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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

나노 복제 성형 적용을 위한 나노 스탬프 제작 기술

노하우 기술명 : 나노 복제 성형 적용을 위한 나노 스탬프 제작 기술(Nanostamp Technology for Nanoreplication)기술개요 :고밀도 정보저장매체, 디스플레이, 바이오, 광전 소자 등 나노패턴을 가지는 제품의 중요성이 급격히 증대됨에 따라 이를 제품화할 수 있는 기반기술 개발의 중요성이 대두되었다. 나노 복제 성형 기술은 이러한 다양한 나노 소자의 저가 양산에 가장 적합한 나노 가공 기술이다. 본 기술 이전의 노하우는 나노 복제 성형 기술에서의 핵심적인 요소 원천 기술인 투명 나노 스탬프 및 금속 나노 스탬프 제작에 관한 기술이다. 우선, 투명 나노 스탬프 제작을 위해서는 폴리머 나노 복제 기술, 폴리머 나노 소재 기술, 폴리머 스탬프의 이형 특성 향상을 위한 폴리머 재료의 표면 처리 및 이형 특성 향상 기술 등이 포함된다. 또한, 금속 나노 스탬프 제작 기술은 폴리머 마스터 제작 기술, Seed layer 증착 기술, 및 나노 전주 공정 기술 등이 포함된다. 주요특징 및 기대효과 :나노 소자 관련 기술에 대한 관심과 이에 따른 기술 개발의 활성화에 따라 초정밀ㆍ 대용 량ㆍ 초고속을 요구하는 산업에서는 나노 패턴을 요구하는 제품의 수요가 계속해서 증가할 것이며, 이에 대한 나노 복제 성형 기술이 계속하여 요구될 것으로 예상된다.본 나노 스탬프 제작 기술을 통해서 수십~수 나노 미터급 나노 복제 성형 기술을 향상시킬 것으로 기대되며, 이를 통해서 다양한 광전 소자 및 초고밀도 나노 스토리지 소자의 상용화가 가능해 질 것으로 기대된다. 특히, 수십~수 나노 미터의 극 미세 패턴을 지니는 대면적 나노 소자의 양산화 및 상용화를 가능하게 할 것으로 기대된다. 나아가 나노 복제 성형을 위한 나노 스탬프 제작 기술을 확보하고 이를 기반으로 나노 소자 제작기술을 확보함으로써 다양한 응용제품의 양산화를 이룩하고 나노 사업을 활성화시키며 향후 나노 기술 관련 경쟁력을 확보 할 수 있을 것으로 기대된다.

보유기관
연세대학교
등록일
2007-12-28
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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

금속산화물 함유 나노활성탄소섬유의 제조방법 및 그로부터 수득되는 나노활성탄소섬유를 이용한 슈퍼 캐패시터용 전극

본 기술은 고분자용액에 금속산화물의 분말을 첨가하여 방사조성물을 만들고, 이를 나노섬유로 방사한 후, 수득되는 나노섬유를 안정화, 탄화 및 활성화시켜 슈퍼 캐패시터용의 전극 등으로 사용하기에 적절한 전기적 특성을 갖도록 한 금속산화물 함유 나노활성탄소섬유의 제조방법 및 그로부터 수득되는 나노활성탄소섬유를 이용한 슈퍼 캐패시터용 전극에 관한 것 으로서, (1) 폴리아크릴로니트릴(PAN ; Polyacrylonitrile), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA ; Polymethylmethacrylate), 폴리에틸렌옥사이드(PEO ; Polyethylene oxide), 폴리비닐디플루오라이드(Polyvinyldifluoride), 폴리피롤(Polypyrrole) 들로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 유기고분자물질 7.5 내지 15중량%를 디메틸포름아미드(DMF ; Dimethylformamide), 테트라하이드로퓨란(THF ; Tetrahydrofuran), 감마부티로락톤(GBL ; γ-butyroractone), N-메틸피롤리돈(N-Methyl pyrrolidone), 톨루엔(Toluene), 아세톤(Acetone), 디메틸아세트아미드(DMAc ; Dimethyl acetamide) 또는 이들 중 2이상의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 용매 85 내지 92.5중량%에 용해시켜 고분자용액을 수득하는 용해단계; (2) 이산화망간(MnO2), 산화루테늄(RuO2), 이산화티탄(TiO2), 산화이리듐(IrO2), 산화탄탈륨(TaO2) 들로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 금속산화물 8 내지 20중량%를 상기 고분자용액에 분산시켜 방사용액을 수득하는 분산단계; (3) 상기 방사용액을 방사시켜 나노섬유를 수득하는 방사단계; (4) 상기 나노섬유를 질소분위기 하에서 700 내지 900℃의 온도범위로 30 내지 90분 동안 가열, 탄화시켜 나노탄소섬유를 수득하는 탄화단계; 및 (5) 상기 나노탄소섬유에 수증기를 공급하면서 700 내지 900℃의 온도범위로 50 내지 70분 동안 가열시켜 나노활성탄소섬유를 수득하는 활성화단계;를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.*기술성- 본 기술은 나노섬유를 안정화, 탄화 및 활성화시켜 슈퍼 캐패시터용의 전극 등으로 사용하기에 적절한 전기적특성을 갖도록 한 금속산화물 함유 나노활성탄소섬유 제조기술로 기술적 가치가 매우 높음*시장성- 이차전지와 캐패시터 부품 수요는 산업 및 통신 발전과 더불어 국내 시장의 성장속도는 클 것으로 예상됨- 향후 충분한 수요처 확보는 가능할 것으로 보여 사업화 및 제품화 가능성이 높을 것으로 판단됨

보유기관
한국생산기술연구원
등록일
2007-12-28
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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

나노 구조 코팅용 타켓 제조공정 및 그 제품

본 발명은 타겟 제조공정 및 그 제품에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고속용 가공공구에 사용되는 스퍼터링이나 아크 이온 플레이팅용 타겟 개발을 위한 나노 구조 코팅용 타겟 제조공정 및 그 제품에 관한 것이다.이를 위해, 원료 분말과 볼을 일정 비율의 장입비로 혼합한 후 기계적 합금화 공정을 수행하여 원료 분말 내부에 Ti, Al, Si 원소를 일정하게 분포시키는 동시에 분말 내부의 결정립을 나노 크기로 미세 입자화하고, 미세 입자화한 원료 분말을 투입 한 후, 스파크 플라즈마 소결공정을 수행하여 원료 분말 내부에 Ti, Al, Si 원소를 일정하게 분포시키는 동시에 분말 내부의 결정립을 나노 크기로 미세 입자화한 상태의 소결체를 형성하여 타겟을 제조하는 것을 특징으로 한다. 상기한 구성에 따라, 기계적 합금화 공정과 스파크 플라즈마 소결공정을 통해 원료 분말 내부의 결정립을 나노 크기로 미세 입자화할 수 있고 분말을 균일한 크기로 확보할 수 있으며, 원료 분말 내부에 Ti, Al, Si 합금 원소를 균일하게 분포할 수 있게 됨으로써, 물성이 우수한 Ti-Al-Si 합금 소결체를 제조하여 고속용 가공공구의 차세대 나노 구조 코팅 재료로 사용할 수 있는 효과가 있다.

보유기관
한국생산기술연구원
등록일
2007-12-28
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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

듀얼 작동구조를 갖는 나노 스테이지장치

본 기술은 듀얼 작동구조를 갖는 나노 스테이지장치에 관한 것으로, 그 목적은 단순한 구성으로서 강성측면에서도 안정된 구조를 갖으며, 스테이지의 전체 영역에 대해서 높은 분해능의 구현이 가능한 듀얼 작동구조를 갖는 나노 스테이지장치를 제공함에 있다. 이를 위한 본 기술은 구동축의 회전에 의해 선형이동 또는 회전이동을 하는 스테이지를 구비하는 나노 스테이지장치에 있어서, 상기 구동축 상에 피에조 엑츄에이터가 설치되어 구동축의 회전 및 피에조 엑츄에이터의 신장에 의해 스테이지가 이동하는 듀얼 작동구조를 구비하는 나노 스테이지장치에 관한 것을 그 기술적 요지로 한다.*기술성- 본 기술은 높은 분해능을 구현함에 있어 구조 또는 강성측면에서 어려움이 따르는 종래기술을 개선시킨 기술로현저한 차별성이 있음- 듀얼 작동구조를 갖는 나노 스테이지장치를 개발하고자 하는 일부 기술을 보유 및 적용한 사례가 있어 국내 개발업체들과 비교하여 기술적 우위를 점하고 있는 것으로 판단됨*시장성- 스테이지 장치는 시장이 형성되어 있는 실정이고, 적용 분야가 다양하여 활용잠재성이 높고 꾸준히 성장할 것이라고 예측되고 있음- 향후 충분한 수요처의 확보는 가능할 것으로 보여 사업화 및 제품화 가능성이 높을 것으로 판단됨

보유기관
한국생산기술연구원
등록일
2007-12-28
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일반기술 화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술

하이브리드 마이크로렌즈 제조 방법 및 이의 방법에 의해 제조된 도광판

본 기술은 도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서, 빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역을 형성하되, 제2 영역 들이 서로 다른 크기 및 형상을 갖는 하이브리드 어레이를 형성하도록 된 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계, 하이브리드 어레이를 형성하는 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 1~4방향의 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 1~4회의 경사 노광과 수직 노광을 실시하는 제2 단계, 경사 노광된 기판을 현상하여 각각은 비대칭 경사기둥 형태를 갖고, 다양한 크기 및 형상으로 이루어지는 하이브리드 포토레지스트 기둥을 얻는 제3 단계, 하이브리드 포토레지스트 기둥들을 리플로우 공정을 통해 만곡시켜 하이브리드 마이크로렌즈 패턴을 얻는 제4 단계, 하이브리드 마이크로렌즈 패턴이 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제5 단계 및 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 하이브리드 마이크로렌즈 패턴이 양각된 도광판을 성형하는 제6 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

보유기관
한국생산기술연구원
등록일
2007-12-29
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