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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

액정표시장치의 소오스 드라이버

●본 발명은 액정표시장치의 소오스 드라이버에 관한 것으로 특히, 인접한 두 개의 주사라인에 인가되는 구동신호를 제어하여 하나의 데이터 라인으로 그 양쪽의 화소영역에 화상신호를 전달할 수 있게 함으로써 데이터 라인수를 절반으로 줄일 수 있게 하여 고해상도를 유지하면서 생산 코스트를 절감할 수 있게 한 액정표시장치의 소오스 드라이버에 관한 것임.●하나의 데이터 라인이 그 좌측과 우측의 두 화소역역에 선택적으로 화상신호를 전달할 수 있으므로 데이터 라인의 수를 절반으로 감소되므로 소오스 드라이버의 수도 절반으로 감소 시킬 수 있음.●소자의 사이즈를 감소시킬 수 있고 동시에 코스트를 절감시킬 수 있음.●동일 사이즈에서 더 많은 화상을 디스플레이 할 수 있으므로 고해상도를 실현 할 수 있음.●관련 권리 -액정표시장치(특허 제0291770호)에서 분할 출원된 건임. -해외 출원: 미국,일본,중국,대만,유럽●국내 굴지의 반도체회사에서 기술성 및 사업성 검토후 기술이전 요청

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(주)네오텍리서치
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2001-11-23
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

액정표시장치의 게이트 드라이버

● 본 발명은 액정표시장치의 게이트 드라이버에 관한 것으로 특히, 인접한 두 개의 주사라인에 인가되는 구동신호를 제어하여 하나의 데이터 라인으로 그 양쪽의 화소영역에 화상신호를 전달할 수 있게 함으로써 데이터 라인수를 절반으로 줄일 수 있게 하여 고해상도를 유지하면서 생산 코스트를 절감할 수 있게 한 액정표시장치의 게이트 드라이버에 관한 것임.●하나의 데이터 라인이 그 좌측과 우측의 두 화소역역에 선택적으로 화상신호를 전달할 수 있으므로 데이터 라인의 수를 절반으로 감소되므로 소오스 드라이버의 수도 절반으로 감소 시킬 수 있음.●소자의 사이즈를 감소시킬 수 있고 동시에 코스트를 절감시킬 수 있음.●동일 사이즈에서 더 많은 화상을 디스플레이 할 수 있으므로 고해상도를 실현 할 수 있음.●관련 권리-액정표시장치(특허 제0291770호)에서 분할 출원된 건임.-해외 출원: 미국,일본,중국,대만,유럽●국내 굴지의 반도체회사에서 기술성 및 사업성 검토후 기술이전 요청

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(주)네오텍리서치
등록일
2001-11-23
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

액정표시장치의 게이트 구동방법

● 본 발명은 액정 표시 장치의 게이트 구동기술에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 복수개의 게이트 라인을 동시에 구동하되 스캔신호의 하강 시간을 다르게 하여 라인타임을 확장할 수 있는 대면적 고해상도 액정 표시 장치의 게이트 구동방법에 관한 것임.●본 발명에 따르면 복수개의 게이트 라인에 동시에 스캔신호를 인가하되 하강하는 시간을 다르게 함으로써 해상도를 떨어뜨리지 않고서도 라인타임을 증가시켜 화소전극을 충분히 충/방전할 수 있는 효과가 있음. 더욱이 홀수라인과 짝수라인의 하강 조건을 동일하게 함으로써 기생 커패시턴스에 의한 화질 열화를 방지할 수 있음.●관련 권리-해외 출원: 미국,일본,중국,대만,유럽●국내 굴지의 반도체회사에서 기술성 및 사업성 검토후 기술이전 요청

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(주)네오텍리서치
등록일
2001-11-23
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

액정표시장치의 소오스 구동회로 및 그 구동방법

●본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로, 특히 소비전력을 감소시키는데 적당하도록 한 액정 표시 장치의 소오스 구동회로 및 그 구동방법에 관한 것임. 종래의 액정표시장치의 소오스 구동방법에 있어서 문제점을 보면, 소오스 구동 소비 전력은 영상신호의 스윙 폭에 비례하기 때문에 2수평 주기마다 전력이 발생하여 큰 전력이 소비 됨. 본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 전압 스윙 폭이 큰 극성 변조의 소비 전력을 줄임과 동시에 증폭기의 구동 소비 전력을 줄이도록 한 액정표시장치의 소오스 구동회로 및 그 구동방법을 제공하는데 그 목적이 있음.● 다단계 소오스 구동방식에서는 전압 스윙 폭이 큰 극성 변조는 다단계 전하를 통한 전하 리커버리 방식을 이용해 소비 전력을 감소시키고, 증폭기는 그레이 스케일 표시에 필요한 정도의 소비 전력만을 공급하게 함으로써 구동소비 전력을 줄일 수 있음. ●관련 권리-해외 출원: 미국,일본,중국,대만,유럽●2001년 미국 San Jose SID Conference에서 논문 발표 ●영국 BTG International Inc.사로 부터 기술이전 관심 표명

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(주)네오텍리서치
등록일
2001-11-26
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

환경분석용 MIR 레이저 - 분광계

이것은 매우 간편하고 소지하기 쉬운 중간적외선 분광범위를 나타내주는 분광계가 될 것이다. 그것은 AgGaS2-크리스털에 있는 곡선형으로 시각적인 DFG효과를 기본으로 하고 있다. 2개의 평범하고 쉽게 살 수 있는 단순모드 Dioden 레이저가 시발점으로 사용되어진다.환경분석을 위해 쓰여지는 운송 가능한 분광계를 통해 중간 적외선 분광범위와 이 시스템을 적용할 수 있도록 손쉽게 얻을 수 있는 레이저 빛의 생성선택적이고(일정한 부분에 작용하는) 민감한 원소증명에 매우 적합한 중간적외선의 분광범위의 대한 레이저 빛의 생성기는 보통 크고 복잡하다. Dioden레이저를 갖고 DFG방법으로 만들어낸 새로운 조합으로 간편하고 이동 가능한 레이저 분광계를 가능하게 했다.

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대일기업평가원
등록일
2002-02-04
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

회전형 헤드드럼 어셈블리

본 발명은 테이프 레코더 등에서 정보의 기록 및 재생을 위해 핵심 부품으로 사용되는 헤드드럼 어셈블리에 관한 것으로서, 좀더 구체적으로는 상부 드럼을 회전축과 무관하게 공회전 될 수 있도록 구성하고 헤드는 별도의 플랜지에 고정 착설한 상태에서 회전축과 일체로 결합시킴으로써 회전축이 헤드 플랜지만을 회전시키고 상부 드럼은 테이프와의 마찰을 통해 회전되도록 함으로써 상부 드럼과 헤드의 회전이 개별적으로 이루어질 수 있도록 한 것으로, 드럼의 회전속도와 무관하게 헤드의 회전속도를 일정하게 유지하는 것이 가능하여 화질의 불량 없이 다양한 변속 재생이 가능하며 테이프와 드럼간의 마찰열 발생이 거의 없어 테이프의 열화 또는 스크레치 등의 손상 방지를 통해 정보 보존의 안정성과 사용 수명의 연장을 기할 수 있으며, 드럼의 회전속도를 테이프의 주행속도와 일치되도록 별도로 제어할 필요가 없어 제조공정의 단축과 원가의 절감을 기할 수 있도록 한 것이다.본 발명은 테이프 레코더와 캠코더 등에서 정보의 기록 및 재생을 위해 핵심 부품으로 사용되는 헤드드럼 어셈블리에 관한 것으로서, 좀더 구체적으로는 상부 드럼을 회전축과 무관하게 공회전 될 수 있도록 구성하고 헤드는 별도의 플랜지에 고정 착설한 상태에서 회전축과 일체로 결합시킴으로써 회전축이 헤드를 지지하는 플랜지만을 회전시키고 상부 드럼은 테이프와의 마찰을 통해 회전되도록 함으로써 상부 드럼과 헤드의 회전이 개별적으로 이루어질 수 있도록 한 것으로, 드럼의 회전속도와 무관하게 헤드의 회전속도를 일정하게 유지하는 것이 가능하여 화질의 불량 없이 다양한 변속 재생이 가능하며 테이프와 드럼간의 마찰열 발생이 거의 없어 테이프의 열화 또는 스크레치 등의 손상 방지를 통해 정보 보존의 안정성과 사용 수명의 연장을 기할 수 있으며, 드럼의 회전속도를 테이프의 주행속도와 일치되도록 별도로 제어할 필요가 없어 제조공정의 단축과 원가의 절감을 기할 수 있도록 한 것이다.

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DAZONE
등록일
2002-03-07
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

화상회의 시스템의 카메라 줌 배율 조절장치 및 그 방법

본 발명은 화상회의 시스템의 카메라 줌 배율 조절 장치 및 그 방법에 관한 것으로 특히, 화상회의 수행중 참석자들의 착석 위치를 기억하여 기억된 착석 위치의 촬영시 그에 적합한 줌 배율이 설정 되도록 하는 화상회의 시스템의 카메라 줌 배율 조절장치 및 그 방법에 관한 것이다. 이러한 본발명은 적어도 하나 이상의 피사체 존재시 상기 피사체 각각의 위치와 위치한 방향을 검출하고 상기 검출된 위치 및 방향 각각에 대응하는 줌 배율을 설정하여 저장하며 피사체의 촬영시 촬영되는 피사체의 위치 및 방향에 대응하여 상기 저장된 줌 배율을 독출하고 상기 독출된 줌 배율로서 카메라의 줌 배율을 조절하고 상기 조절된 줌 배율로서 피사체를 촬영하는 카메라 줌 배율 조절 장치 및 그 제어 방법을 특징으로 한다.화상회의 수행 중 참석자들의 착석 위치를 기억하여 기억된 착석위치의 촬영시 그에 적합한 줌 배율이 자동으로 설정 되도록 하여 보다 원활한 화상 회의를 진행하도록 하는 효과를 발생한다.또한, 촬영되는 피사체의 위치가 서로 상이한 경우 별도의 카메라 줌 배율조작 없이 해당 피사체를 적절한 상태의 줌 배율로서 촬영할 수 있어 사용상의 편리성이 증가되는 이점이 있다.

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스타아이리서치
등록일
2002-03-28
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

휴대용 보안 인증 장치 및 시스템 그리고 그의 작동방법

본 발명은 휴대용 보안 인증 장치 및 그의 시스템에 관한 것이다. 이러한 본 발명은 사용자 고유로 갖는 생체적 특징의 패턴(지문 및 음성 등)을 인식하여 허가된 사용자 여부를 결정하고 상기 결정 결과에 따라 사용자의 패스워드 안내 및 패스워드 입력동작, 그리고 사용 및 접근하고자 하는 시스템의 개방과 상기 시스템 개방을 원격 상태에서 이룰 수 있도록 한다. 이와 같은 본 발명의 실시를 통해 빈번히 발생하는 개인 패스워드의 노출과 잊어버림, 그리고 등록된 사용자에 한해 서 그 접근 권한을 주는 통제 시스템에서 비밀번호 노출과 잊어버림의 문제를 보다 간편하고 용이하게 해소 할 수 있다.사용자 정보의 보안이 강력하게 유지 될 수 있는 이점이 있다. 그와 더불어 패스워드 및 비밀번호 입력을 필요로 하는 여러 카드들을 하나로 통합하여 관리할 수 도 있으며, 사용자가 보다 편리하게 패스워드 및 비밀번호 입력과 기억을 행할 수 있는 이점이 있다.따라서, 현대인에게 있어 기억하기 어려운 패스워드 및 비밀번호를 잊지 않도록 하고, 패스워드 노출에 의해 발생될 수 있는 문제를 해소할 수 있는 이점이 있다.

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스타아이리서치
등록일
2002-03-28
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

평면네온사인 및 다층 디스플레이기술

기존 네온 사인물을 대체하는 인테리어 개념의 신기술로서 대형 동영상 시장에 적합한 기술입니다. 본 Display는 평면 GAS 방전관을 이용한 구조로서, 다층 구조물에 의한 3색 구현이 가능하고 대형 화면화에 용이한 기술입니다.천연색 연출 및 형상 표현이 자유롭고, 초대형 화면 제작이 용이하며, 반 영구적인 수명을 제공하며, 설치 및 구동 관리가 용이합니다. 또한, 제작의 자동화에 의한 제조원가가 저렴합니다.

등록일
2002-04-08
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

적외선 광무선 LAN 시스템

본기술은 무선 통신망 구축을 위해서 각종 테이터 및 영상을 적외선 및 레이저에 실어서 공간을 통해 원하는 곳까지 전송하는 광통신 기기로서 기존의 Radio파 방식의단점을 극복하고 정확하고 빠르며 대용량의 데이터 전송이 가능하도록 만든 시스템이다.Radio파 방식에 비해 고용량의 데이터 전송, 전송 도중 데이터가 끊어진 경우에도 이어받기가 가능하다.적외선 및 레이저에 실어서 공간을 통해 원하는 곳까지 전송하는 광통신 기기로 기존의 Radio파 방식의 단점을 극복하고 정확하고 빠르며 대용량의 데이터 전송이 가능하다. 본 기술의 장점으로는 1. 케이블이 없어 보기가 좋고 설치 시간 단축. 2. 무선 통신 자격 취득이 필요치 않고, 3. 고용량, 고속의 데이터 통신이 가능 하며, 4. 광선 type으로 주파수의 영향을 받지 않으며, 5. 10Mbps ~1.25Gbps의 속도를 지속적으로 유지 가능하며, 6. 중계기없이 4Km까지 통신이 가능하고, 7. 보안성이 뛰어나 보안이 중요시 되는 관공서, 군부대에 적하고, 8. 전자파의 해가 없다는 것이 큰 특징이다.

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한국테크노마트(사)
등록일
2002-04-11
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

CRT, LCD연마용 세륨연마재 제조법

LCD는 유리의 주성분인 이산화규소(silicon oxide)를 원료로 하여 용융,성형,배선 등의 공정을 거쳐서 제품화하는데 약0.6mm두께 정도로 성형하는 과정에서 흠scratch)과 요철(평탄도,flatness)이 발생한다. 이것이 난반사 현상을 일으켜 사용자에게 큰 시각 장애를 유발하는 불량품이 되기 때문에 이를 제거, 최소화를 해야 하는데 여기에 사용되는 것이 세륨연마재이다. 이 기술은 세륨50%이상,철분0.5%이하로 함유된 세륨화합물을 원료로 선택하여서 입자평균직경 1-3마이크로미터로 분쇄하는 초미립자 분쇄, 분쇄된 재료에 물성변화를 주기 위한 열처리, 연마력을 보장하는 보조 첨가재와의 혼합, 이물질 제거를 위한 수세척, 분산재를 사용하여 연마재료 입자의 응집 발생 현상을 억제하고 2가지 재료의 균일한 분포를 위한 분산, 건조 그리고 좁은 입자범위를 갖게 하기 위한 분급의 일련의 과정으로 연구,개발을 진행하였다.1.분쇄기 내부의 철분에 의한 scratch발생을 억제하고 초미립자로 분쇄하는 분쇄방법.2.원재료에 결정구조의 변화를 주어서 scratch발생을 억제하기 위한 열처리의 온도와 유지 시간.3.최적의 연마력 보장을 위한 첨가제의 선택과 혼합비.4.요철발생의 최소화를 위해 원료의 균일한 분포를 갖게하는 분산재의 선택과 혼합비율.5.요철발생의 최소화를 위한 좁은 입자범위와 수요처에 요청에 따라 1종류 또는 2종류 가 동시 생산 가능한 다단 분급 방법의 개발.6.본 제품은 년간 1500-1800ton정도의 국내 수요를 충족하고 수출이 가능한 경쟁력이 있는 외산대체 국산품이다. 주요 수출 대상국가는 전기,전자 산업에 대규모를 투자 하고 있는 있는 중국은 새로이 부상하는 대규모의 신흥 시장이다.

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개인연구자
등록일
2002-04-11
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

이미지 형상을 위한 전처리와 인코딩 기술

필터링과 edge enhancement과 같은 과거의 기술은 압축할 때 손실이 있고, 왜곡되어진 이미지를 복원해야 한다. 그러고, 이러한 기술들은 압축할 때 사용했던 특정 형태에 대한 정보를 무시한다. 이미지를 저장하거나 전송하기 전에 원본 이미지와 특정 부위의 영상을 선명하게 생성한 이미지를 비교하면서, 이때 사용된 여러 정보를 encode한다. 즉, 이미지를 하나 또는 여러 개로 나누어 다양한 압축 알고리즘으로 이미지를 각각 적용하고, 이때 사용한 정보를 첨가하여 하나의 파일을 만들어 저장하거나 전송한다. 그리고, 이미지가 의도대로 개선되었는지를 결정하기 위해 압축된 이미지를 decode하여 원본 이미지와 비교할 수 있다. 이미지가 향상된 부분의 map을 이미지 파일에 함께 넣음으로써 자체 검증 척도로도 활용화 할 수 있다. 이러한 방법은 다양한 표준 압축 알고리즘의 사용과 압축시 대역폭을 다양화 할 수 있으며, 이미지를 최대한 적게 왜곡시킨다.- JEPG를 포함한 어떠한 format으로도 image를 encoding 할 수 있다.- 이와 같이 생성된 이미지 파일은 표준 비압축 알고리즘에 의해 decoding 되고, 또는 진보된 비압축 알고리즘에 의해 decoding 될 수 있다.- 대역폭이나 왜곡 문제의 최소화- decoding 하는데 계산이 간단하여 과부하를 감소시키며, 병렬적으로 decoding 할 수 있다.

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대일기업평가원
등록일
2002-04-12
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

진공 형광 디스플레이 (T-1.334)

고도의 인간공학 특징을 여러패턴의 문자와 숫자의 조합 형태로 된 정보로써 디스플레이한다. 동 제품은 기하학적 다양성을 확보하고 있으며, 다양한 색깔과 음영, 고휘도 레벨의 형광체에서 작동되어진다.이 제품은 프로세스 장치, 산업용 라디오 / 전자 장비, 가정용 전기 기기에 함께 설치될 때 가장 효율적으로 작동 됨동 제품은 기하학적 다양성을 확보하고 있으며, 다양한 색깔과 음영, 고휘도 레벨의 형광체에서 작동되어진다.아울러 동 제품의 생산 방법은 기타 경쟁 회사와 동일하나, 생산에 잇어서의 유연성은 원가 절감의 효과를 극대화하여, 기존의 한국, 일본의 업체와 비교하여 경쟁성이 띄어남. 현재 전체 생산량의 40%가 수출되고 있음.

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티알씨코리아
등록일
2002-05-03
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

레이져 반도체 에미터 (T-1.336)

이 제품은 음파 시스템과 광 시스템, 정보송신, 매개변수 콘트롤 시스템, 측정 기계와 장치, 그리고 컴퓨터에 사용된다. 다른 응용장치들은 레이저 반도체 이미터에 기초하여 제조된다. ; 광범위한 구강상의 질병 치료와 예방을 위한 레이저 치료 장치; 광섬유 경보 시스템 “Pluto” (전자기 분야의 효과에 안정성을 갖고 있으며, 기계적 충격에 의해 알람 신호를 일으킨다)반도체 레이저는 필수 초소형 회로의 전압 펄스 상태로 광학 광선으로 변환되어, 광섬유 시스템의 송, 수신이 빠르게 반응되어지게 한다.광섬유 케이블(500-700 m)을 따라 전송되며, TTL-ECL의 전압 펄스 호환에 의해 역변환 된다.기계적, 기후적 변화에 높은 저항성이 있음.

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티알씨코리아
등록일
2002-05-03
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

고성능 알루미늄 자유활동영역 반도체 레이저

700nm에서 800nm의 범위를 가지는 파장으로 빛을 방출하는 반도체 레이저는 알루미늄 자유 활성영역 레이어를 이용한다. 에칭 구조는 GaAs 와 AlGaAs 기판위에 성장하고 활성영역 레이어와 활성 영역층과 이웃한 컨파인먼트 레이어와 클래딩 레이어를 포함한다. 활성영역 레이어는 적어도 하나의 압축된 InGaAsP 전이층에 둘러싸인 양자 우물로 이루어져 있다. 이는 700nm와 800nm 사이에 선택된 파장의 빛을 방출하기 위해 선택된 활성영역의 폭과 조합으로 이루어진다. 높은 밴드갭 InGaAlP 클래딩(cladding) 레이어와 컨파인먼트 레이어는 양자우물에서 캐리어 누수(carrier leakage)를 방지하고 양자우물의 결정질을 개선한다. 이 레이저는 활동영역에서 알루미늄이 필요한 같은 파장범위를 방출하는 레이저 구조에서 얻을 수 있는 것보다 더 긴 수명을 위해 높은 신뢰도로 높은 파워에서 사용가능하다.양자 우물에서의 캐리어 누수를 방지한다. 양자 우물의 결정질을 개선한다.수명이 길고 고출력파워에서도 사용 가능하다.

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대일기업평가원
등록일
2002-05-09
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

다기능 실리카졸과 실리카 분말 제조기술

주)석경 에이ㆍ티는 1994년 12월 석경화학으로 출발하여 지난 7년간 Nano Particle에 대한 연구개발을 중점적으로 실시하여 온 무기물 초미립자 생산업체로서 지금까지는 그다지 알려지지 않았던 Display용 정밀화학재료와 전자부품용 Ceramic 원료분말 등 고기능성 Sol 및 Powder 생산은 물론 새로운 용도개발을 위한 신상품에 관한 연구개발 및 이를 이용한 원료 및 제품 전문생산업체로의 도약을 추진하고 있다.본 기술은 고기능성 Silica Sol 및 Powder를 제조하는 기술로서 유기금속화합물을 원료로하여 구형의 미립자를 생성시켜 Silica Sol을 만들고, 이 Sol을 건조함으로써 Silica Powder를 제조하는 기술이다. 핵심적 기술로서는 핵(Seed) 생성기술 및 입자성장기술, 무기 Binder 배합기술, Sol 용매치환기술, 입자 응용기술, 굴졀율조절 기술, Powder 표면개질 기술 등이다. NANO Technology를 이용한 무기물 초미립자 생산공정으로서 Display용 전자부품 및 전자부품용 Ceramic 원료분말의 합성, 생산 및 새로운 market으로의 적용이 가능한 특징을 지니고 있다. 특히 Seed generation 및 Seed growth, binder formulation, Sol-gel exchange 등의 분야에서 우수한 기술이다. 또한, Parxzle의 표면 Coating에 의한 표면 특성의 활성화 등으로 새로운 파생 기술의 가능성이 있으며, 유기 및 무기안료 분산체의 Display사업으로 적용할 수 있고 외국 수입소재의 매체효과 및 국산화 및 가격경쟁력을 갖출 것으로 기대된다. 또한, 표면코팅 등 광학특성의 변화로 인한 응용분야도 새로운 시장으로의 가능성이 많은 기술이다.

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특허법인충정
등록일
2002-05-15
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

강화된 위상이동제거 브라이트 픽 마스크와 사용법

본 기술은 게이트 폭이 30nm 이하인 나노소자를 제조하기 위한 고해상도 리도그래피(lithography)이다. 리도그래피 공정은 웨이퍼에 이미지를 투영하고, 이 이미지는 칩의 속도를 결정하는 폭을 가지는데 이용된다. 예로 펜티엄3과 펜티엄4 칩은 명목상 약 180nm와 120nm의 노드 사이즈를 가지고 있다. 거기에는 더 작은 모양을 만들지 못하는 몇 가지 제약이 있는데 그중 하나는 회절이다. 회절은 마스크에 있는 모양보다 더 크게 칩에 모양이 생성되는 원인이 되는 리도그래피 공정의 불필요한 부작용이다. PSM(phase shifting mask)을 포함해서 회절 효과를 최소화 할려고 많은 기술들이 채용되었는데 PSM은 회절을 최소화 하기 위해 위상 차이를 조정한다. 그러나 더 작은 파장을 가진 X 레이와 함께 PSM은 1차원적인 해상도의 강화만 가져올 뿐이었다. 이 기술은 소자 게이트 폭과 같이 1차원적인 모양뿐만 아니라 접촉홀(contact hole) 또는 vias 같은 2차원적인 패턴에도 사용되는 깨끗한 위성 이동 마스크를 제공한다. 특히 개개의 에지와 결합하고 있는 bright-peak 사이에 일어나는 간섭같은 두 개의 인접 위상 이동 에지(edge)를 위치시켜 회절을 최소화하고 인텐서티(intensity)를 세게한다.마이크로프로세서 같은 저밀도 초소형회로를 위한 1차원,2차원 패턴 이미징에 적합하다.프린트된 웨이퍼의 모양은 마스크 모양 보다 작다.마스크와 웨이퍼사이 틈의 구속이 적어진다.이 공정은 intensity를 강화하고 positive resist가 덜 민감해도 된다.

보유기관
대일기업평가원
등록일
2003-01-27
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

산 의존 Fluorophores를 이용한 화학증폭 포토레지스트 이미징 acids

화학적으로 증폭된 포토레지스트의 이미징 acids법은 산 의존 fluorophore로 이루어진 화학폭된 포토레지스트를 방사선에 노출시키는 것을 포함한다. 예를 들어 자외선 같은 방사선에 노출해 화학증폭 포토레지스트는 산을 생산하고 이것은 산 의존 fluorophore 의 형광에 의해 가시화된다. 이런 식으로 포토레지스터의 산의 위치를 알 수 있는 맵을 제공한다. 레지스트요소를 굽기 전에 먼저 이미지들이 보이게 된다. 산 의존 fluorophore를 이루는 화학 증폭 포토레지스트는 이 기술의 실용화에 유용하다. 이 방법은 포토액시드 제너레이터의 효율을 조사하는데 특별히 사용되고 포토 레지스트 안에 발생된 산의 양을 직접 조사할 수 있게 해준다.포토레지스트속의 산의 양 직접 측정 가능하다.

보유기관
대일기업평가원
등록일
2003-01-27
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일반기술 전기·전자 > 기타 반도체

포토레지스트 시트를 형성하는 미세구조 형식

미세구조형식에서 형성된 PMMA(polymethylmethacrylate) 같은 포토레지스트 시트는 변형이 없다. 이것은 원하는 두께로 기판에 앞뒤로 붙여서 제작된다. 이 포토레지스트는 마스크를 통해서 X-레이 같은 방사능에 노출시켜 만들어지고 민감하다고 알려진 포토레지스트소재를 제거해서 만들어진다. 미세 금속 구조는 포토레지스트가 제거된 영역에서 전기도금에 의해 형성된다. 포토레지스트 그 자신은 유효한 미세 구조를 형성하고 포토레지스트에 영향을 받지 않는 제거제로 사용해 제거할 수 있는 시트와 기판사이의 릴리즈층(release layer)을 이용해서 기판으로부터 제거된다. 형성된 포토레지스트의 다중층은 복잡한 3차원 미세구조로 만든다.포토레지스트 내의 매우 작은 내부 변형은 더 두꺼운 포토레지스트 구조를 만들게 한다.자유로운 구조를 생산할 수 있다.모든 3차원에서 다양한 모양을 가질 수 있는 전해석출법(electrodeposition)에 의한 금속구조를 생산할 수 있다.

보유기관
대일기업평가원
등록일
2003-01-27
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Scarificial 금속층과 다단 Deep X-레이 리소그래피를 이용한 미세구조형성

실질적인 임의의 삼차원 모양을 생산할 수 있는 다중 마스크 토울을 이용한 초소형 차원으로 복잡한 금속구조가 형성된다. 첫째금속의 첫 번째 층은 포토레지스트에 빈자리를 채우기 위한 노출된 도금판의 기초위에 전기도금 된다. 이 포토레지스트는 제거되고 두 번째 금속은 sacrificial 금속을 이루는데 첫 번째 층과 도금판 기초위에 전기 도금된다. 적층된 두 번째 금속의 노출면은 실질적으로 프라이머리와 세컨드리 금속 양쪽에 교차하여 연장된 평평하고 균일한 표면을 생산하기 위해 첫 번째 금속에 노출된 높이에 그 다음 기계에 걸린다. 프라이머리 금속에 세컨드리 금속에 의해서 제공된 역학적 안정성 때문에 프라이머리와 세컨드리 금속의 기계가공을 세컨드리 금속이 용이하게 하다. 프라이머리와 세컨드리 금속의 첫 번째 층이 가공되고 난 다음에 다른 포토레지스층이 프라이머리와 세컨드리 금속위에 적용되고 프라이머리 금속의 두 번째층은 전기 도금된다. 세컨드리 금속의 그이상의 층은 원하면 더 전기도금 될 수 있다. 원하는 구조가 형성될 때까지 전기도금과 가공의 과정이 되풀이된다. 세컨드리 금속은 프라이머리 금속을 에칭하지 않는 etchant에 의해 제거된다.완전히 또는 부분적으로 접착된 완전한 자유 금속 구조의 제조가 가능하다.거의 임의의 삼차원구조를 제조할 수 있다.할로우 튜브나 브리지 같은 복잡한 구조를 포함해서 금속을 이루는 초소형의 구조를 형성하는데 유용하고 수력이나 공기력적인 최소 디바이스에도 유용하다.

보유기관
대일기업평가원
등록일
2002-05-16
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