일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
*원리 및 구성본 발명은 N,N-디글리시딜알킬아민 화합물의 효율적 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반응물질로 알킬아민과 에피할로히드린을 사용하여 별도의 용매와 촉매의 사용 없이 반응시켜 중간체인 N,N-비스(3-할로-2-히드록시프로필)알킬아민을 생성시킨 후, 이를 분리 또는 정제과정 없이 알칼리금속 화합물과 반응시켜 고수율, 고순도의 N,N-디글리시딜알킬아민 화합물을 효율적으로 제조하는 방법에 관한 것이다. *종래기술종래 알려진 글리시딜 화합물의 합성법은 주로 알콜류와 에피클로히드린을 반응물질로 사용하여 제조하고 있으며, 다음과 같이 세 가지로 분류할 수 있다.첫 번째 공지방법은 알코올류와 에피클로로히드린을 황산, 과염소산 및 보론 트리플루오라이드 등의 루이스산 촉매하에서 60 ℃ 정도로 가열하면서 반응시켜 클로로히드린 에테르를 제조하고, 이어서 클로로히드린 에테르에 알칼리를 첨가하여 분자내를 고리화시키는 2단계 법이 알려져 있다.[일본특허공개 소57-31921호]. 그러나 상기 종래방법에서는 루이스산 촉매를 사용해야 하므로 장치의 부식, 조작상의 안전성 등에 문제가 있다. 그리고 제조과정이 매우 복잡하다는 단점이 있다.두 번째 공지방법은 M. Okahara에 의해 보고된 것으로, 알코올류와 에피클로로히드린을 알칼리금속수산화물 수용액과 상전이 촉매의 존재 하에서 반응시킴으로써, 부가반응과 고리화 반응을 동시에 행하는 1단계 법으로 디글리시딜에테르를 54 ∼ 89%의 높은 수율로 얻을 수 있다고 보고하였다[Synthesis, 649 (1984)]. 그러나, 알칼리를 취급의 용이성 문제로 주로 수용액 형태로 사용하기 때문에 이 물의 존재로, 에폭시기의 개환이나 생성한 글리시딜에테르에 알코올이 추가적으로 부가되는 부반응이 일어나고, 그 결과 올리고머, 폴리머 등이 생성되어 목적물인 디글리시딜에테르의 수율이 저하되는 결점이 있었으며, 특히 두 개의 히드록시기 간의 거리가 짧을수록 수율은 현저히 저하되는 단점이 있었다. 세 번째 공지방법은 반응 혼합물 중의 물의 존재에 의해 일어나는 부반응을 회피하기 위해 적절한 용제를 사용하여 물을 공비 제거하면서 반응시키는 방법이 제시되어 있다[일본특허공개 평5-163260호]. 그러나, 세 번째 방법 역시 공비 용제를 사용해야만 하는 단점이 있고, 부가적으로 생성된 물을 분리 제거하는 설비가 필요하였다본 발명은 다음과 같은 효과상의 우수성을 나타내어 공업적인 생산의 적용에 유용하다.1)반응물질로서 알콜류를 대신하여 알킬아민의 사용으로 반응중간체가 에폭시 고리를 포함하고 있지 않아 부 반응이 일어나지 않으므로 수율이 높고 순도가 높은 제품을 얻을 수 있다.2)반응온도는 실온 또는 알킬아민의 융점(실온에서 고체인 경우)온도로 유지하여도 반응이 잘 진행되므로 에너지를 절감할 수 있다. 3)반응용액이 단일상을 이루고 있으므로 별도의 상전이 촉매를 첨가할 필요가 없으므로 제조공정이 경제적이고 정제도 용이하다. 4)고체로 된 알칼리금속은 반응기에 직접 투입하므로 알칼리 수용액 제조를 위한 장치가 필요 없으며, 분리 및 취급이 용이하고, 또 알칼리금속 수용액을 사용하는 공정에서 생성되는 과량의 물이 포함된 부산물을 고형화 또는 과량으로 사용된 염기 수용액을 중화하는 장치가 필요 없다. 5)반응용매를 사용치 않으므로 반응기 용적을 최소화할 수 있어 반응기 크기 대비 생산성이 높다.
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 등록일
- 2006-11-27
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화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 발명은 액정디스플레이에서 액정의 배향을 유도하는 배향막에 관한 것으로서, 특히 광배향성을 갖는 감광성 배향막에 관한 것이다.고분자 소재로 이루어진 배향막은 액정분자의 균일한 배향을 유도하기 위한 것이다.액정의 균일한 배향을 유도하기 위해서는 배향막의 배향상태(규칙성, 예비경사(Pretilt)각)가 중요한 인자로 작용하며, 사전에 이를 적절히 조절하여 액정분자가 배향막의 배향방향을 따라 균일하게 정렬할 수 있도록 해야 한다. 배향막의 배향상태는 고분자 물질의 화학구조(모양)등에 의해 조절될 수 있으며, 러빙(rubbing), 스트레칭(stretching), 미세홈(microgroove)형성, 광조사와 같은 물리적 방법에 의해 이루어 진다. 최근에는 물리적 처리와 광의 두 방법을 병행하는 방법과 아울러 화학적변형(modification)이 조합된 복합기술이 많이 연구, 개발되고 있다.현재까지 실제적으로 가장 널리 상업화된 방법은 플리이미드를 배향막으로 사용하여 러빙 방식에 의해 배향막의 배향을 일정한 방향의 균일한 상태로 형성하는 것이다. 러빙 방식은 플라이미드와 같이 분자의 사슬이 강성인 경우에 잘 맞고 예비경사각의 조절이 용이하지만, 러빙 공정에서 상존하는 불순물 이입의 가능성과 정전기 발생에 의해 LC 매트릭스에 결함을 야기하기 때문에, 그 공정성이 문제점으로 지적되고 있으며, 시야각을 확대하는데 한계가 있어서 공정성과 성능이 향상된 차세대 배향막이 요구된다.광배향법은 위와 같은 공정시 정전기 발생, 시야각과 같은 문제점을 해결할 수 있는 방법으로서, 간편하고 대량생산에 적합하며 배향처리가 간편하고 안정하며 예비경사 각의 제어가 더욱 용이하다는 잇점을 가지고 있을 뿐 아니라, 복합적인 광조사방식을 적용하여 능동 매트릭스 구동 LCD에서 시야각을 확대할 수 있어서 차세대 배향 방식으로 주목받고 있다.본 발명은 광배향성을 갖는 액정배향막으로서, 폴리실록산과 쿠마린기의 유도체를 포함하는 고분자 소재로 이루어진다.쿠마린은 벤젠을 포함한 두 개의 고리로 이루어져 산소의 비결합 전자쌍이 α, β 불포화 이중결합과 함께 평면성, 또는 규칙성 등과 같은 방향족 특성을 나타내게 되며, 주변의 작용기와 어울어진 쿠말린계 사슬은 폴리실록산의 유연한 주쇄와 함께 전체 고분자에 액정성질을 부여하며, 광배향에 적절한 물성을 갖게 된다.본 발명에서는 폴리실록산의 곁사슬로서 쿠마린을 작용기로 도입한 폴리실록산 쿠마린(가칭 PSCM)을 배향막 소재로 사용하였을 때 광학적 이방성을 나타내며, 선형 편광된 광(UV)을 조사하였을 때 고도로 균일한 배향이 이루어지고 선형 편광된 UV 조사량을 변화시켜 예비경사 각 조절의 용이성을 나타내어, 기존의 방식 및 물질에 비해 보다 고품위의 액정 디스플레이의 제조를 가능하게 한다.
- 보유기관
- (주)엘에스전선
- 등록일
- 2007-01-30
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
* 발명의 개요(1) 고분자 폴리에테르술폰, 용매, 제 1 기공형성제 및 제 2 기공형성제를 혼합하여 고분자 용액을 제조하는 단계; (2) 상기 고분자 용액을 캐스팅하는 단계; (3) 상기 캐스팅된 고분자 용액을 습한 공기에 노출시켜서 표면 기공을 형성시키는 단계; (4) 단계 (3)을 거친 캐스팅된 고분자 용액을 비용매에 침전시켜서 내부 기공을 형성시키고 응고시켜서 막을 제조하는 단계; (5) 상기 막을 세척하고 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법.* 발명의 과제이를 위하여 본 발명자들은 폴리에테르술폰막의 표면과 내부에 충분한 기공을 형성시키기 위해서 비용매상전이 공정과 함께 증기유도상전이 공정을 이용하고, 폴리에테르술폰 고분자 용액의 점도를 높이기 위해서 복합 기공형성제를 이용하여 폴리에테르술폰막을 제조한 결과 막의 표면과 내부에 충분한 기공이 형성되고 기계적 강도가 증진된 폴리에테르술폰막을 수득할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하기에 이르렀다.본 발명은 한 관점으로 (1) 고분자 폴리에테르술폰, 용매, 제 1 기공형성제 및 제 2 기공형성제를 혼합하여 고분자 용액을 제조하는 단계; (2) 상기 고분자 용액을 캐스팅하는 단계; (3) 상기 캐스팅된 고분자 용액을 습한 공기에 노출시켜서 표면 기공을 형성시키는 단계; (4) 단계 (3)을 거친 캐스팅된 고분자 용액을 비용매에 침전시켜서 내부 기공을 형성시키고 응고시켜서 막을 제조하는 단계; (5) 상기 막을 세척하고 건조시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 다공성 폴리에테르술폰막의 제조방법을 제공한다.* 발명의 효과본 발명에 따른 제조방법은 폴리에테르술폰막의 표면과 내부에 충분한 기공이 형성되게 하고 폴리에테르술폰막 고분자 용액의 점도를 높여서 제조 과정 중에는 다루기에 용이하고 이로부터 제조된 폴리에테르술폰막의 기계적 강도를 증진시킬 수 있다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2007-03-14
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화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
* 구성 및 원리본 기술은 열가소성 폴리부틸렌 테레프탈레이트(Polybuthlene Terephthalate) 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate) 수지의 무독성 난연 조성물 형성에 대한 것으로 열가소성 폴리부틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지에 적인과 함께 멜라민 또는 멜라민 유도체를 병용하여 사용함으로써 적인(赤燐)을 소량만 사용하고도 뛰어난 난연성을 발휘하면서도 컴파운드의 특성 저하를 일으키지 않도록 하였다.* 기술적 배경플라스틱 재료는 할로겐 화합물과 함께 사용함으로써 난연성이 부여되었다. 그러나 할로겐 화합물이 유용한 난연제로 사용되고 있지만 연소 도중 많은 양의 연기와 함께 유해한 가스를 발생시킨다. 기존의 무독성 난연 수지조성물의 구성은 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 에틸렌비닐아세테이트, EPDM, 폴리우레탄 등 폴리올레핀과 무기수화물((Mg(OH)2 또는 Al(OH)3), 무기충진제의 배합으로 혹은 여기에 적인(赤燐)등을 첨가하여 배합된 조성물이다. 이런 조성물에 난연성이 발휘되기 위해서는 다량의 무기수화물이 사용되기 때문에 조성물 자체의 물성 저하가 심각하였으며 특별히 절연전선의 용도로 사용될 경우, 많은 제약이 따르게 된다. 적인(赤燐)은 단독으로 난연 효과를 부여할 수 있으나 다량 사용 시 가격이 비싸고 가수 분해를 유발하는 관계로 사용량의 증가에 신중을 기해야 한다.* 독창성과 우수성본 절연전선용 무독성 난연수지 조성물는 우수한 난연 특성을 발휘할 뿐 아니라 컴파운드의 특성 저하를 일으키지 않도록 하는 난연물질이다.* 적용제품 및 관련시장본 절연전선용 무독성 난연수지 조성물은 플라스틱 재료에 첨가 시 뛰어난 난연성을 발휘하면서도 특성의 저하를 일으키지 않도록 한 것으로 특별히 무독성 난연특성을 요구하는 전선 절연 및 자켓 재료에 유용하다.* 특징 및 장점본 절연전선용 무독성 난연수지 조성물의 특징은 다음과 같다.폴리부틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지에 적인(赤燐)과 함께 멜라민 또는 멜라민 유도체를 첨가하여 수지 자체의 우수한 특성을 유지하면서 뛰어난 난연특성을 발휘하는 조성물로 폴리부틸렌 테레프탈레이트와 폴리에틸렌 테레프탈레이트는 열가소성 엔지니어링 플라스틱(engineering thermoplastic)으로써 높은 기계적 강도, 높은 열변형(heat deflection)온도, 우수한 내수성, 좋은 디멘죤 안정성(dimensional stablity)과 우수한 전기적 특성을 갖고 있다.
- 보유기관
- (주)마크프로
- 등록일
- 2007-05-18
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 발명은 경화 고무재료가 외부에서 동적인 자극을 받았을 때 작은 결점 또는 흠으로부터 시작하는 균열의 성장속도를 측정하는 실험장치에 관한 것으로서 고무재료의 기계적 피로수명 특성을 조사하는데 있어 기존의 실험방법이 갖는 한계점을 극복하기 위한 하나의 방안으로 피로균열 성장속도를 측정함에 있어서, 변형율과 변형 반복주기의 조절이 용이하고 필요한 실험 분위기 조건 하에서 실시간으로 자동 측정할 수 있는 시험 장치를 제공함과 동시에, 이 시험 장치를 통해 고무재료의 피로균열성장 거동의 특성을 용이하게 도출할 수 있는 측정방법을 제공하는 것이다.
- 보유기관
- 전남대학교
- 등록일
- 2007-11-05
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
<기술의 개요>본 기술은 과전류 차단 전도성 고분자에 관한 것으로, 고밀도 폴리에틸렌 분말에 방사선으로 소정의 극성 단량체를 그라프트 시키는 단계, 그라프트된 고밀도 폴리에틸렌에 고밀도 폴리에틸렌 수지, 카본블랙 및 산화방지제를 혼합시키는 단계, 얻어진 혼합 조성물을 양면에 도전성 금속 박막이 부착된 시트 형태로 성형하고 열처리하는 단계, 리드선을 부착하기 위하여 솔더링을 수행하는 단계 및 고온에서 장시간 재열처리 후 방사선을 조사하는 단계를 포함하는 PTC 고분자 스위치용 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 기술에 의해 얻어진 고분자 스위치는 그라프트 폴리에틸렌 분말을 혼합함으로서 폴리에틸렌수지/카본블랙 블렌드에 대한 도전성 금속 박막의 접착력, 카본블랙과 수지 매트릭스간의 상용성 및 접착력을 증가시켜 사용중 안정성을 향상시킬 뿐만 아니라 연속 사용에도 재현성이 크게 향상되며, 과전류 차단 회로보호장치, 전열체 및 열센서 등에 적용이 가능하다.<기술의 특징>본 기술은 고밀도 폴리에틸렌 분말에 방사선으로 소정의 극성 단량체를 그라프트 시키는 것이다.
- 보유기관
- 한국원자력연구원
- 등록일
- 2007-12-17
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
○ 기술 요약 및 특징 본 기술은 대부분 불법 매립 또는 처분되고 있는 폐아스콘을 재활용하여 고기능의 재생아스콘 혼합물을 제공하기 위한 것으로 폐타이어분말 및 고분자 개질재 등을 첨가하여 유동저항성, 마모저항성, 동적안정도, 균열저항성 등의 역학적성능과 내구성이 우수한 포장용 고기능 재생아스콘 혼합물의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 제조방법은 폐아스콘을 재활용시 폐아스콘 혼입률을 30∼50%로 하여 재생아스콘 혼합물을 제조하고 상기 재생아스콘 혼합물의 우수한 역학적성능 및 내구성의 확보를 위하여 신재골재, 폐아스콘, 플라이애시, 석회석분을 혼합한 것에 재생 개질바인더를 첨가하여 제조하는 것을 특징으로 하고 있으며, 상술한 바와 같은 본 기술은 폐아스콘을 재활용하는데 있어 폐타이어분말, 고분자 개질재, 플라이애시, 석회석분 등을 이용함으로써 유동저항성, 마모저항성, 동적안정도, 균열저항성 등의 역학적성능 및 내구성이 매우 우수한 포장용 재생아스콘 혼합물을 제조할 수 있어 폐아스콘의 재활용 촉진을 통한 자원의 유효이용으로 국가의 에너지절약 및 외화절감과 폐아스콘의 불법 매립에 의한 환경피해의 예방에 매우 크게 기여할 수 있는 효과가 있는 것이다.
- 보유기관
- 충남대학교
- 등록일
- 2007-12-18
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
○ 기술발명의 목적 본 발명은 엠보싱된 PTC 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 상세하게는, PTC 소자를 엠보싱하여 표면적을 증가시킴으로써 PTC 소자의 초기저항을 낮추어 PTC 소자의 크기를 줄일 수 있도록 한 PTC 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.○ 기술 요약 및 특징 본 발명은 엠보싱된 PTC 소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 PTC 소자를 엠보싱하여 표면적을 증가시킴으로써 PTC 소자의 초기저항을 낮출 수 있도록 한 PTC 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.PTC 소자의 엠보싱은 모래분사방법 또는 사진조각방법에 의하여 요철이 형성된 평판금형을 사용하여 수행한다.PTC 소자의 초기저항을 낮춤으로써 PTC 소자의 크기를 줄일 수 있게 되었다.
- 보유기관
- 충남대학교
- 등록일
- 2007-12-20
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
○ 기술발명의 목적 : 히드록시페닐기를 인접하여 갖는 벤족사졸 헤테로환 고분자를제조하기 위한 단량체 화합물의 제조를 통하여 다양한 형광, 컬러, 광변색 기종의 고분자 재료 개발이 가능할 것으로 판단하여 신규 광기능성 고분자 재료를 창출할 수 있다는 점에 착안하여 본 발명을 발명하게 되었다. 본 발명의 목적은 히드록시페닐기를 인접하여 갖는 벤족사졸 이관능성 단량체 화합물 및 그의 제조방법을 제공하는 것이다.○ 기술 요약 및 특징 : 벤족사졸계 고분자는 뛰어난 내열성으로 고성능 고분자로 알려져 있으며, 벤족사졸환에 인접하여 히드록시페닐기를 갖게 되면 들뜬 상태에서 호변이성질화가 가능하게 되어 일반 화합물에서 찾아볼 수 없는 ‘들뜬 상태 분자내 양성자 이동(ESIPT)’현상을 일으킨다. 이러한 ESIPT 현상이 발생하면 흡수 밴드에서 멀리 떨어진 장파장에서 형광 밴드가 나타나므로, 화합물은 거의 무색에 가깝지만 형광은 심색이 나타나 분자 구조 제어에 의하여 녹색에서 빨간 형광까지 조절이 가능하다. 또 다른 예는 벤족사졸의 질소 원자와 인접 히드록시페닐기 간의 수소결합에 의하여 ESIPT 현상이 생기는 것과 관련이 있다. 이러한 수소결합을 인위적으로 방해할 수 있는 물질의 첨가에 의하여 벤족사졸 화합물의 형광을 변화시킬 수 있으므로 형광 분자 센서로서의 활용이 가능하다. 이러한 장점 때문에 히드록시페닐 벤족사졸계 화합물은 다양한 종류가 합성되어 사용되고 있지만, 이러한 물질이 고분자 주쇄에 함유되어 있는 경우는 무척 드물며, 그 이유는 히드록시페닐 벤족사졸계 고분자를 제조하기 위한 이관능성 저분자 단량체의 제조 방법이 어렵기 때문이다. 고분자 주쇄에 도입되기 위하여 디아미노, 디브로모 등의 이관능성기가 필요한데, 이 관능기가 도입된 히드록시페닐 벤족사졸계 화합물은 제조방법이 까다롭고, 정제가 어려워 성공한 예를 찾아보기 힘들다.
- 보유기관
- 충남대학교
- 등록일
- 2007-12-21
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
○ 기술발명의 목적 : 히드록시페닐기를 인접하여 갖는 벤족사졸 유도체를 포함하는 화학센서 및 광미세가공 고분자 화합물과 그 제조방법 및 화학센서와 형광 이미지를 통한 광미세가공에 이용하기 위한 고분자를 포함하는 화학센서용 및 광미세가공용 수지 조성물에 관한 것이다. 보다 상세하게는 금속 양이온 또는 음이온, 특히 불소 음이온을 선택적으로 인지할 수 있으며, 화학증폭작용을 통한 광미세가공기능을 갖는 히드록시페닐기를 인접하여 갖는 벤족사졸 유도체를 단위체로 하는 형광 고분자화합물 및 이를 제조하는 방법, 그리고 이를 화학센서와 광미세가공에 이용하기 위한 화학센서용 및 광미세가공용 수지 조성물에 관한 것이다.○ 기술 요약 및 특징 : 본 기술은 히드록시페닐기를 인접하여 갖는 벤족사졸 유도체를 포함하는 화학센서 및 광미세가공 고분자 화합물과 그 제조방법 및 화학센서와 형광 이미지를 통한 광미세가공에 이용하기 위한 고분자를 포함하는 화학센서용 및 광미세가공용 수지 조성물에 관한 것이다. 보다 상세하게는 금속 양이온 또는 음이온, 특히 불소 음이온을 선택적으로 인지할 수 있으며, 화학증폭작용을 통한 광미세가공기능을 갖는 히드록시페닐기를 인접하여 갖는 벤족사졸 유도체를 단위체로 하는 형광 고분자화합물 및 이를 제조하는 방법, 그리고 이를 화학센서와 광미세가공에 이용하기 위한 화학센서용 및 광미세가공용 수지 조성물에 관한 것이다.
- 보유기관
- 충남대학교
- 등록일
- 2007-12-21
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
○ 기술발명의 목적 : 대량으로 고분자량의 폴리(감마-글루탐산)을 생산하고자 연구한 결과, 다량의 점질물을 생성하는 한국의 전통음식인 청국장으로부터 분리한 바실러스 서브틸리스 BS62를 이용하여, 폴리(감마-글루탐산) 생산에 적합한 최적의 배양조건을 선택하고, 또한 이러한 방법으로부터 생산된 폴리(감마-글루탐산)의 물리화학적 특성을 동정함으로서 다양한 산업분야에 적합한 천연고분자 물질을 제조하기에 이르렀다. 따라서 본 기술의 목적은 바실러스 서브틸리스 BS62로부터 배양하여 고 순도로 정제한 신규한 천연고분자물질인 폴리(감마-글루탐산)을 제조하는 방법과 상기 제조방법에 따라 고순도로 정제된 폴리(감마-글루탐산)을 제공하는 것이다.○ 기술 요약 및 특징 : 본 발명은 바실러스 서브틸리스 균주로부터 천연고분자물질인 폴리(감마-글루탐산)을 제조하는 방법과 그로부터 제조된 폴리(감마-글루탐산)에 관한 발명으로, 보다 상세하게는 바실러스 서브틸리스 균주 BS62(KACC 91064)를 선발하여 L-글루탐산과 글루코스를 함유하는 배지에서 30 내지 39℃의 온도조건에서 호기적으로 배양하는 단계; 및 정제하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 바실러스 서브틸리스 BS62로부터 폴리(감마-글루탐산)을 제조하는 방법과 상기 제조방법에 따라 제조된 D형/L형 글루탐산비가 40/60 내지 60/40 이고, 중량평균분자량이 약 600KDA 내지 1000KDA이며, 수평균분자량은 약 200KDA 내지 500KDA 이고, 다분산도가 3 내지 3.5인 것을 특징으로 하는 폴리(감마-글루탐산)을 특징으로 한다. 본 기술에 따라 제조된 바실러스 서브틸리스 BS62를 이용한 폴리(감마-글루탐산)의 제조방법은 폴리(감마-글루탐산)을 대량으로 생산할 수 있는 장점이 있으며, 그로 인하여 제약, 식품, 화학분야에서 점도 증진제, 코팅제 및 서방성 방출
- 보유기관
- 충남대학교
- 등록일
- 2007-12-21
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 발명은, 종래의 개질 효율이 낮으며 반응하지 않은 경유가 반응기 내벽을 타고 흘러내리는 올웨팅(WALL-WETTING) 현상이 발생하는 기존 플라즈마 개질기의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 디스크 모양의 다전극의 방전을 통하여 반응효율을 좋게 하면서, 올웨팅 현상을 방지하기 위한 것이다. 본 발명에 관한 플라즈마 반응기는, 혼합기를 생성하여 상기 혼합기를 무화시켜 반응기 내부로 유입시키는 무화부와, 상기 혼합기의 균일한 반응을 유도하기 위한 디스크 형태의 2이상의 첨단부를 갖는 전극부와, 상기 전극부와 함께 반응을 일으키는 실린더와, 상기 혼합기가 플라즈마 반응에 의해 개질되어 발생된 수소 농후가스를 배출하는 개질가스출구를 포함한다.
- 보유기관
- 인하대학교
- 등록일
- 2007-12-27
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화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 발명은 적어도 하나 이상의 아민 치환기를 갖고 분자 중에 적어도 하나 이상의 S 원자를 갖는 하기 화학식 1로 표시되는 1,3,5-트리아진형 불포화 화합물에 관한 것이다. 여기서, R1, R2, R3 중 적어도 하나 이상은 -S-R4-AR-X로서; 상기 AR은 결여되거나 C6 내지 C18인 방향족 환이고, R4는 CNH2N, (CH2CH2O)N, (CH2)N COOCMH2M(각 화학식에서 N, M 은 각각 독립적으로 1 내지 12 의 정수임)이고, X는 아크릴(ACRYL)기, 메타크릴(METHACRYL)기 또는 알릴(ALLYL)기를 나타낸다.또한, R1, R2, R3 중 하나 또는 두개가 -S-R4-AR-X 일 때, 나머지 R1, R2, R3 중 두개 또는 하나의 치환기는 , R5NH-, R7R8N-로서, 상기 R5, R7, R8은 서로 같거나 다른 C1 내지 C22의 알킬, C5 내지 C10의 시클로 펜칠, 시클로 헥실 등 시클로 알킬이며; R6 는 C1 내지 C15의 알킬렌 또는 자체가 방향족환을 나타낸다.본 발명에 따른 트리아진계 단량체는 열 및 광경화가 가능하며 다른 불포화 단량체와의 상용성이 우수하여 중합성 공단량체를 포함하고, 개시제를 함유하는 열경화 및/또는 광경화가 가능한 조성물을 제조할 수 있는 효과가 있다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2007-12-27
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 발명은 입자형태의 유기 에어로겔의 제조방법에 관한 것으로서, 페놀릭-퍼퍼랄, 레소시놀-포름알데히드, 멜라민-포름알데히드, 카테콜-포름알데히드, 페놀-레소시놀-포름알데히드, 플로로그루시놀-포름알데히드 또는 페놀-포름알데히드 등과 같은 다기능성 단량체를 사용하여 임계조건 근처에서 온도와 압력에 따라 용해도가 변하는 초임계 이산화탄소를 반응 연속상으로 하여 단일공정으로 졸-에멀젼-겔 중합, 용매 치환, 초임계 건조의 전 공정을 수행하여 초단열용 재료로 유용한 입자형태의 유기 에어로겔을 제조하는 방법에 관한 것이다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2007-12-27
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 발명은 에폭시 그룹이 포함된 고분자를 용매에 용해시키는 고분자 용액을 제조하는 단계; 상기 고분자 용액에 전구체를 첨가하고 60 내지 150℃에서 6 내지 24 시간 동안 반응시켜 사중 수소결합이 도입된 고분자를 제조하는 단계; 사중 수소결합이 도입된 고분자로부터 미 반응된 전구체를 분리하는 단계; 잔류 용매를 40 내지 100℃에서 24 내지 48 시간 동안 증발시켜 사중 수소결합이 도입된 고분자를 건조하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 사중 수소결합을 갖는 고분자 제조방법에 관한 것이다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2007-12-27
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
금속착제와 사중수소결합을 포함한 초분자 고분자
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2007-12-27
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일반기술
화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 기술은 단차가 구비된 다공성 실리콘 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 실리콘에 불순물 주입을 실시하고 전해질액에 침지시킨 후 양극산화를 통하여 실리콘의 전기저항치를 변화시킴으로써 기공의 직경을 조절하거나 실리콘 두께방향으로 직경이 달라지는 각 기공이 정렬되도록 형성된 수직정렬형 다공성 실리콘 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 기술은 실리콘의 상단면을 관통하는 제 1 기공, 제 1 기공의 하단면을 관통하며, 제 1 기공의 직경보다 크거나 작도록 형성되는 제 2 기공, 제 2 기공의 하단면을 관통하며, 제 1 기공의 직경과 동일 또는 유사한 크기로 형성되는 제 3 기공, 제 1 기공, 제 2 기공, 제 3 기공으로 구성되는 기공부를 하나 이상 포함한 것을 특징으로 하는 수직정렬형 다공성 실리콘에 관한 것이다.본 기술에 따라 실리콘에 이중구조를 갖는 기공부를 형성시킴으로써, 종래의 다공성 실리콘에 비하여 표면적이 향상된 실리콘을 가질 수 있을 뿐만 아니라, 각 기공별로 전자소재의 주입이 가능하여 주입된 전자소재의 경계선을 용이하게 형성시킬 수 있는 효과가 있다.
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2007-12-27
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화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
연료전지용 고분자 전해질막 및 그 제조 방법
- 보유기관
- 연세대학교
- 등록일
- 2007-12-27
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화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
본 기술은 폴리우레탄계 전구체를 이용한 홀로그래픽 고분자분산 액정복합막(HOLOGRAPHIC POLYMER DISPERSED LIQUID CRYSTAL, HPDLC)에 관한 것으로서, 특정 히드록시화합물 및 이소시아네이트 화합물를 적절히 조절하여 폴리우레탄계 전구체를 제조하고, 이를 홀로그래픽 고분자분산 액정복합막에 사용함으로써 고분자 매트릭스의 구조를 제어함으로써 액정과의 상분리 및 상호작용을 조절하여 높은 효율과 낮은 구동전압 및 수축률이 낮은 고기능성 홀로그래픽 고분자분산 액정복합막에 관한 것이다.
- 보유기관
- 부산대학교
- 등록일
- 2007-12-28
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화학공정 > 기타 고분자 공정 기술
기술개요및특징본 기술은 순수한 또는 관능성 치환기로 개질된 탄소나노튜브 1 중량부에 대해 카르복실기, 술폰기, 설페이드기등에서 선택된 이온성 그룹과 방향족 단량체를 지닌 알칼리 용해성 수지 분산제 10∼1000 중량부를 물 또는 극성 유기용매에서 선택된 용매 100∼5000 중량부에 혼합 분산시켜 수득된 탄소나노튜브 고분자 분산액을 제공하는 것이다. 탄소나노튜브 고분자 분산액은 탄소나노튜브가 고분자와 함침될 경우 용매를 제거하여 가공이 용이한 탄소나노튜브소재 전도성 고분자 필름으로 제조될 수 있으며, 또한 적절한 용매의 선택을 통해 적정한 전기 전도도를 유지하는 탄소나노튜브 고분자 코팅액으로 사용될 수 있는 탄소나노튜브 고분자 분산액을 제공하기 위한 것이다.
- 보유기관
- 경북대학교
- 등록일
- 2008-01-03
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