일반기술
전기·전자 > 기타 반도체
<목적>유기금속화학증착법에 의하여 실리콘기판위에 성장된 GaAs에피택셜층에서 700-750도씨의 성장온도로 델타-도핑을 하는 방법을 제공하는데 있다. <구성>실리콘기판위에 완충층으로서의 GaAs에피택셜층을 성장시키는 공정;GaAs에피택셜층의 성장을 중단한 상태에서 그 위에 유기금속화학 증착법에 의해 700-750도씨의 성장온도에서 델타-도핑하는 공정;이후 700-790도씨에서 덮개층으로서의 GaAs에피택셜층을 성장시키는 공정으로 구성한다. <효과>델타-도핑층내의 델타-도핑층에 있는 도우펀트의 열확산이 GaAs/Si계면에서 발생된 전위결합에 의하여 가속되는 것을 방지할 수 있다.1. 실리콘기판위에 완충충으로서의 GaAs 에피택셜층을 성장시키는 공정과, 이 GaAs에피택셜층의 성장을 중단한 상태에서 그 위에 유기금속화학 증착법에 의해 700-750℃의 성장온도에서 델타-도핑하는 공정과, 이후 700~790℃에서 덮개층으로서의 GaAs 에피택셜층을 성장시키는 공정으로 구성됨을 특징으로 하는 실리콘기판상의 성장된 GaAs에피택셜층의 유기금속화학증착법에 의한 델타-도핑형성방법.2. 제1항에 있어서, 상기 완충층으로서의 GaAs 에피택셜층을 3㎛이상의 두께로 성장시킴을 특징으로 하는 실리콘기판상에 성장된 GaAs 에피택셜층의 유기금속 화학증착법에 의한 델타-도핑 형성방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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재료 > 기타 고분자재료
<목적>폴리에스테르 중합체를 제조할때에 안티몬 화합물과 티타늄화합물로 구성된 복합촉매 그리고 반응조건에 따라 이 복합촉매에 제3의 화합물을 첨가하여 폴리에스테르를 제조하기 위한 것이다. <구성>테레프탈산 또는 이를 주성분으로 하는 디카르복실산 및 그 유도체와 에틸렌글리콜 또는 이를 주성분으로하는 글리콜 및 그 유도체를 에스테르화 반응시켜 비스테레프탈레이트 및/또는 그 저중합체가 주성분으로 된 에스테르화물을 얻고 이를 계속해서 중축합 반응시켜 폴리에스테르를 제조할 때 복합촉매가 에틸렌글리콜 또는 에틸렌글리콜을 주성분으로 하는 용매에 안티몬화합물과 티타늄화합물을 용해시켜 제조된 안티몬화합물과 티타늄화합물의 복합촉매이며 티타늄화합물이 식(I)로 표시되는 화합물인 것으로 구성한다. <효과>에스테르화 반응 및 중축합 반응시간이 함께 크게 단축되면서 중합체의 색상이 매우 우수하다.1. 테레프탈산 또는 이를 주성분으로 하느 ㄴ디카르복실산 및 그 유도체와 에틸렌글리콜 또는 이를 주성분으로 하는 글리콜 및 그 유도체를 에스테르화 반응시켜 비스(베타-히드록시에틸)테레프탈레이트 및/또는 그 저중합체가 주성분으로 된 에스테르화물을 얻고 이를 계속해서 중축합 반응시켜 폴리에스테르를 제조할 때 촉매로서 안티몬화합물과 티타늄화합물로 구성된 복합촉매를 사용하는 폴리에스테르의 제조방법에 있어서, 복합촉매가 에틸렌글리콜 또는 에틸렌글리콜을 주성분으로 하는 용매에 안티몬화합물과 티타늄화합물을 용해시켜 제조된 안티몬화합물과 티타늄화합물의 복합촉매이며, 티타늄화합물이 다음식으로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법. (RO)4Ti[HP(O)(OR`)2]2 상기 식에서, R은 같거나 서로 다르며 지방족 또는 지환족 알킬기 및 방향족아릴기를 나타내며, R`은 지방족 또는 지환족 알킬기 및 방향족 아릴기를 나타내며, R과 같거나 다를 수 있다.2. 제1항에 있어서, 안티몬화합물로서 삼산화안티몬, 안티몬트리아세테이트 중에서 선택하여 반응시키는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.3. 제1항에 있어서, 상기 티타늄화합물이 테트라이소프로필 디(디옥틸)포스파이트 티타네이트인 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.4. 제1항에 있어서, 복합촉매의 사용 양이 최종적으로 얻어지는 폴리에스테르에 대하여 100-1,000피피엠이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.5. 제1항에 있어서, 안티몬화합물과 티타늄화합물의 중량비가 0.01-100이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.6. 제1항에 있어서, 복합촉매가 용해된 글리콜용액을 반응시 20-200℃로 가열시켜 반응에 첨가하는 것을 특징으로 하는 폴리에스테르의 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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화학 > 기타 무기화학
두번째 탄소에 방향족 화합물이 치환된 식(II)의 (2-아릴프로필)알킬실란 및 제조방법을 제공하기 위한 것이다. <구성>두번째 탄소에 방향족 화합물이 치환된(2-아릴프로필)실란과 탄소와 탄소의 이중결합을 가진 유기올레핀화합물을 염화백금산, 실리카에 입힌 백금,트리부틸아민, 기타 Pd, Rh, Ni 등의 화합물을 촉매로 사용하여 수소 규소화 반응시키고 R1과 R2는 독립적으로 수소, C1-C3의 알킬, 플루오르, 클로로 또는 브로모이고 Ar은 벤젠고리, 나프탈렌고리, 비페닐고리 등의 아릴기를 표시하며 X는 클로로기 혹은 메톡시기로 구성한다. <효과> 치환된 (2-아릴프로필)알킬실란은 유기규소고분자화합물을 제조하는데 중요한 출발물질로서 사용될 수 있다.본 발명의 제조방법을 보다 자세히 설명하면 두번째 탄소에 방향족 화합물이 치환된 일반식(I)의 (2-아릴프로필)실란과탄소와 탄소의 이중결합을 가진 일반식(II)의 유기올레핀화합물을 염화백금산, 실리카에 입힌 백금, 트리부틸아민, 기타Pd, Rh, Ni등의 화합물을 촉매로 사용하여 수소규소화 반응시키는 것으로이루어지며, 이와 같이 얻어진 일반식(III)의 치환된 (2-아릴프로필)알킬실란은 유기규소고분자화합물을 제조하는데 중요한 출발물질이다본 발명자들은 알릴클로라이드에 염화수소를 함께 사용하면 알릴디클로로실란과 트리클로로알랄실란의 두가지 실란들을함께 얻을 수 있는 것을 알았다. 이것은 알릴클로라이드의 반응성과 염화수소의 반응성이 비슷하여 하나의 규소 원자에이들 두 분자가 각각 하나씩 들어가는 화합물을 얻을 수 있는 것을 말해주고 있다. 이 공정에서는 고분자화하기 쉬운 디클로로디알릴실란의 생성이 거의 없기 때문에 공정수행상의 어려움이 없다(한국특허출원번호 92-10292(1992.6.13))본 발명에서 두번째 탄소에 방향족 화합물이 치환된 (2-아릴프로필)실란들을 불포화결합을 가지고 있는 여러가지 유기화합물에 첨가시키기 위한 수소규소화반응은 통상 실험실에서 사용하는 유리기구를 사용하거나 상업화된 반응조를 사용해도된다. 반응장치는 불활성기체하에서 원료를 천천히 주입할 수 있는 장치가 있어야 하고 교반기와 열을 가하거나 냉각시킬수 있는 장치가 있어야 한다. 두번째 탄소에 방향족 화합물이 치환된 (2-아릴프로필)실란의 끓는 점이 낮지 않으므로 반응조에 압력을 가할 필요가 있을 경우도 있다. 그러나 이 반응공정이 장치나 반응압력에 따라 달라지는 것은 아니다. 이반응은 용매를 사용할 수도 있으나 대부분은 용매를 사용하지 않고도 가능하다
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- 2001-01-17
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일반기술
전기·전자 > 기타 전자제품
<목적>종래의 고유전율 유전체 재료가 지니고 있는 문제점인 산화납의 휘발 및 불순물의 혼입에 의한 유전특성 저하를 해결하기 위해 유전특성이 우수하고 양산성이 있는 고유전율의 고주파용 저온소결 유전체 재료를 제공하기 위한 것이다. <구성>중량비로 BaO 9.8%+PbO 13%+Nd2O3 36.65%+TiO2 39.2%+Pr6O11 0.65%를 기본조성으로 하여 산화규소 및 규산염계 화합물을 소결조제로 소량 첨가한다. <효과>유전특성과 소결성의 증진이 이루어지며 원료분말이나 공정수행중에 혼입되는 불순물이 첨가제에 흡수되어 산화납의 휘발이 억제되므로 우수하고 균일한 유전특성을 갖는 고주파용 유전체 소자의 대량생산이 가능하다.1. 중량비로 BaO 9.8%+PbO 13%+Nd2O3 36.65%+TiO2 39.2%+Pr8O11 0.65%를 기본조성으로 하여 소결조제가 첨가된 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.2. 제1항에 있어서, 상기 소결조제는 SiO2인 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.3. 제1항에 있어서, 상기 소결조제는 Al2O3인 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.4. 제1항에 있어서, 상기 소결조제는 CaO인 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.5. 제1항에 있어서, 상기 소결조제는 CaSiO3인 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.6. 제1항에 있어서, 상기 소결조제는 CaOAl2O3SiO3인 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.7. 제1항에 있어서, 상기 소결조제는 SiO2, Al2O3, CaO중 적어도 두 종류 이상의 첨가제가 혼합된 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.8. 제1항에 있어서, 상기 소결조제는 CaSiO3, CaOAl2O3SiO2이 혼합된 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.9. 제1항 또는 제3항 내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 상기 소결조제는 중량비로 0.2~4%인 것을 특징으로 하는 고주파용 유전체 재료.
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- 2001-01-17
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재료 > 분리·환경·생체기능재료
<목적>메탄올 회수가 용이하여 에너지 절감 효과를 기대할 수 있는 MTBE 분해 반응을 위한 촉매막 반응기를 제공하도록 한다. <구성>다공성 금속 지지체(3), 이의 바깥쪽에 폴리페닐렌옥사이드막(2)으로 감싸여진 원통형 튜브(5), 폴리페닐렌옥사이드막(2)과 유리관으로 둘러쌓여 헤테로 폴리산 촉매가 촉매층(9)으로 충전된 원통형 셀(6), 촉매막 반응기 하단(10)으로 유입된 MTBE가 촉매와 반응하여 생성된 이소부텐과 미반응 MTBE를 수집하는 배기구(13), 촉매막을 통과한 메탄올이 연속적으로 이송되는 투과구(12)로 구성된다.1. 다공성 금속 지지체(3)와 이의 바깥쪽에 폴리페닐렌옥사이드막(2)으로 감싸여진 원통형 튜브 촉(5)과, 폴리페닐렌옥사이드(2) ㅁ낙과 유리관으로 감싸여지고 헤테르 폴리산 촉매가 촉매층(9)으로 충전된 원통형 셀촉(6)으로 이루어지며, 촉매막반응기 하단(10)으로 유입된 MTBE가 상기 촉매와 반응하여 생성된 이소부텐과 미반응 MTBE를 배기구로 (13)으로 수집되게 하며, 상기 막을 통과하여 튜브 축에 위치하는 메탄올을 연속적으로 투과구(12)로 이송하도록 구성된 메틸터셔리-부틸에테르(MTBE)를 분해시켜 이소부틴을 제조하는 촉매막반응기.2. 제1항에 있어서, 상기 폴리페닐렌옥사이드 막으로 폴리-2,6-디메틸-1,4-페닐렌옥사이드 막을 사용하는 것을 특징으로 하는 촉매막반응기.3. 제1항에 있어서, 상기 촉매층에 12-텅스트인산, 12-몰리보도인산, 12-몰리보도텅스토인산 또는 12-텅스토실리콘산을 촉매로 사용하는 것을 특징으로 하는 촉매막반응기.4. 다공성 금속 지지체(3)와 이의 바깥쪽이 폴리페닐렌옥사이드막(2)으로 감싸여진 튜브 측(5)과, 상기 폴리페닐렌옥사이드(2) 막과 유리관으로 감싸여지고 헤테로 폴리산 촉매가 촉매층(9)으로 충전된 셀 측(6)으로 이루어지는 촉매막반응기 하단(10)에 MTBE를 유입시켜 80-150℃의 반응온도와 1-2기압의 반응압력에서 상기 촉매와 반응시키고 : 상기 폴리페닐렌옥사이드 막을 통과하여 튜브측에 존재하는 메탄올을 연속적으로 투과구(12)로 이송시키고; 이소부텐과 미반응 MTBE를 배기구(13)으로 수집하는 것으로 이루어지는, MTBE를 분해시켜 이소부텐을 제조하는 방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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일반기술
보건·의료 > 원료의약 대량제조 기술
일반식(I)의 광범위한 항균력을 지닌 세팔로스포린 화합물과 그의 약제학적으로 허용되는 염 및 그 제조방법을 제공한다.<구성>하기 일반식(I)으로 표시되는 세파로스포린 화합물 및 약제학적으로 허용되는 염으로 R1은 H, 또는 트리틸, 3급 부톡시 카르보닐, 포르밀기이고,R2는 수소 또는 디페닐메틸기, 파라-메톡시벤질기이고 또는 염을 만드는 Na나 K가 같은 원자이고, R3, R4는 같거나 서로 다를 수가 있으며, H 또는 파라-메톡시벤질이고, X,Y는 수소 또는 플루오로, 클로로, 브로모, 요오드이며, Q는 수소, 비닐, 아세톡시메틸, 메톡시메틸, 할로메틸, 피리디니움메틸, N-에틸피리디니움일티오메틸, N-카르복시메틸피리디니움일티오메틸, 카르바모일옥시메틸, N-메틸-테트라졸릴티오메틸과 같은 치환기를 나타낸다. <효과>그람양성균이나 그람음성균에서 뛰어난 항균력을 나타내므로 세파로스포린 화합물 계열 의약품에 유용하게 사용할 수 있다.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
<목적>식물의 진균성 질병에 유용한 유기 규소 화합물인 1-(아릴-1-(알파-(트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸의 제조 방법을 제공한다. <구성>일반식(I)로 표시되는 1-(아릴-1-(알파-(트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸1-알리-1-트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸은 일반식(II)의 1-아릴-1-(알파-(클로로)알킬)-1-실라시클로로알칸과 트리아졸 나트륨염을 디메틸포름아미드 용매하 15-45도씨에서 3-8시간 반응시켜 제조하며, 중간체인 일반식(II)의 화합물은 알킬트리클로로실란을 염소화하여 얻은 클로로알킬 트리클로로실란을 디클로알칸을 출발물질로 한 디그리냐르 시약과 영하 78-60도씨에서 반응시켜 제조한다. 본 발명의 화합물은 농업용 살균제로서 식물의 진균성 질병에 이용된다.본 발명은 규소를 포함하는 오각형 육각형 해테로고리화합물에 트리아졸이 치환된, 일반식(I)로 표시되는 새로운 유기규소화합물 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸, 그것의 제조방법 및 식물의 진균성 질병에 대한 그것의 용도에 관한 것이다본 발명자들은 클로로메틸기를 함유한 유기디실라알칸을 출발물질로 하여 클로로메틸기의 클로로기 대신에 트리아졸기를도입함으로써 (1H-1, 2, 4-트리아졸릴)디실라알칸을 제조하여 좋은 살균효과를 얻었다.(한국 특허출원번호 공개번호 91-6503)본 발명은 규소를 포함하는 오각형 또는 육각형의 헤테로고리화합물에 트리아졸이 치환된 새로운 유기규소 화합물인 일반식(I)의 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알킬 및 이들의 식물의 진균성 질병에 대한 용도에 관한 것이다.본 발명은 또한 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸을 제조하는 방법에 관한것이다. 자세하게는, 신규한 1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸의 트리아졸화합물을 반응시켜 1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸의 클로로알킬기의 클로로기를 트리아졸기로 치환함으로써 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸을 제조하는 방법에 관한 것이다. 클로로알킬기를 가진 유기실란에 트리아졸을 치환시키는 것은 먼저 트리아졸을 수소화나트륨이나 나트륨메톡사이드 같은 염기로 처리하여 트리아졸나트륨 염을 만들고, 이 염을 클로로메틸기를 갖는 실란과 반응시킴으로써 달성된다. 낮은 온도에서의 트리아졸의 치환반응이 빨리 진행되도록 하기 위해, 아세톤 용매하에서 KI를 넣고 용매를 환류시켜 클로로알킬기의 클로로기를 요오드로 치환시킴으로써 보다 좋은 수율을 얻을수 있다.본 발명은 또한 본 발명의 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸 제조의 중간체로 사용되는 신규한 화합물1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸에 관한 것이다. 이 화합물은 클로로알킬트리클로로실란과, 디클로로알칼바람직하게는 1, 4-디클로로부탄과 1, 5-디클로로펜탄을 출발물질로 하여 제조할 수 있다. 클로로알킬 트리클로로실란은알킬트리클로로실란을 염소화시켜 얻을 수 있다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
환경 > 대기오염제어·관리 기술 (N32, F36)
<목적>왕겨로부터 흡착 능력이 우수한 활성 왕겨를 제조하고, 이를 정수 처리 과정에 사용하여 수질 오염을 일으키는 각종 유해 성분들을 제거하는 방법을 제공한다. <구성>탄화 왕겨 또는 은백색 왕겨에 염산, 질산, 인산 및 불산 수용액 중에서 선택한 무기산이나 수산화나트륨, 수산화칼륨 중에서 선택한 알칼리를 가하여 가열 환류하고, 상온 냉각후 중화 처리하여 물로 세척하며, 여과, 건조시켜 탄화 왕겨나 은백색 왕겨에 함유된 실리게이트를 용해시켜 제거하여 표면적과 흡착 능력이 증대된 활성 왕겨를 제조하고, 이 활성 왕겨를 오염된 물과 접촉시켜 수중에 용해되어 있는 각종 유해 물질을 제거한다. <효과>수중의 각종 오염 물질을 응집, 흡착, 여과 과정을 통해 매우 효과적이고도 경제적으로 제거할 수 있다.1. 탄화왕겨 또는 은백색왕겨에 무기산이나 알칼니트를 가하여 가열환류한 다음 상온냉각후 중화처리하여 물로 세척한 후 여과, 건조시킴으로써 탄화왕켜나 은백색왕겨에 함유된 실리게미트를 용해시켜 제거함을 특징으로 하는 표면적과 흡착능력이 증대된 활성왕겨의 제조방법.2. 제1항에 있어서, 무기산을 염산, 질산, 인산 및 물산 수용액 중에서 선택하는 것이 특징인 활성왕겨의 제조방법.3. 제1항에 있어서, 알칼리를 수산화나트륨 및 수산화칼륨 수용액 중에서 선택하는 것이 특징인 활성왕겨의 제조방법.4. 제1항 내지 3항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 활성왕겨를 오염된 물과 접촉시킴으로써 수중에 용해되어 있는 각종 유해 오염물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 정수 또는 쾌수 처리방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
전도성을 갖는 유기 고분자성 반도체 물질에 가시광선을 잘 흡수하는 유기 염료를 결합시켜 새로운 형태의 광전지 물질인 폴리시안아미드 화합물을 제공한다.<구성>건조시킨 폴리시안아미드 0.024몰을 95%의 진한 황산 30미리리터에 첨가하여 24시간 동안 교반, 용해시켜 용액을 제조한다. 진한 황산 15미리리터에 아질산나트륨 0.024몰을 넣어 만든 용액을 앞에서 얻은 용액에 첨가하여 0도C에서 반응시켜 디아조화시킨다. 에틸 레드, 애시드 오렌지 8, 애시드 레드 88 등의 염료 화합물 0.01몰을 진한 황산에 용해시켜 만든 용액을 디아조화시킨 용액에 서서히 적가하여 0도C에서 3시간 동안 교반하고, 55도C로 서서히 가열한 다음 3시간 동안 교반하면 일반식 (Ⅰ)로 표시되는 신규한 폴리시안아미드 화합물이 수득된다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
에너지·자원 > 기타 자원 활용 기술
<목적>추출제로 베르사트산 10을 사용한 용매 추출 방법인 간단한 공정으로 지르코늄과 하프늄의 분리도 및 회수율을 향상시킨 수용액 중의 지르코늄 분리 방법을 제공한다. <구성>하프늄을 함유하는 지르코늄 수용액을 유기 용매중의 0.5-2.0M의 베르사트산 10으로 다단 추출하고, 추출 유기상을 0.5-2.0M의 HCL 수용액으로 다단 역추출하고, 지르코늄 풍부 수용액상을 증발 농축시켜 ZrOCl28H2O 결정을 얻고, ZrOCl28H2O 결정을 암모니아수로 가수 분해하여 소성하고, 하프늄을 함유하는 지르코늄 수용액의 용매 추출법에 의해 지르코늄이 분리된다.1. 하프늄을 함유하는 지르코늄 수용액을 유기 용매 중의 0.5~2.0M의 베르사트산 10으로 다단 추출하는 제1추출 단계, 추출 유기상을 0.5~2.0M의 HCl의 수용액으로 다단 역추출하는 제2추출 단계, 지르코늄 풍부 수용액상을 증발 농축시켜 ZrOCl2.8H2O 결정을 얻는 단계, 그리고 ZrOCl2.8H2O 결정을 암모니아 가수분해하여 소성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는, 하프늄을 함유하는 지르코늄 수용액으로부터 용매 추출법에 의해 지르코늄을 분리하는 방법.2. 제1항에 있어서, 상기 제1추출 단계가 pH 1.5 내지 3.0 범위에서 이루어지는 것인 방법.3. 제1항에 있어서, 상기 용매가 등유이고, 제1추출 단계에서 수용액 상과 유기 상의 상비율 A/O가 1/5 내지 1/1인 것인 방법.4. 제1항에 있어서, 제2추출 단계에서 수용액 상과 유기 상의 상비율 A/O가 1/1 내지 2/1인 것인 방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
재료 > 기타 고분자재료
[구성]본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 갖는 측쇄형 이차 비선형 고분자 화합물 및 이를 사용하여 제조되는 비선형 광학 재료에 관한 것이다.-(- MO -)m-----(- ITCN-NLO -)n-식 중,m과 n은 그의 합이 5 내지 10000이고 m/(m+n) = 0.05 ∼ 0.95를 충족시키는 값이며;ITCN-NLO는 이며;X는 존재하지 않거나, 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌 또는 탄소수 6 내지 12의 방향족 탄화수소이고;Y는 에테르, 에스테르, 아미드, 탄소수 1 내지 5의 알킬아미노, 카르바메이트 및 설폰으로 구성되는 군에서 선택되는 결합단이며;NLO는 공역 방향족 고리가 비치환되거나 또는 전자 주게 및(또는) 전자 받게로 치환될 수 있는 일반적인 이차 비선형 광학 특성 화학단이고,MO는 ITCN-NLO와 공중합가능한 임의의 모든 중합성 단량체이다.본 발명의 측쇄형 고분자 화합물은 매우 높은 이차 비선형 광학 특성과 더불어 뛰어난 내열성, 투명성 및 박막화 가공성을 겸비한다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
전기·전자 > 기타 전자제품
[구성]본 발명은 원격지에 있는 로봇팔에 달린 그리퍼와 그리퍼가 접촉하는 작업대상물 사이의 촉각 정보를 중앙 제어실에 있는 작업자에게 전달하여 더욱 정교하고 효과적인 작업을 할 수 있도록 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조종로봇용 촉각궤환장치에 관한 것으로, 종래의 공압이나 형상기억합금을 사용한 촉각궤환장치에 있어서는 그리퍼와 그리퍼가 접촉하는 촉각정보를 중앙제어실에 있는 작업자에게 정확히 전달할 수 없게되는 문제점이 있었다. 이러한 점을 감안하여, 촉각센서로부터 측정된 촉각정보를 접촉유형분석기부에서 적당한 주기마다 신호들을 한 부류로 묶고, 그 형성된 신호 군들의 변화 추세를 이미 얻어진 접촉 유형 데이터베이스를 토대로 하여 각 경우에 맞게 변화시키고, 촉각궤환소자 구동회로부에서 전류로 변환하여, 각각의 촉각궤환소자를 구동시키게 하며, 상기 촉각궤환소자를 5 x 5 어레이 형태로 구성하여 상기 촉각정보를 어레이 단위로 궤환되도록 함과 아울러 연속적인 출력제어가 가능하도록 함으로써, 원격지의 촉각정보를 작업자에게 정확히 전달하여 정교하고 효과적인 작업을 수행할 수 있게 한 것이다.1.촉각정보를 입력받아, 그에 따른 접촉유형을 분석하여 명령신호를 출력하는 접촉유형 분석기부와, 상기 접촉유영 분석기부에서 출력되는 명령신호를 전류로 변환하여 공급하는 촉각궤환소자 구동회로부와, 상기 촉각궤환소자 구동회로부로 부터 공급되는 전류에 따라 고정프런저와 이동프런저사이의 흡인력이 변화하여 촉각력을 제어하는 촉각궤환소자로 구성하여 된 것을 특징으로 하느 전자식의 흡인력을 이용한 원격조종 로봇용 촉각궤환장치.2.제 1항에 있어서, 촉각궤환소자는 초침이 이동할 수 있도록 중심이 빈 파이프형의 고정프런저에 상기 촉침과 연결되어 있는 이동프런저의 이동을 안내해주는 보빈을 삽입시켜,그 위에 코일을 조밀하게 감고, 상기 권회된 코일외곽을 셀(shell)로 감싼 구조로 구성된 것을 특징으로 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조종로봇용 초각궤환장치.3.제 1항 또는 제 2항에 있어서, 촉각궤환소자를 어레이 형태로 배열하여 구성된 것을 특징으로 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조종로봇용 촉각궤환장치.4. 제 1항에 있어서, 접촉유형 분석기부는 촉각센서의 배열형태의 측정점들 각각으로부터 입력되어진 신호들을 짧은 샘플링 시간을 기준으로 하여 어레이 단위의 촉각신호군으로 묶어주고, 그 촉각신호군을 단위로 하여, 일정 개수의 집합들의 변화추헤를 분석하여, 미리 실험 혹은 이론을 통해 얻어진 대표적인 접촉유형 데이터베이스중 어느 분류에 속하는지를 검색하고, 그 속한 대표 접촉유형을 기준으로 하여 평균 촉각신호군의 힘 크기, 분포에 따라 적절히 변화를 주어 각각의 촉각궤환소자 구동회로부에 해당명령신호를 인가하게 구성된 것을 특징으로 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조정 로봇용 촉각궤환장치.5. 제 2항에 있어서, 촉각궤환소자는 보빈을 이동프런저의 이동부분만 안내할 수 있도록 짧게하여, 고정프런저에 삽입시킨 형태로 구성된 것을 특징으로 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조종로봇용 촉각궤환장치.6.제 1항에 있어서, 로봇의 작업수행시, 그리퍼와 그리퍼가 접촉하는 작업대상물 사이에 작용하는 접촉력을 측정하는 촉각센서와, 상기 촉각센서의 측정신호를 증폭하여 접촉유형 분석기부에 송신하는 인터페이스부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조종 로봇용 촉각궤환장치.7. 촉각궤환소자 구동회로부로부터 권선코일에 전류가 공급됨에 따라, 그로부터 발생되는 자기장이 고정프런저를 관통한 후 셀(shell)표면을 타고 유도되어, 상기 고정프런저와 소정거리 떨어져 있는 이동프런저로 되돌아오는 자기장 경로가 형성되게 하여, 상기 고정프런저의 하단면과 상기 이동프런저의 상단면이 서로 반대극성을 띠어 그 이동프런저를 잡아 당기게 하고, 상기 이동프런저를 잡아 당김에 따라 그 이동프런저 에 부착되어있는 촉침이 상기 고정프런저의 내부를 관통해 이동하여 그 촉침위에 위치한 피부에 촉각력을 전달하게 촉각궤환소자를 구성한 것을 특징으로 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조종로봇용 촉각궤환장치.8. 제 7항에 있어서, 이동프런저와 고정프런저의 양접합면을 경사지게 형성하여 이동변위를 증대시키게 구성된 것을 특징으로 하는 전자석의 흡인력을 이용한 원격조종로봇용 촉각궤환장치.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]본 발명은 유기 알루미늄 화합물 전구체 및 액상으로 존재하여 다루기 쉽고도 증착 과정중에 리간드의 열분해로 인한 탄소오염이 없는, 알루미나 증착을 위한 유기 알루미늄 화합물 전구체로서 (베타-케토에스테르)-(알콕사이드)-알루미늄 화합물을 화학기상증착법을 사용하여 미세 기공구조를 갖는 고순도 알루미나 분리막을 제조하는 방법을 제공한다.1. 화학식....로 표시되는 유기 알루미늄 화합물 전구체;상기 식에서 R은 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, R`는 탄소수 1내지 6인 알콕시이고, R는 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, x는 1,2 또는 3이다.2. 제 1항에 있어서, 상기 베타-케토에스테츠가 메틸아세토아세테이트(MTAC), 에틸아세토아세테이트(ETAC), t-부톡시로 구성되는 군 중에서 선택되는 화합물 전구체3. 제 1항에 있어서, 상기 알콕사이드기가 메톡시, 에톡시, sio-프로폭시, 프로폭시, 부톡시, iso-부톡시 및 t-부톡시로 구성되는 군 중에서 선택되는 화합물 전구체.4. 화학식...로 표시되는 유기 알루미늄 화합물을 전구체로 사용하여 화착기상증학방법에 의해 알루미나 분리막을 제조하는 방법;상기 식에서 R은 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, R`는 탄소수 1내지 6인 알콕시이고, R는 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, x는 1,2 또는 3이다.5. 제 4항에 있어서, 상기 진구채를 50-135℃로 가열하여 전구체 증기를 발생시키고, 상기 발생된 전구체 증기를 280-440℃로 가열된 알루미나 기판에서 열분해시켜 상기 전구체를 알루미나 기판에 증착시키는 단계로 이루어지는 방법.6. 제 4항에 있어서, 상기 증착 단계가 10/(2)~10/(7)mmHg의 압력매시 수행되는 방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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일반기술
재료 > 전기·전자기 기능재료
[구성]하기 화학식 2의 가교 결합제를 한 분자내의 측쇄에 도입시킨 열 가교형 유기 비선형 광학 활성 중합체가 제공된다. 이와 같이 얻어진 열 가교형 유기 비선형 광학 활성 중합체는 전기 광학 계수, 유기 용매에 대한 가용성, 가공성 등 제반 물성이 우수하고, 또한 열에도 안정하다.하기 화학식 2의 가교 결합제를 한 분자내의 측쇄에 도입시킨 열 가교형 유기 비선형 광학 활성 중합체가 제공된다. 이와 같이 얻어진 열 가교형 유기 비선형 광학 활성 중합체는 전기 광학 계수, 유기 용매에 대한 가용성, 가공성 등 제반물성이 우수하고, 또한 열에도 안정하다
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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일반기술
전기·전자 > 영상·음향기기
[구성]본 발명은 대형 렌즈 등에 의해 상이 맺히는 수렴 역에 반사 또는 편향 소자가 부착된 주사기(scanner)를 설치하고, 상기 수렴 역에 맺히는 상을 입사각별로 반복 주사함으로써, 여러 대의 카메라를 배열하여 여러 방藪【순차적으로 촬영한 대상 체의 2차원 상과 같은 영상이 형성되도록 한 3차원 영상 시스템에 관한 것이다. 주사기에 부착돼 반사 또는 편향 소자의 크기는 렌즈 등에 의해 형성된 사의 광축 방향에 수직인 단면보다 적지 않아야 한다. 렌즈 등에 의해 형성된 상은 렌즈 등의 입력 개구에 의해 정의되는 시야각내의 광경을 축소, 중첩시킨 것이므로 주사기에 의한 주사에 의해 형성된 상은 시약각내에 공간적으로 분포된 광경을 시 방향에 따라 분할된, 시차를 달리하는 2차원 상의 열로 주어진다. 이 2차원 상의 열은 광섬유, 카메라를 포함한 TV 시스템 등에 의해 전송이 가능하며, 전송된 상은 주사기와 동기 되어 움직이는 주사기에 의해, 기록할 때와 유사한 방법으로 공간상으로 변환되어 원래의 3차원 광경이 3차원 공간상으로 재생된다. 또한, 상의 확대를 위해서는 홀로 그래픽 스크린 등이 사용될 수 있다.1.대상체로부터 여러 방향에서 입사되는 영상광들을 이동개구(moving aperture)를 이용하여 촬영, 전송 및 표시 장치에 투사시켜 3차원 영상을 제공하기 위한 3차원 영상 구현 방법에 있어서, 대상체로부터 여러 방향에서 입사되는 영상광들을 주어진 영역에 집광하는 단계;상기 집광된 다시야 영상광들을 집광 위치에 놓인 이동 개구 역할을 대신하는 주사 또는 공편향 장치를 이용하여 주어진 주파수로 반복 주사함으로써 시각이 다른 방향에서 본 대상체의 단면상을 제작하는 단계;및 상기 제작된 단면상들을 표시 장치를 향해 투사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 3차원 영상 구현 방법.2. 제 1항에 있어서, 시각이 다른 방향에서 본, 제작된 상기 대상체의 상기 다면상들을 2차적으로 집광하는 단계; 및 상기 2차적으로 집광된 영상광들을 주어진 광 경로를 따라 전송하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상구현 방법.3. 제 2항에 있어서, 상기 전송된 영상광들을 확대하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 구현 방법.4. 제 3항에 있어서, 상기 확대된 영상광들을 제 1항에서 사용된 이동 개구 역할을 대신하는 주사 또는 광편향 장치와 동기 되어 움직이는 주사 또는 광편향 장치로 반복 주사하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 구현 방법.5. 제 1항 또는 4항에 있어서, 상기 영상광 집광 단계는, 다시 말해 대상체의 상을 맺히게 하는 수단으로는 볼록 렌즈, 오목 거울 , 또는 다수의 평면경 또는 구면경의 조합으로 구성된 오목 거울 중 어느 하나에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 구현 방법.6.제 1항 또는 4항에 있어서, 상기 영상광의 주사 단계는 광의 진행 방향과, 또는 형태를 바꿀 수 있는 광 부품이 부착된 주사기(scanner)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 구현 방법.7. 제 6항에 있어서, 상기 광 부품은 평면경, 구면경, 홀로 그래픽 디 혹은 일정한 간격으로 배치된 다수의 평면경으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 구현 방법.8.제 2항에 있어서, 상기 전송 단계는 영상광을 압축하는 단계와 압축된 영상광을 복원하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 구현 방법.9. 대상체로부터 여러 방향에서 입사되는 영상광들을 이동 개구를 이용하여 촬영, 전송 및 표시 장치에 투사시켜 3차원 영상을 제공하는 3차원 영상 시스템에 있어서, 대상체로부터 여러 방향에서 입사되는 영상광들을 주어진 영역에 집광하기 위한 수단; 상기 집광된 다시야 영상광들을 집광 위치에 놓인 이동 개구 역할을 대신하는 주사 또는 광편향 장치를 이용하는 주어진 주파수로 반복 주사하기 위한 수단; 및 상기 주사된 영상광들을 수광하여 영상을 표시하기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 시스템.10. 제 9항에 있어서, 시각이 다른 방향에서 본, 제작된 상기 대상체의 상기 단면 상들을 2차적으로 집광하기 위한 수단; 상기 2차적으로 집광된 영상광들을 주어진 광 경로를 따라 전송하기 위한 수단; 상기 전송된 영상광들을 확대하기 위한 수단;및 상기 확대된 영상광들을 이동 개구 역할을 대신하는 주사 또는 광편향 장치와 동기되어 움직이는 주사 또는 광편향 장치로 반복 주사하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 시스템.11. 제 9항에 있어서, 상기 집광수단은, 다시 말해 대상체의 상을 맺히게 하는 수단으로는 볼록 렌즈, 오목 거울, 또는 다수의 평면경 또는 구면경의 조합으로 구성된 오목 거울 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 3차원 영상 시스템.12.제 9항에 있어서, 상기 영상광의 분절 수단은 광 방향을 바꾸는 광부품이 부착된 주사기를 포함하는 것을 특징으로 하는 ㄴ3차원 영상시스템.13. 제 12항에 있어서, 상기 광부품은 평면경, 구면경, 홀로그래픽 디스크, 혹은 일정한 간격으로 배치된 다수의 평면경인 것을 특징으로 하는 3차원 영상 시스템.14. 제 10항에 있어서, 상기 영상광 전송 수단은 광 도관, 광섬유 다발 또는 TV시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상시스템.15. 제 10항에 있어서, 상기 영상광 전송 수단은 영상광을 압축하는 수단과 압축된 영상광을 복원하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 시스템.16. 제 9항에 있어서, 상기 집광 수단과 주사수단 사이에 시방향의 상을 선별하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 영상 시스템.17.제 16항에 있어서, 상기 선별 수단은 다이어프램인 것을 특징으로 하는 3차원 영상 시스템.
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- 2001-01-17
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일반기술
에너지·자원 > 기타 에너지 절약 기술
[구성]본 발명은 전동기를 동작 조건에 따라 항상 최적 효율이 유지되도록 신경 회로망을 이용하여 제어하는 전동기의 속도 제어 시스템에 관한 것으로서, 본 발명의 전동기 속도 제어 시스템은 입력층, 은닉층, 및 출력층으로 구성되는 신경 회로망을 포함하고, 상기 전동기의 운전 조건에 기초하여 입력 전력이 최소화 되도록 상기 은닉측와 출력층의 가중치와 오프셋을 학습시켜 상기 전동기의 소정의 제어 변수를 출력하는 신경 회로망 제어기; 상기 소정의 제어 변수를 사용하여 상기 전동기를 제어하는 모터 제어 수단; 및 상기 전동기로부터 운전 조건을 도출하기 위한 수단을 포함한다.본 발명은 전동기의 속도 제어 시스템에 관한 것으로, 특히 전동기를 동작 조건에 따라 항상 최적 효율이 유지되도록 신경 회로망을 이용하여 제어하는 전동기의 속도 제어 시스템에 관한 것이다또한 본 발명의 다른 목적은 신경 회로망을 채용하여 유도 전동기를 동작 조건에 따라 항상 최적 효율이 유지되도록 제어할 수있는 유도 전동기의 슬립 주파수형 속도 제어 시스템을 제공하는 것이다. 발명의 또 다른 목적은 신경 회로망을 채용하여 유도 전동기를 동작 조건에 따라 항상 최적 효율이 유지되도록 제어할수 있는 유도 전동기용 벡터 제어 시스템을 제공하는 것이다.이러한 목적을 달성하는 본 발명의 전동기 속도 제어 시스템은 입력층, 은닉층, 및 출력 층으로 구성되는 신경 회로망을포함하고, 상기 전동기의 운전 조건에 기초하여 입력 전력이 최소화되도록 상기 은닉층과 출력층의 가중치와 오프셋을 학습시켜 상기 전동기의 소정의 제어 변수를 출력하는 신경 회로망 제어기; 상기 소정의 제어 변수를 사용하여 상기 전동기를 제어하는 모터 제어 수단; 및 상기 전동기로부터 운전 조건을 도출하기 위한 수단을 포함한다.상기 모터 제어 수단은 모터 제어 방식에 따라서 예를 들면 슬립 주파수형 속도 제어 시스템이거나 벡터 제어 속도 제어시스템일 수 있고, 또한 그 채택된 방식에 대응하여 상기 제어 변수도 최적 슬립 주파수나 최적 자속 전류 지령치 일 수있다. 본 발명은 학습 기능이 있어 학습이 반복됨에 따라 제어 변수는 최적 효율 운전 값으로 수렴한다. 따라서, 임의의전동기에 적용되어 계속적으로 사용함에 따라 신경 회로망의 가중치 및 오프셋에 누적된 과거의 경험 정보에 의해 운전조건 변동에 따른 최적점으로의 수렴 속도가 향상된다. 더욱이, 본 발명의 신경 회로망 제어기는 자속의 포화 효과나 온도 변화에 따른 전동기 파라미터의 변동 등과 같은 비선형 특성에 강인한 최적 운전을 달성했다.본 발명은 전동기의 속도 제어 시스템에 관한 것으로, 특히 전동기를 동작 조건에 따라 항상 최적 효율이 유지되도록 신경 회로망을 이용하여 제어하는 전동기의 속도 제어 시스템에 관한 것이다또한 본 발명의 다른 목적은 신경 회로망을 채용하여 유도 전동기를 동작 조건에 따라 항상 최적 효율이 유지되도록 제어할 수있는 유도 전동기의 슬립 주파수형 속도 제어 시스템을 제공하는 것이다. 발명의 또 다른 목적은 신경 회로망을 채용하여 유도 전동기를 동작 조건에 따라 항상 최적 효율이 유지되도록 제어할수 있는 유도 전동기용 벡터 제어 시스템을 제공하는 것이다.이러한 목적을 달성하는 본 발명의 전동기 속도 제어 시스템은 입력층, 은닉층, 및 출력 층으로 구성되는 신경 회로망을포함하고, 상기 전동기의 운전 조건에 기초하여 입력 전력이 최소화되도록 상기 은닉층과 출력층의 가중치와 오프셋을 학습시켜 상기 전동기의 소정의 제어 변수를 출력하는 신경 회로망 제어기; 상기 소정의 제어 변수를 사용하여 상기 전동기를 제어하는 모터 제어 수단; 및 상기 전동기로부터 운전 조건을 도출하기 위한 수단을 포함한다.상기 모터 제어 수단은 모터 제어 방식에 따라서 예를 들면 슬립 주파수형 속도 제어 시스템이거나 벡터 제어 속도 제어시스템일 수 있고, 또한 그 채택된 방식에 대응하여 상기 제어 변수도 최적 슬립 주파수나 최적 자속 전류 지령치 일 수있다. 본 발명은 학습 기능이 있어 학습이 반복됨에 따라 제어 변수는 최적 효율 운전 값으로 수렴한다. 따라서, 임의의전동기에 적용되어 계속적으로 사용함에 따라 신경 회로망의 가중치 및 오프셋에 누적된 과거의 경험 정보에 의해 운전조건 변동에 따른 최적점으로의 수렴 속도가 향상된다. 더욱이, 본 발명의 신경 회로망 제어기는 자속의 포화 효과나 온도 변화에 따른 전동기 파라미터의 변동 등과 같은 비선형 특성에 강인한 최적 운전을 달성했다.
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- 2001-01-17
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일반기술
전기·전자 > 집적회로설계 기술 (B63)
[구성]본 발명은 종래의 마스타 유리나 피에조 소자를 사용하지 않고, HOE 제작용 감광판과 물체로 사용되는 반사경을 포함하는 카세트를 굴절률 정합액 통에 잠수(Immerse) 고정시켜 구성한, 레이저 빔을 이용한 반사형 HOE 제작 장치에 관한 것이다. 본 발명의 장치에 따르면, 입사 레이저 빔에 의한 굴절률 정합액의 가열로 반사파의 위상을 교란시켜 기생 또는 의사 간섭 무늬를 제거한다. 이 굴절률 정합액은 그 내에 첨가된 적정량의 광 흡수 염료에 의해 가열이 가속된다. 홀로그래픽 감광판의 유액으로서 DCG를 사용하는 경우는 굴절률 정합액에 첨가되는 광 흡수 염료로서 이 DCG의 감광제를 사용하므로 DCG로부터 정합액 내로 이 감광제가 유출되어 나오지 못하게 된다. 본 발명의 장치에 따르면, 굴절률 정합액 통(Index Matching Liquid Bath) 외에는 별다른 반사파의 위상 교란 수단을 필요로 하지 않으므로, 제작이 용이하고 소정의 크기와 형태를 가진 고화질의 HOE를 만들 수 있다.1. 레이저 빔을 사용해서 반사형 홀로그래픽 광학 소자를 제작하기 위한 장치에 있어서, 물체로 사용되는 반사경, 및 상기 카세트를 수용하며 입사되는 레이저 빔을 흡수하는 영료가 함유된 굴절 정합액이 들어있는 통-상기 카세트와 상기 통 사이, 상기 홀로그래픽 감광판의 유액층과 상기 반사경의 반사면 사이, 그리고 상기 홀로그래픽 감광판의 상부에는 상기 굴절률 정합액이 채워짐-을 구비하는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.2. 제 1항에 있어서, 상기 카세트 내의 홀로그래픽 감광판 위에 배치되어 있으며 상기 홀로그래픽 감광판과 동일한 굴절률을 가진 창문용 광학 유리판을 더 포함하며, 상기 홀로그래픽 감광판과 상기 광학 유리판 사이에는 상기 굴절률 정합액이 채워지는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.3. 제 1항에 있어서, 상기 반사경은 상기 카세트 내부의 밑면에 반사면을 위로하여 배치되고, 상기 카세트에는 홈이 설치되어 있어서 노광 후 상기 반사경과 상기 홀로그래픽 감광판을 쉽게 꺼낼 수 있게 되어 있는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치. 4. 제 3항에 있어서, 상기 반사경과 상기 홀로그래픽 감광판 사이의 상기 반사경의 가장자리 부근에 상기 반사경의 반사경 표면과 상기 홀로그래픽 감광판의 유액층이 서로 접촉되지 않고 전 표면에 걸쳐 일정한 간격을 유지하도록 지지 블럭이 더 배치되며, 상기 지지 블럭의 수는 상기 홀로그래픽 감광판이 상기 반사경의 반사면 위에 가장 안정되게 배치될 수 있는 최소의 수인 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.5. 제 2항에 있어서, 상기 홀로그래픽 감광판과 상기 광학 유리판 사이에 채워진 굴절률 정합액은 상기 입사 레이저 빔에 의해 가열되며, 상기 가열로 인한 상기 굴절률 정합액의 굴절률 변화량은 상기 광학 유리판과 공기와의 접촉면에서 재반사된 빔의 광 경로차가 상기 입사 레이저 빔의 한 파장 이상이 되는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.6. 제 5항에 있어서, 상기 굴절률 정합액은 모세관 현상에 의해 상기 카세트 내의 반사경의 반사면과 상기 홀로그래픽 감광판의 유액층 사이의 공간을 기포없이 채울 수 있는 특성을 가지는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.7. 6항에 있어서, 상기 반사경과 상기 홀로그래픽 감광판의 유액층 사이의 공간 내에 채워진 굴절률 정합액이 상기 입사 레이저 빔에 의해 가열됨에 따라 생기는 상기 굴절률 정합액의 굴절률 변화량은 상기 반사경의 반사경 표면에서의 반사빔에 광 경로차를 주며, 상기 반사경과 상기 홀로그래픽 감광판의 유액층 사이의 거리는 상기 광 경로차가 상기 입사 레이저 빔의 1/10파장 이하가 되도록 정해지는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.8. 제 2항에 있엇, 상기 창문용 광학 유리판은 노광 조건에 따라 형태가 다른것을 사용할 수 있는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.9. 제 8항에 있어서, 상기 창문용 광학 유리판은 상기 굴절률 정합액 표면에 떠있고, 상기 입사 레이저 빔의 위치에 따라 상기 카세트와의 상대적 위치가 달라지는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.10. 제 5항에 있어서, 상기 굴절률 정합액 속에는 상기 입사 레이저 빔을 흡수하는 염료가 포함되어, 상기 창문용 광학 유리판과 공기의 접합면 또는 상기 굴절률 정합액과 공기의 접합면에서 반사된 반사파의 위상이 교란됨으로써 상기 반사파와 상기 통 속의 다른 빔들과의 간섭이 일어나지 않는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.11.제 1항에 있어서, 상기 굴절률 정합액이 들어있는 통의 입사 빔쪽에 있는 한쪽 면은 광학 유리에 의한 창으로 되어 있고 맞은편 면은 흡수성이 강한 중성 유리로 되어 있어, 상기 카세트 내의 반사경에서 반사된 빔이 상기 중성 유리에 의해 흡수되어 상기 입사 레이저 빔이 큰 입사각으로 상기 카세트에 입사하여도 반사파가 생기지 않도로고 되어 있는 반사형 홀로그래픽 광학 소자 제작 장치.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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일반기술
재료 > 분리·환경·생체기능재료
[구성]본 발명에 따라 인접 섬유간의 거리가 미세한 부직포 위에 혈액 친화성이 좋고 인체에 부작용이 없는 천연 고분자 키토산 그래프트 중합체를 도포하여 제조한 백혈구 제거용 필터가 제공된다. 이러한 혈액 필터는 키토산 그래프트 중합체에 의해 부직포 표면상에 제공되는 양이온 잔기와 백혈구 사이의 정전기력에 의한 2차적 여과에 기인하여 백혈구 제거능이 높을 뿐만 아니라 혈소판 및 적혈구 회수율도 우수하다.1. 표면이 키토산과 혈액 친화성 고분자와의 그래프트 중합체로 도포된 부직포로 이루어진 백혈구 제거용 필터.2. 제 1항에 있어서, 상기 혈액 친화성 고분자가 폴리디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트,폴리아크릴산 및 폴리비닐술폰산나트륨염으로부터 선택되는 필터.3. 제 1항에 있어서, 상기 그래프트 중합체는 탈아세틸화도가 85내지 95%이고, 평균 분자량이 200,000내지 700.000인 키토산의 그래프트 중합체인 필터.4. 제 1항에 있어서, 인접 섬유간의 거리가 3㎛이하인 합성 또는 천연 섬유 부직포를 사용한 필터. 5. 키토산과 혈액 친화성 고분자와의 그래프트 중합체 용액으로 부직포를 도포하는 것을 포함하느 ㄴ백혈구 제거용 필터의 제조 방법.6. 제 5항에 있어서, 유기 또는 무기산중 0.1내지 5%농도의 그래프트 중합체 도포액에 부직포를 30분 내지 120분간 침지시키는 방법.7. 제 6에 있어서, 침지 도중 용액을 2시간 이하로 초음파 처리하는 방법.8. 제 6항에 있어서, 제조된 필터에 10mJ/cm²이하의 자외선을 추가로 조사하는 방법.
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
전기·전자 > 집적회로설계 기술 (B63)
[구성]광원으로 레이저를 사용하고, 감광성 물질을 원통형 렌즈의 형태로 경화시킬수 있도록 레이저 광선의 강도 분포를 조절할 수 있는 마스크를 사용하여 레이저 광선을 주사시킴으로써, 원하는 특성을 가지는 렌티큘라 판 또는 릴리프 렌즈 라스터 스크린을 제작할 수 있는 방법이 제공된다. 본 발명에 의한 렌티큘라 판 제작 장치는 레이저 광선을 감광성 물질층에 조사하여 렌티큘라 판을 제작하기 위한 장치로서, 레이저로부터 생성된 레이저 광선을 소정 직경의 평행 광선이 되도록 하기 위한 광선 평행화기, 광선 평행화기로부터 출력된 레이저 광선이 소정 강도 분포를 가지도록 하기 위한 마스크, 감광성 물질층이 도포되어 있는 감광판, 상기 감광판과 상기 마스크 사이의 광경로 상에 배치되어, 마스크를 통과한 레이저 광선이 감광판 상의 감광성 물질층의 원하는 부위에 정확하게 맺히게 하기 위한 조절 수단, 감광판의 원하는 위치에 소정 강도 분포를 가지는 레이저 광선이 조사되도록 조절 수단 및 상기 마스크를 제어하기 위한 제어 수단을 포함하여 구성되어 있다.1. 레이저 광선을 감광성 물질층에 조사하여 렌티큘라 판을 제작하기 위한 장치에 있어서, 상기 레이저 광선을 소정 직경의 평행 관선이 되도록 하기 위한 광선 평행화기,상기 광선 평행화기로부터 출력된 레이저 광선이 소정 강도 분포를 가지도록 하기 위한 마스크, 감광성 물질층이 도포되어 있는 감광판, 상기 감광판과 상기 마스크 사이의 광경로 상에 배치되어, 상기 마스크를 통과한 레이저 광선이 상기 감광판 상의 감광성 물질층의 원하는 부위에 정확하게 맺히게 하기 위한 조절 수단, 및 상기 감광판의 원하는 위치에 소정 강도 분포를 가지는 레이저 광선이 조사되도록 상기 조절 수단 및 상기 마스크를 제어하기 위한 제어 수단을 포함하는 장치.2. 제 1항에 있어서, 상기 마스크는 소정 투과 함수를 가지는 개구면을 포함하여, 상기 평행화기로부터 출력된 광선이 상기 개구면을 통과함에 따라 소정 강도 분포를 가지느 ㄴ레이저 광선이 형성괴는 장치.3. 제 2항에 있어서, 상기 투과함수 T(y)는 +&alpha:-y-αI-IndxT(x)으로 표시되고, 여기서 x는 렌즈의 중심을 통과하는 원통형 렌즈의 장축 방향의 축 상의 좌표,y는 x축과 수직이며 렌즈의 중심을 통과하는 원통렌즈의 단축 방향의 축상의 좌표이고,w..는 입사 레이저 광선의 반경,...는 감광성 물질의 흡수 계수 (Absorption coefficoient), R은 렌티큘라 판상의 렌즈의 y방향 곡률 반경, l..는 레이저 광선의 중심에서의 광 강도, l..는 y방향으로 원하는 두께의 렌즈를 형성하기 위해 필요한 광 강도, T(x)는 x방향 투과함수로서 임의의 값인 장치.4. 제 3항에 있어서, 상기 입사 레이저 광선의 x 방향 및 y방향 직경이 서로 다른 장치.5. 제 2항에 있어서, 상기 개구면은 상기 소정 투과 함수에 비례하는 밀도 분포를 가지고 레이저 광선을 통과시킬 수 있는 물질로 이루어지며, 상기 개구면을 통과한 레이저 광선이 상기 소정 투과 함수에 해당하는 강도 분포를 가지는장치.6. 제 2항에 있어서, 상기 개구면은 레이저 광선을 통과시키면서 상기 소정 투과 함수에 비례하는 밀도 분포를 가지도록 조정이 가능한 공간 광 변조기이고, 통과된 레이저 광선이 상기 소정 투과 함수에 해당하는 강도 분포를 가지도록 하는 장치.7. 제 1항에 있어서, 상기 조절 수단은 상기 마스크를 통과한 레이저 광선이 감광판 상에 소정 크기로 조사되도록 하기 위한 수단 및 상기 마스크를 통과한 레이저 광선을 가로 세로 방향으로 이동시키기 위한 수단을 포함하는 장치.8. 제 1항에 있어서, 상기 조절 수단은 상기 마스크를 통과한 레이저 광선이 감광판 상에 소정 크기로 조사되도록 하기 위한 수단 및 상기 감광판을 가로 세로 방향으로 이동시키기 ㅜ이한 수단을 포함하는 장치.9. 제 8항 또는 제 9항에 있어서, 상기 마스크를 통과한 레이저 광선이 감광판 상에 소정 크기로 조사되도록 하기 위한 수단은 회절 광학 소자를 포함하는 영상 광학용 렌즈인 장치.10. 제 1항에 있어서, 상기 감광판에 도포되어 있는 감광성 물질층의 두께는 제작하고자 하는 렌티큘라 판의 두께와 같거나 그보다 두꺼운 장치.11. 제 1항에 있어서, 상기 감광판은 도포된 상기 감광성 물질층이 광경화성 물질로 된 장치.12. 제 12항에 있어서, 상기 광경화성 물질은 DCG(Dichromatic Gelatine)인 장치.13. 레이저 광선을 감광판 상에 도포되어 있는 감광성 물질층에 조사하여 렌티큘라 판을 제작하는 방법에 있어서, 상기 레이저 광선을 소정 직경의 평행 광선이 되도록 하는 단계, 상기 평행화된 레이저 광선이 소정 강도 분포를 가지도록 마스킹하는 단계, 및 상기 마스킹된 레이저 광선이 상기 감광판 상의 감광성 물질층의 원하는 부위에 정확하게 맺히도록 조준하는 단계를 포함하는 방법.14. 제 14항에 있어서, 상기 마스킹 단계는 상기 평행화된 레이저 광선을 소정 투과 함수를 가지는 개구면으로 통과시키는 단계를 포함하는 방법.15. 제 14항에 있어서, 상기 투과함수 T(y)는 +&alpha:-y-αI-IndxT(x) 으로 표시되고, 여기에서 x는 렌즈의 중심을 통과하는 원통형 렌즈의 장축 방향의 축 상의 좌표,y는 x축과 수직이며 렌즈의 중심을 통과하는 원통렌즈의 단축 방향의 축상의 좌표이고,w..는 입사 레이저 광선의 반경,...는 감광성 물질의 흡수 계수 (Absorption coefficoient), R은 렌티큘라 판상의 렌즈의 y방향 곡률 반경, l..는 레이저 광선의 중심에서의 광 강도, l..는 y방향으로 원하는 두께의 렌즈를 형성하기 위해 필요한 광 강도, T(x)는 x방향 투과함수로서 임의의 값인 방법.16. 제 16항에 있어서, 상기 입사 레이저 광선의 x방향 및 y방향 직경이 서로 다른 방법.17. 제 15항에 있어서, 상기 개구면은 상기 소정 투과 함수에 비례하는 밀도 분포를 가지고 레이저 광선을 통과시킬 수 있는 물질
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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전기·전자 > 영상·음향기기
[구성]본 발명은 기존의 평면 TV를 영상원으로 하여 프레넬 렌즈 또는 홀로그래픽스크린을 포함한 투사 광학 시스템과의 조합에 의해 안경을 사용하지 않고서 선명도가 뛰어난 입체 및 평면 영상을 모두 시청 가능하게 하는 천연색 입체 및 평면영상 표시 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 입체 및 평면 영상 시스템은 상기 시청자 중 중앙 시청자의 시축에 대해 서로 대칭이 되도록 배치되고 평면 영상들을 발생시키기 위한 한 쌍의 영상 발생기, 상기 영상 발생기로부터의 영상의 광로에 배치되고 상기 시축에 대해 서로 대칭이며, 각각이 상기 영상 발생기로부의 상기 평면영상들을 상기 시축 방향으로 반사시키기 위한 한 쌍의 반사경들, 상기 반사경으로부터 반사핀 평면 영상의 광로에 배치되고 각각의 상기 반사된 상기 평면 영상이 각각에 상응하여 투사되어 상기 평면 영상들을 확대시켜서 색 분산을 줄이며 상기 확대된 영상을 중첩시키기 위한 한 쌍의 색지움 렌즈, 및 상기 색지움 렌즈로부터의 영상의 광고에 배치되고, 상기 색지움 렌즈로부터의 영상이 투사되어 다시역과 넓은 시야를 갖도록 하는 회절 수단을 포함한다. 이 영상 장치는 기존의 입체 영상 표시 장치에서 입체 영상만을 시청할 수 있는 것과는 달리 평면 영상의 시청도 가능하므로 입체 영상 시청에 따른 눈의 피로를 완화시킬 수 있다. 또한 기존의 무안경식 입체 영상 표시기에 비해 다시역을 가지며 시야가 매우 넓다.1. 다수의 시청자가 입체 영상 및 평면 영상을 선택적으로 시청하도록 하기 위한 입체 및 평면 영상 시스템으로서, 상기 시청자 중 중앙 시청자의 시축에 대해 서로 대칭이 되도록 배치되고 평면 영상들을 발생시키기 위한 한 쌍의 영상 발생기, 상기 영상 발생기로부터의 영상의 광로에 배치되고, 상기 시축에 대해 서로 대칭이며, 각각이 상기 영상 발생기로부의 상기 평면 영상들을 상기 시축 방향으로 반사시키기 위한 한 쌍의 반사경들, 상기 반사경으로부터 반사된 평면 영상의 광로에 배치되고 각각의 상기 반사된 상기 평면 영상이 각각에 상응하여 투사되어 상기 평면 영상들을 확대시켜서 상기 확대된 영상을 중첩시키기 위한 한 쌍의 색지움 렌즈, 및 상기 색지움 렌즈로부터의 영상의 광로에 배치되고, 상기 색지움 렌즈로부터의 영상이 투사되어 상기 영상이 다시 역과 런은 시야를 갖도록 하는 회절 수단을 포함하고, 상기 회절 수판을 투과한 영상은 상기 시축에 수직한 평면 위에서 직교하는 두 방향을 따라 각각이 입체 영상과 평면 영상을 구비한 다수의 매트릭스 형태로 배열된 시역들을 형성하여 다수의 시청자가 동시에 입체 영상과 평면 영상을 시청하도록 하는 입체 및 평면 영상 시스템.2.제 1항에 있어서, 상기 다수의 매트릭스 형태로 배열된 시역들의 각각은 그 중심 영역에 입체 영상을 구비하고, 상기 입체 영상 주변에 평면 영상을 구비하는 입체 및 평면 영상 시스템.3. 제 1항에 있어서, 상기 영상 발생 수단은 CRT인 입체 및 평면 영상 시스템.4. 제 1항에 있어서, 상기 영상 발생 수단은 광을 발생시키기 위한 광원, 상기 광원으로부터의 광을 산광시키기 위한 산광기, 상기 산광기로부터의 광을 접속하기 위한 집속 렌즈, 및 상기 집속 렌즈로부터의 광이 투사되는 액정 디스플레이를 포함하는 입체 및 평면 영상 시스템.5. 제 1항에 있어서, 상기 색지움 렌즈는 직사각형의 중심에 있으며, 상기 색지움 렌즈들의 접촉면이 상기 시축과 일치하며, 상기 색지움 렌즈들은 상기 시축에 수직이 되도록 대치된 입체 및 평면 영상 시스템.6. 제 1항에 있어서, 상기 회절 수단은 다시역을 갖는 홀로그래픽 스크린인 입체 및 평면 영상 시스템.7. 제 1항에 있어서, 상기 회절 수단은 프레넬 렌즈인 입체 및 평면 영상 시스템.
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- 2001-01-17
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