일반기술
물리학 > 기타 광학
이온화 방사의 기록 및 측정을 위해 X-선 스펙트럼 및 X-선 스펙트럴 해석을 이용하는 기술에 대해 서술하였다. 이 기술은 재료 과학, 기계-설치, 지리학, 결정학, X-선 천문학, 생태학, 우주 탐사, 레이저 동력 공학 등에 사용된다. 동급의 알려진 다른 제품과 비교할 때, 이 제품은 최종적인 지능 신호 추출 탐지기의 왜곡이 감소되는 성능을 보이고, 이에 따라 유용한 주위 신호비를 증가시키고, 1회의 X-선 양자 기록에서 발생되는 자외선 광자의 보다 완전한 수집에 따른 광량이 증가되며, 출력 창 발광 균일성과 탐지기의 에너지 분해 안정성이 증가되고, 자율 동작 모드에서 작동 주기가 길어지게 된다.동급의 알려진 다른 제품과 비교시 - 최종적인 지능 신호 추출 탐지기의 왜곡이 감소되는 성능을 보이고, 이에 따라 유용한 주위 신호비를 증가시키고, 1회의 X-선 양자 기록에서 발생되는 자외선 광자의 보다 완전한 수집에 따른 광량이 증가되며, 출력 창 발광 균일성과 탐지기의 에너지 분해 안정성이 증가되고, 자율 동작 모드에서 작동 주기가 길어지게 된다.
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- 특허법인충정
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- 2001-06-13
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물리학 > 레이저 광학(R12)
대형 금속구조물(지지대 및 무선 중계선 안테나, 교량, 선박, 송전선 지지대 등)의 부식 생성물, 다시 말해서 녹, 벗겨진 페인트, 먼지 등을 세정하는 기술로서, 부식 표면 상에서 특별히 선택된 파라미터들의 고에너지 레이저 방사능 효과에 기반하고 있다. 방사선은 부식층을 금속으로부터 분리하고 표면을 정화시키는 플라스마 중심부를 생성하면서 부식층을 투과한다. 잔류물은 종래의 방법에 의해 활용한다.부식 표면 상에서 특별히 선택된 파라미터들의 고에너지 레이저 방사능 효과
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- 특허법인충정
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- 2001-06-14
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
FEL은 평균출력 1Wt 및 20-50 um의 적외선을 제공한다. 낮은 에너지를 사용하므로 설치 및 운잔중의 방사능 오염 위험이 적다.적은 에너지 소모량에 비해 효과적인 레이저 생산가능
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-07-18
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
다파장 레이저 헤드는 4개위 독립적인 레이저빔 채널을 가지고 있어 하나의 레이저 헤드에서 1.06, 1.32, 2.09uM 파장의 다양한 진동수의 레이저를 발생시킬 수 있어 골수또는 연조직의 효과적인 절제나 이들조직의 공간적 또는 표면의 응집을 행할 수 있다. .하나의 WAVEGUIDE를 가진 다파장 레이저 헤드를 사용함에 다라 의학적인 용도가 다양하고, 수술시간을 줄일 수 있다.
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- 특허법인충정
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- 2001-07-18
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일반기술
물리학 > 기타 광학
CO2 레이저에 기반한 대기의 광학적 음향 분석의 자동화 시스템은 완성된 장치 및 프로그램 복합체로서, 허용 농도 한계보다 낮은 농도의 유해 화학 물질을 드러내고 식별하기 위한 것이다. CO-2 레이저 방사에 의한 가스 모듈의 공중 방사율, 광학적 음향 효과의 기록에 기반한 장치 기능의 원리 및 특성은 다음과 같다. 암모니아, 에틸렌, 벤졸, 에틸메르캅탄, 염화 비닐, 트리크로리틸렌(threchlorythylene), 퍼크로리틸렌(perchlorethyllene), 클로로프렌, 에틸알콜(ethylalcohol), 주정(spirit), 아세톤, 프레온, 오존 등의 정의된 물질, 0.0001-0.001mg/m의 최소 발견 농도, 최소 1000C-최대 10000C의 동역학 범위, 9.20-10.84mkm의 스펙트럼 범위 pestraction CO-2 레이저, 최대 6까지의 정의된 혼합물 최대 구성요소 수, 1900*200*240mm의 스펙트럼 블록 치수, 870*510*480mm의 명령 및 등록 블록, 150kg의 중량 등이다. 기술적 폐기 규제, 대기의 생태학적 감시, 식품 폐기물 처리의 초기 발견 등에 적용된다. 본 장치는 완전 자동화되었다. 정보의 명령, 수집 및 처리는 IBM PC로 실행된다. 원래의 프로그램은 다중 구성물질 가스 혼합물을 물리적, 화학적 방법에 의한 사전 분할을 하지 않고 식별하도록 하는 데 사용된다. 분석을 위한 장소로 수송할 샘플 선택은 장치와 함께 제공되는 특수 샘플 선별자에 의해 실행된다.모니아, 에틸렌, 벤졸, 에틸메르캅탄, 염화 비닐, 트리크로리틸렌(threchlorythylene), 퍼크로리틸렌(perchlorethyllene), 클로로프렌, 에틸알콜(ethylalcohol), 주정(spirit), 아세톤, 프레온, 오존 등의 정의된 물질, 0.0001-0.001mg/m의 최소 발견 농도, 최소 1000C-최대 10000C의 동역학 범위, 9.20-10.84mkm의 스펙트럼 범위 pestraction CO-2 레이저, 최대 6까지의 정의된 혼합물 최대 구성요소 수, 1900*200*240mm의 스펙트럼 블록 치수, 870*510*480mm의 명령 및 등록 블록, 150kg의 중량 등의 기술적, 원리적 특징이 있다.
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- 2001-06-29
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물리학 > 레이저 광학(R12)
이 기법은 레이저 발진기, 광학 부품, 대형 통합 배치 라인 등에서 미러의 정밀 표면에 대해 접촉 특성을 제어하기 위해 사용된다. 이 방법에 의해 평판 및 준-평판 표면에 대해 평균 제곱 의미의 제어가 가능하다. 이 장치의 기술적인 특성으로는, 프로브 레이저 펜의 직경은 2-4mm, 표면의 곡률 반경은 600mm 이상, 레이저 방출 파장은 337nm, 원형 측정 시간은 0.65c 이하, 샘플의 주사 단면 영역은 50mm, 샘플의 최대 치수는 160*160mm, 장치의 최대 치수는 1860*650*770mm, 서로 다른 재료의 표면에 대한 장치의 감지 능력의 한계는, 은의 경우 0.18nm, 알루미늄은 0.13nm, 구리는 0.24nm, 철은 0.18nm, 유리는 0.57nm, 실리콘은 0.16nm 등이고, 측정 가능 거칠기의 상한은, 금속의 경우 10nm, 유리의 경우 25nm 등이다. 이 기술의 주요 장점으로는, 다양한 거칠기를 갖는 다양한 재료의 표면 특성을 측정할 수 있고, 산업적인 조명 및 진동 조건에서의 제어가 가능하다는 것이다.
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- 2001-07-04
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
고출력 레이저 설계에서 역적 렌싱 효과와 응력 복굴절 모두를 감소시키는 지그재그 슬랩 레이저 설계를 위한 개선된 저손실 보호 코딩은 레이저 동작의 품질을 줄여줄 수 있다.지그재그 슬랩 레이저의 성능 개선, 간단한 응용을 위한 솔벤트에서의 용해와 제거, 코팅 두께, 전도 냉각
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- 특허법인충정
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- 2001-02-26
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
노란 나트륨 생성을 위한 단일 경로와 단일 레이저원이 가능한 제2고조파 생성(SHG)에 따른 라만을 이용한 589nm에서 노란 나트륨에의 1064nm에서 Nd:YAG 변환 방법나트륨 노란색광을 생성하기 위한 단일 경로를 가진 단일 레이저원 사용, 오직 단결정 Nd:YAG를 요구하는 직선 접근
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- 2001-02-26
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일반기술
물리학 > 기타 광학
영상 Cynmanic 과정 개념의 확장은 원통이거나 주기적이지 않다. 기수 위상 부호화와 우수 위상 부호화를 이용한 데이터 취득을 포함한 새로운 방법이다.기수 위상 부호화와 우수 위상 부호화를 이용한 데이터 취득을 포함한 새로운 방법이다.
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- 2001-02-26
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일반기술
물리학 > 기타 광학
이들 장치들은 WDM(파장 분할 다중 시스템)에서 수신기로 사용된다. 이들 장치들의 밀한 2차원 배열은 쪼개는 것 없이 표준 리소그래피와 에칭 기법으로 쉽게 제작된다. 중앙 파장을 가진 협대역 광검출기로서 동작하는 이들 소자들은 정전기적으로 변화할 수 있으며 따라서 신뢰성 시스템을 위한 추가 요구는 최소화된다. 덧붙여 이들 장치들은 환경 변화와 부품 에이징에 면역력을 가지고 있다. 좁은 선폭(고밀도 WDM 전송이 가능한 ) 고속, 고감도(응답성)를 포함한 이들 소자의 다른 주요 특징도 있다.저비용, 협대역 선폭, 고감도, 고속, 이들 소자의 파장 동조 가능 특징을 보다 적은 시스템을 허용, 파장 동조는 간단하며 정전기적으로 수행
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- 2001-02-28
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
이 발명품은 보다 효율적이고 보다 신뢰성 있는 레이저 결과와 단순화된 설계를 가진 지그재그 슬랩속으로 펌프 방사 결합을 위한 새로운 방법이다. 실제를 위한 예비 실험 장소가 행하여 졌다.주파수와 시간 특성 변경없이 저전력 CW파 증폭과 펄스 마스터 발진 가능
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- 특허법인충정
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- 2001-02-28
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
이 발명품은 주기적으로 극을 가진 리튬니노베이트에서 고효율 단일 통과 CW 제2고조파 생성을 제공한다. 이것은 6.5 마이크로미터 영역 주기를 가진 주기적으로 극 리튬니노베이트에 대한 완전 웨이퍼 제조 공정이다. 샘플들은 단일 통과 CW1064nm Nd:YAG 2고조파 생성을 위한 42% 전력 변환 효율을 나타내고 53nm 길이와 0.5nm 두께를 가진다.낮은 단위 비용으로 웨이퍼 제작, 가능한 파장 범위에 대한 출력 동조
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- 특허법인충정
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- 2001-02-28
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
고굴절율 광품질 연속 표면, 고강도 처리 용량을 가지는 새로운 실리콘 변형 가능 거울 설계가 개발되었다. 이것은 집적 회로 기술로부터 생산 비용 감소까지의 제작 공정 채택에 의해 인접 채널 분리 기법과 새로운 동작의 사용에 의해 생산되었다.보고된 고반사 코팅을 가진 연속막 마이크로머신 변형 가능 거울, IC 생산에 의한 저비용, 저전압, 누화와 인접 채널 결합 감소 절연 그리드
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- 특허법인충정
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- 2001-02-28
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
레이저와 링다운 공동이 연속적으로 동기되는 동안 다중 링-다운 측정 수행을 위한 공동 링-다운 분광기(CRDS) 시스템에 구별 동기와 샘플링 광빔이 사용되었다. 샘플링과 동기 광빔은 다른 주파수를 가지며 공동내에 감결합된 샘플링과 동기광을 확실하게 보증해 준다. 오히려 링-다운 공동은 링 정형이며 샘플링 광은 S 편광이며 동기광은 P 편광이다. 반사 동기광이 Pound-Drever 기구에서 동기를 위해 사용한 반면 송신된 샘플링 광은 링다운 측정을 위해 사용한다.샘플링과 동기 광빔은 다른 주파수를 가지며 공동내에 감결합된 샘플링과 동기광을 확실하게 보증해 준다. 오히려 링-다운 공동은 링 정형이며 샘플링 광은 S 편광이며 동기광은 P 편광이다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-02-28
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일반기술
물리학 > 기타 광학
이 발명품은 비선형 광주파수 변환 응용을 위한 보다 효율적인 재료들을 제작하는 방법이다. 이것은 주기 또는 비주기 배향 변조를 가진 GaAs 결정의 에피택셜 성장을 가능하게 한다. 이러한 배향 변조를 가지고 준위상 정합을 얻을 수 있고 높은 소자 효율을 얻을 수 있다. 이 기법은 배향 패턴 반도체막의 두께에 의존하는 도파관과 체적 비선형 소자 모두를 제작하는데 이용할 수 있다.준위상 정합 비선형 광학에서 사용한 앞선 재료보다 훨씬 큰 중적외선속으로 GaAs의 투명성은 따라서 파장 변환의 확장이 비선형 광주파수 변환을 위하여 생성할 수 있다.
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- 특허법인충정
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- 2001-02-28
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
레이저 기술 영역에서 2가지 특허를 다루었다. 5247389는 I형 비선형 광학 파라메트릭 상호 작용을 위한 확장된 2차 기법의 일반적인 방법이다. 5321709는 Q스위치 레이저 발진 내의 합주파수 혼합과 제2고조파 생성을 효율적으로 제어하기 위한 방법이다.5247389는 I형 비선형 광학 파라메트릭 상호 작용을 위한 확장된 2차 기법의 일반적인 방법이다. 5321709는 Q스위치 레이저 발진 내의 합주파수 혼합과 제2고조파 생성을 효율적으로 제어하기 위한 방법이다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-02-28
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
본 발명품은 초가우시안으로 또는 탑-햇 그리고 초가우시안 후방을 가우시안으로 광을 레이저빔 강도 프로파일로 변환하는 쌍을 만들기 위한 간단한 기법이다. 가우시안대 초가우시안 변환기는 전적으로 용융 실리카로 제작되었으며 그것은 높은 레이저 손상 임계를 가지며 반사 손실을 최소화하기 위해 코팅되어 있다. 초가우시안대 가우시안 변환기는 또한 용융 실리카로 제작되었으며 다층 유전체 스택이 최소 손실에 사용되므로 반사에 이용된다. 이 발명품은 저비용 큰 체적 제로의 방법으로서 잘 알려진 반도체 제조 공정에 이용된다.저비용 제작, 실리콘 공정 질량 제작, 고변환 효율, 저광학 손실
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-03-01
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
액시머 레이저를 위한 펌프원으로서 마이크로파 가열간단하며 실제적인 설계, 마이크로파 에너지의 80-90% 흡수, 전력 증착은 가스 화합물과 독립, 마이크로파 여기는 플라스마 특성에 불감도
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-03-01
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
이 발명품은 열부하에 관한 유효 평균을 위한 Nd:유리의 가역성 슬랩을 채택한 킬로와트 평균 전력 고체 상태 레이저이다.2%이상의 고효율, 330Hz의 고반복율, 저비용, 소형, 현재 레이저 기술과 비교하여 킬로와트 평균 전력이 유용
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-03-01
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일반기술
물리학 > 레이저 광학(R12)
적어도 2개의 평면에 적어도 4개의 조각을 정의하는 것을 가지는 광선 경로를 정의하기 위한 지연 광선 경로의 입사면 변화를 적응하는 적어도 2개의 거울 표면과 융합한 고체 상태 레이저 재료의 단일 조각우수한 기계적 안정도를 가진 간단, 소형 구성, 정렬 유지, 우수한 주파수 안정도, 전자적으로 스위치 가능한 출력 방향, 우수한 열적 안정도
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-03-01
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