드 준비를 위한 n-AlGaAs GaAs 헤테로시스템을 토대로 2차원 전자가스 및 8 -150 GHz의 범위를 가진 양극 초고주파 및 저잡음 트랜지스터를 가진 선택적으로 약물 처리된 다중층 반도체 구조. 2. 0.85-1.00 μm의 (MHS) 파장에 표면 레이저 제조를 위한 GaAlAs/InAlAs/GaAs 근거 한 다중층 헤테로에픽택셜 구조. 3. 4 -12μm 파장에 작동하는 광검출기를 제조하기 위한 Ge Si 헤테로 구조체를 토대로 하는 MHS. 4. 2 -20 μm 파장에 작동하는 광검출기 제조를 위한 AlGaAs/GaAs 헤테로 구조체를 토대로 하는MHS 5. 블루그린 범위 (500 nm)의 단파 발광 장치를 위한 제3그룹 금속의 질화물 반도체 필름. 6. 높아진 온도에 작동하는 광검출기와 강력한 고주파 트랜지스터 제조를 위한 GaN/AlN/Al203 이질 접합을 토대로 하는 MHS. 7. 저온에 작동하는 트랜지스터를 위한 실리콘 구조체. 8. ""다공성 실리콘의 실리콘("silicon on porous silicon")"" 구조체 (사파이어 실리콘("silicon on sapphire") 구조의 아날로그) 9. 새로운 장치의 연구와 개발을 위한 콴탐 사이즈(quantum-sized) 성질을 가진 반도체 나노스트력쳐에 기초한 MHS. □ 기술적 평가 및 경제적 이점 엔지니어링 솔루션, 최고 운영 매개변수 및 저가의 참신한 제품. □ 응용분야마이크로-, 광전자공학, 레이저 시스템, 원거리 통신, 위성 텔레비전 등의 요소

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천연산물과 산업용품의 빠른 분석과 품질 감시를 위한 NMRMICRO 장치

□ 기술개요실험실이나 현지 환경 안에서 적용할 수 있는 휴대용 자동화 핵자기 공명 (NMR) 분광계는 바위 견본, 습도 측량이나 불소함유 화합물 (형석등)의 분석을 연구하면서 천연 흡수제 (비석, 실리카겔, 롬, 무기물등)의 빠른 특성과 품질 감시를 위해 특별히 고안되어졌다. 새로운 접근은 페이즈 분석의 문제를 해결하고 다종 혼합물내의 흡수제를 분석하기 위해 이용된다. □ 기술적 세부설명 작동 주파수 MHz 12-15 주파수 테스트 범위 kHz 200 조사관 직경(mm) 9 공용영역 RS 232 전력공급(ac, V, Hz) 220, 50 d.c., V 6-24 최대전력소비(W) 6 컴퓨터를 뺀 최대 무게(kg) 2 □ 기술적 평가 및 경제적 이점 ● 큰 NMR 대역폭(비석, 형석등)을 가진 대상 분석에서 맥박 아날로그에 비교하여 고능률 ● 낮은 전력 소비(6 W) ● 낮은 비용(5000 USD) ● 휴대가능(weight of 12 kg) ● 현장 환경에서의 가동 가능성 ● 분석의 다른 방법에 비교하여 정확도의 동일한 수준에서, 장치는 원료 품질의 빠른 측정을 위한 도구로서 경쟁 우위에 있다. ● 일반적인 측량 시간 3-9 분. □ 응용분야천연 흡수제의 존재 및 그들의 기본적인 매개변수 (흡착 활동, 등등)의 측정 진단. 물 용량의 측정, 유공성, 미소 균열 및 바위 견본에 있는 양성자 함유 액체의 함유량과 상태. 습도 측량. 장치는 산업, 농업, 연구 및 교육에서 적용될 수 있다.

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전기 용량 출력에 의해 여기상태가 되는 효과적인 EXCILAMPS

□ 기술개요Excilamps는 excimer나 exciplex 분자의 감퇴로 인해 자연 발생하는 자외선 복사의 전기 출력 소스들이다. 방출 스펙트럼은 1개의 또는 몇몇 소폭 띠들로 이루어져 있고, 최대 띠는 선택되어 진 활동 분자의 방출에 상응하는 파장에 있다. KrCl*, XeCl*, XeI* 및 XeBr* 분자의 파장은 아래에 열거되다. KrCl* XeI* XeBr* XeCl* 222 nm 253 nm 289 nm 308 nm 출력의 각종 유형들은 excilamps를 위해 이용된다. 전기 용량 출력에 의해 여기상태가 되는 Excilamps는 러시아 과학 아카데미의 Siberian Branch의 High Current Electronics 학회의 광학적인 복사 실험실에서 처음으로 개발되어 졌다. □ 기술적 세부설명 ● 간단한 구조 (원통 모양이나 U 자 모양) ● 고출력 매개변수 (전원 입력의 25%까지 효율성에 10 W까지 복사력 의미); ● 좁은 복사 대역폭 ● 소형 사이즈(up to 50 cm) ● 긴 수명 (천 시간 이상) Excilamps는 생태학적으로 위험한 수은을 포함하지 않는다; 그러므로, 전통적인 수은 램프의 이용과 달리 서비스에서 빛 소스의 활용은 안전한 절차가 된다. □ 응용분야● 각종 오염물질의 파괴 (석탄산과 페놀류); ● 식용수의 살균 ● 환경과 식료품(유독한 성분의 존재)의 질 분석 Excilamps는 또한 다음과 같은각종 사진 제판법을 위하여 이용될 수 있다. ● 얇은 금속 필름의 석출 ● 무조직 반도체의 석출 ● 얇은 절연성 층의 석출 ● 중합체의 사진 에칭 ● 유기 물질의 저온 산화 □ 개발 단계 실험실 견본은 유효하다. KrCl, XeCl, XeI 및 XeBr excilamps의 견본은 개발되고 시험되었다.

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폐쇄 전자 편류를 가진 가속기 원리의 선형 IONPLASMA SOURCES

□ 기술개요폐쇄 전자 편류를 가진 가속기 원리의 선형 ION-PLASMA SOURCES는 코팅 증착 이전에 코팅 증착 과정에 도움을 주는 이온을 위해 큰 기판(특히, 건축 유리)의 끝마무리를 위해 고안되어졌다. 이온 플라스마 소스의 구조는 이온 유출 조밀도의 높은 균등성을 지킨다. □ 기술적 세부설명 공급전압 V 600 - 1000 선전류조밀도(Linear current density, A/m) Up to 2 가동전압범위(Operating pressure range, Pa ) 0.05 - 0.3 냉각 water 길이(m) Up to 2.5 □ 기술적 평가 및 경제적 이점 장치의 눈에 띠는 특징은 낮은 운영 전압에서 절연성 기판 청소의 효율성을 증가하는 추가 빈 음극선 출력의 사용이다. 소스 가동은 작동 공간에 폐쇄 편류 가속기에 의해 형성된 빈 음극선 출력량 플라스마 및 이온 교류의 동시 존재가 특징이다. 이온빔 에너지는 이온 청소와 이온 원조를 위해 최적인 200 - 400 eV에 도달한다. □ 응용분야장치는 각종 물자 및 물품의 표면의 이온 플라스마 수정의 기술에서 사용될 수 있다. 주요 목적은 코팅 증착 과정에서 도움을 주는 코팅과 이온의 적용 이전의 표면 청소 및 에칭이다. 절연성 기판에 단단한 탄소로 이루어진 코팅의 적용을 위해 이온 플라스마 소스 사용의 전망이 설명된다. 이온 전류 (±4% 안에) 선밀도의 높은 균등성은 소스가 마이크로 전자공학에서 사용될 수 있도록 한다.

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LOZA 단일주파수 연무질 정사 라이더

□ 기술개요LOZA 시리즈 라이더는 대기권에 있는 연무질의 대량 농도의 순간 원격 모니터링를 위해 고안되었다. □ 기술적 세부설명 등록입자 지름 0.5-5.0 μm 측량범위 2-8 km 공간적 해상도 better than 5 m 펄스 지속 10 nsec 망원경 안테나 직경 0.3 m 전력소비 2 kW □ 기술적 평가 및 경제적 이점 LOZA 라이더는 유럽(EARLINET)과 아시아(AD-NET) 라이더 네트워크에서 사용되는 기 구사용에 대한 모든 요건을 충족한다. □ 응용분야LOZA 라이더는 다음에서 사용되어진다. ● 대류권에 연무질 구조 진단 ● 공항의 항공 기상 대책 ● 산업 센터에 연무질 오염 모니터링

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2009-02-20
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고해상도 LIGHT-SCATTERING(빛 분산) 분광계

□ 기술개요고해상도 빛 분산 분광계는 microobjects의 몇몇 특성을 동시에 측정하게 가능하게 한다. 이 분광계 자료의 컴퓨터 분석이 개별 입자의 작동 특성에 관하여 정보를 산출하고 개별적인 microobject의 이미지를 만들어 낼 수 있게 된다. 이는 의학에 있어 기본적이고 응용되는 연구를 위해 유일한 장치가 되는 것이다. □ 기술적 세부설명 복사 파장 - 0.63 μm 복사력 - 1 mW 레이저의 수 - 2 분사 상태 - Single-particle, multiparticle 측정부피 - 300х100х100 μm3 분광해상도 - ≤1015 분석 매체 - Liquid 측정시간 -1-10 min 전력공급 - 220W, 50 Hz 전력소비 - 500 W 크기 - 550 х 200 х 220 mm; 무게 - 10 kg. 제품유형: device. □ 기술적 평가 및 경제적 이점 ● 0.01 μm에서 100 μm에 측정된 범위 입자 크기 ● 장치의 높은 분광해상도와 감도는 다양한 물질계, 예를들어 1 이하 μm/s의 미립자들의 아주 낮은 속도 측량을 할 수 있게 한다. ● 분광계는 운동성 미생물을 탐지하고, 인식해서 확인하여 전통적인 생물학 노동 소모 방법의 사용 없이 생물체와 무생물체를 구별할 수 있다. □ 응용분야이 분광계는 다음의 경우에서 사용되어진다. ● 의료진단 ● 환경감시 ● 과학연구 ● 미생물학

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946 NM에 다이오드 펌핑방식의 조율 가능한 단일주파수 ND: YAG 진행파 레이저와 내부공진기방식 주파수 배증

□ 기술개요1064/532 nm의 레이저(내부공진기방식 주파수 배증을 이용) 및 온도 조정 □ 기술적 세부설명 1W/10mW에서 50/200 MW에 범위에 있는 1064/532 nm에 출력 전력에 따른 다양한 변형 펌핑 힘(Pumping power) up to 3 W 모드 구성(Mode composition) TEM00q 1064nm에 출력 방사의 분극 linear 선형 532nm에 출력 방사의 분극 linear 선형 (1064에 관하여 450의 각도) 레이저의 자유 분산 지역 ∼ 2.5 GHz 자유 모드의 복사 대역폭 ∼ 10 kHz 출력 매개변수 압전기 운반 장치로 인한 주파수 통제 Sensitivity of PZT - 1 PZT - 1의 감도 ∼ 1 MHz/W Bandwidth up to 30 kHz 30 kHz까지의 대역폭 Sensitivity of PZT - 2 PZT - 2의 감도 ∼ 10 MHz/W Bandwidth up to 1 kHz 1 kHz까지의 대역폭 방사 주파수의 온도 조정 350 GHz까지 조정 범위. 조정비율 - 20 GHz/0С. 크기 300х170х100 제품 유형: device □ 기술적 평가 및 경제적 이점 자유 모드에 있는 좁은 복사선, 주파수 조정의 가능성 □ 응용분야분광학 도량형학

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2009-02-20
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946 NM에 다이오드 펌핑방식의 조율 가능한 단독주파수 ND: YAG 진행파 레이저

□ 기술개요(내부공진기)방식 복굴절 온도 조종 여과기의 946 nm 레이저 □ 기술적 세부설명 946 nm에 출력 전력(Output power at 946 nm) up to 250 mW 펌핑 힘(Pumping power) 2×2 W, 2×3 W 모드구성(Mode composition) TEM00q. 946nm에 출력 방사의 분극(Polarization of output radiation at 946 nm) linear 선형 레이저의 자유 분산 지역(Free dispersion area of the laser) ∼ 2.5 GHz. 자유 모드의 방사선 대역폭(Radiation band width in free mode) ∼ 10 kHz. 압전기 운반 장치로 인한 주파수 통제 PZT - 1의 감도(Sensitivity of PZT - 1) ∼ 1 MHz/W. 30 kHz까지의 대역폭(Bandwidth up to 30 kHz.) PZT - 2의 감도(Sensitivity of PZT - 2) ∼ 10 MHz/W. 1 kHz까지의 대역폭(Bandwidth up to 1 kHz.) 방사 주파수의 온도 조정 조정 범위(Tuning range) up to 250 GHz. 레이징 주파수 변화 비율(Lasing frequency change rate) - 20 GHz/0С. 크기(Dimensions ) 350х230х100 제품 유형: device. □ 기술적 평가 및 경제적 이점 기존하는 외국 아날로그와 달리, 레이저는 온도 조종을 위해 복굴절 여과기의 사용으로 인해 10배의 조정 범위를 가지고 있다. 인터모드 범위로의 레이저 주파수의 빠른 조정은 레이저 조절에 추가적인 편의를 주는 2개의 압전기 운반 장치에 의해 실행된다. □ 응용분야분광학 도량형학

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실온 자외선 스토캐스틱 레이저용 나노결정 물질

스토캐스틱 레이저(렌덤 레이저)는 신유형의 레이저이다. 강력 무질서 산란 물질(파우더, 다결정질 필름 등)은 이 레이저의 활성 매체이다. 고도 무질서 이득 매체(disordered gain media)에는 빛의 폐루프 경로가 순환 산란에 의해 형성될 수 있다. 이 현상은 기존 레이저 공동에서 나타나는 효과와 유사한 효과를 줄 수 있다. 산화아연 ZnO은 와이드밴드갭 반도체(DE ~ 3.37 eV)이고, 독특한 전기적, 기계적, 발광 성질을 가진다. 산화아연은 실온에서 자외선을 얻기위해 주로 사용된다. 고도의 광학적 성질(열수 합성 및 고온 열분해)을 가지는 물질을 기반반으로 나노 및 마이크로 결정 산화아연을 합성할 수 있는 방법이 개발되었다. YAG:Nd레이저(l=355 nm, t ~ 4 ns)의 3차 고조파에 의한 여기(excitation)에서 로우 스레쉬홀드 자외선 발광이 실온에서 합성 무질서 산화아연 파우더와 코팅에 기록되었다. 스레쉬홀드 펌프 강도의 최소값은 0.55 mJ/cm2였다. 발광 스펙트럼은 분명한 모드 구조, ~0.2nm의 반최대 발광 라인의 전폭, 0.55-0.65nm인 인터라인 거리가 특징이다.

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(재)송도테크노파크
등록일
2009-02-20
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고효율 플라즈마 생성기

□ 기술개요많은 독창적인 설계로 인해 고 효율 및 신뢰도 있는 성능을 보유한 단실 플라즈마 생성기(one-chamber plasma generator)의 기기구성이 완료되었다: (i) 최대 아크 압력과 방전 챔버로부터 효과적르로 가스를 제거하여 촉진된 원주압 차이를 증가시키는 동시에, 강력한 소용돌이식 플라즈마 형성 가스를 방전 간극에 주입함으로써 얻어지는 플라즈마 아크의 효과적인 안정성; (ii)몸체 벽에 의한 열 제거 증가; (iii) 가열된 플라즈마 형성 가스의 주입. □ 기술 평가 및 경제성 플라즈마 생성기는 다음을 가능하게 해 준다. ● 방전 플라즈마 안정성의 효율 증대 ● 플라즈마 형성 가스의 고속 주입으로 작동 신뢰도 향상 ● 플라즈마와의 접촉 시 벽에 있는 증발성 물질에 의한 플라즈마 오염 감소 ● 원주압 차이로 인한 축 위 좁은 플라즈마 기둥을 따라 방전 처리 과정이 집결됨 □ 응용분야금속의 플라즈마 아크 절단

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(재)송도테크노파크
등록일
2009-02-20
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전자-빔 분말 야금술

□ 기술개요전자 빔 분말 야금(EBPM) 설비는 사전 진공식(5-10-³mmHg)이나 화학적 활성 매체에서 작용하는 핫캐소드(hot-cathode)보다 수명이 2등급 높은 전자 빔 플라즈마 총을 기반으로 하여 개발되었다. EBPM 기술의 새로운 특징은 품목 내에서 직접 전자 빔을 사용한 분말야금과 고전 마이크로야금의 동시 처리공정을 포함한다. 빔 내 고전력 밀도(10⁴÷105 W/cm²), 빔 에너지 파라미터의 실시간 제어, 그리고 용융조(10÷20 mm³)의 작은 부피는 욕조의 필수 온도와 그 가열 및 냉각 속도의 적절한 광범위 변화에 의한 처리공정을 제어할 수 있도록 해 준다. 더욱이 감온성 혼합 분말의 사용으로 미소체적 내 전자 빔에 의해, 그리고 합성물을 사용하여 소결시키는 액상 처리 공정에 의해, 자전 합성(self-propagating synthesis)이 가능하다. 이러한 특징들은 임의 합금 또는 형상을 가진 재료 위로 층간 및 경사 코팅을 포함하여, 분말 코팅의 다양한 기능적 특성이나 임의 두께를 가진 코팅을 고려했을 때 EBPM 기술을 보편적으로 만들어 주는 역할을 한다. □ 기술 명세 작업실 압력 5*10-¹Pa 가속 전압 up to 30 kV 전자 빔 전원 1 ÷ 3.5 kW 정격 출력8 kW전력 소비,% 100 코팅 속도 6 ÷ 10 g/min 코팅 품목 길이 up to 800 mm □ 기술 평가 및 경제성 본 EBPM 기술을 사용하여 임의 두께를 가진 새로운 경사 전기-접촉 코팅을 얻고 그 화학 구성 물질, 구조 및 기본 특성(경도, 내마모성, 내열성 등)을 광범위 내에서 의도적으로 변화 시킬 수 있다. 본 EBPM 기술은 다음을 가능하게 해 준다. ● 코팅 재료로부터 휘발성 물질의 방출 ● 액체 금속조(liquid-metal bath)의 신속한 결정화로 코팅 구조 개선 ● 침전 분말 활용 극대화 ● 코팅 품목 수축 및 좌굴 최소화 ● 코팅 다공성 최소화(< 0.5%) ● 코팅 두께 확대(20 mm 까지) ● 환경적 안정성 □ 응용분야● 트랙터 공학(크랭크축, 캠축, 밸브, 피스톤, 리프터, 버킷 코그(bucket cog), 불도저 주형 등) ● 야금학(송풍구, 주형, 열간 및 냉간 압연을 위한 롤러, 버트-앤드 개스킷(butt-end gasket)) ● 전력 공학(고전압 스위치 전극, 스팀 및 가스터빈 날, 스톱 밸브) ● 채광(드릴 도구, 축, 막대, 슬라브관, 분쇄 장치 작용 요소) ● 석유 산업(스톱 밸브, 열전대 커버) ● 철도 및 선박 운송 ● 기계 제작 ● 항공기 및 로켓 제작

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(재)송도테크노파크
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2009-02-20
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품목 및 장비 위로 보호, 경화, 변형 코팅 침착을 위한 전기-스파크 합금 장비, ES-4M

□ 기술개요본 ES-4М 장비는 전기-스파크 합금화를 이용해 장비 날인과 도구 절단 이외에도, 기계 및 부품의 표면 위로 경화, 내마모, 보호, 이형 코팅을 침착시키기 위해 고안되었다. □ 기술 명세 본 장비는 50 Hz의 주파수, 220 V의 교류 전류를 가진 단상 회로 상에서 작동한다. 전력 소비는 400 W 미만이고 무게는 12 kg미만이다. 전기 스파크 합금화를 위한 휴대용 장비 □ 기술 평가 및 경제성 전기 스파크 합금화를 위한 휴대용 장비의 응용은 품목들의 내마모성을 증가시키고 표면을 재생시킴으로써 재료를 절약해 주고 재생된 표면을 갖는 품목의 수리 및 유지 기간을 단축시킴으로써 장비의 검사 기간을 연장시켜 준다. 다른 재생 및 수정에 비해 주요한 이점은 휴대가 가능해 현장에서 바로 사용되도록 설치할 수 있으며 직원들로 하여금 고도의 기술을 요구하거나 장기적인 훈련을 필요로 하지 않는다는 점이다. □ 응용분야작동 상태, 전극 재료 및 소재에 따라서 본 장비는 베어링의 장착면 위로 다층 이형 코팅의 침작을 포함하여, 150 μm 두께에 달하는 표면을 수정할 수 있다. 예를 들면, 본 장비는 내연 기관 또는 전기 엔진 내 포켓 축 위의 장착면 재생, 크레인 및 운송 자동차 내 브레이크 드럼 위의 내마모성 코팅을 가능하게 한다. 또한 농업분야에서는 잔디 깎는 기계, 사료 분쇄기, 가지 치는 기계, 경운기 등의 날을 강화시키는데 사용할 수 있다.

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(재)송도테크노파크
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2009-02-20
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