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화학공정 > 기타 화학공정
PMAS(Plant Materials Assessment System)는 산업설비의 설계, 건설 및 운영에 필요한 재료관련 지식을 제공하는 프로그램입니다. 최적재료의 선정은 대규모 산업설비, 특히 발전설비의 구조적 안전성과 제작, 건설 및 운영에 있어 가장 중요한 사항중에 하나입니다. 적합한 재료의 선정은 재료의 물리적 성질, 부식성, 경제성, 용접성 등을 종합적으로 평가해야 하므로 재료에 대해 전문지식 및 경험과 방대한 자료에 대한 검토를 필요로 합니다. 따라서 많은 엔지니어들은 경험자료와 이론적 지식을 정리한 데이터베이스 시스템을 원하고 있습니다. PMAS는 이러한 목적으로 개발되었으며 산업계의 know-how를 쉽게 제공하고 있으며, 재료분야 초심자라도 재료선정 업무를 신속하고 효과적으로 처리할 수 있도록 해줍니다.PMAS는 재료규격 검색, 부식성 분석, 용접성 분석, 설계 및 경험자료 분석 등 4가지 모듈로 구성되어 있으며, 특징은 다음과 같습니다.- 그래픽 사용자방식- Windows95 및 Windows 98 환경에서 운영- 편리한 찾기 기능, 빠른 검색시스템- 부분입력, 조건지정, 항목선택 등 다양한 검색기능 보유- 뛰어난 출력기능
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- 한국전력기술(주)
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- 2000-12-23
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
<목적>새로운 광전지 물질인 폴리시안아미드 화합물 및 그의 제조 방법을 제공한다. <구성>신규한 폴리시안아미드 화합물은 일반식(I)로 표시된다. 이 화합물은 전도성인 폴리시안아미드와 가시 광선을 흡수하여 광전류를 생성하는 염료 화합물로부터 생성되는데, 즉 일반식(II)의 폴리시안아미드를 진한 황산에 용해시킨 후 아질산나트륨과 섭씨 0도에서 반응시켜 디아조화하고, 이를 알리자린 옐로우 GG나 수단 III 또는 오렌지 II, 아크리플라빈, 보르도 R 등과 커플링시켜 제조한다. 일반식(I)의 폴리시안아미드 화합물을 브롬으로 도핑하게 되면 폴리시안아미드 사슬의 전도성이 더욱 증가되어 발명의 효과를 향상시키게 된다. <효과>일반식(I)의 폴리시안아미드 화합물은 가시 광선에 의한 광전류의 생성은 물론 전도성도 가지고 있으므로 광전지 물질 등으로 유용하게 사용할 수 있다.1. 일반식(Ⅰ)의 신규한 폴리시안아미드 화합물.상기 식에서, A는x는 10 내지 30의 정수이다. 2. 제1항에 있어서, 상기 폴리시안아미드 화합물이 추가로 브롬으로 도핑된 것인 폴리시안아미드 화합물. 3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리시안아미드 화합물이 광전지 물질로서 사용되는 것인 폴리시안 아미드 화합물.4. 일반식(Ⅱ)로 표시되는 폴리시안아미드를 진한 황산 중에서 디아조화하고, 이를 구조식(Ⅲa)의 알리자린 엘로우 GG, 구조식(Ⅲb)의 수단 Ⅲ, 구조식(Ⅲc)의 오렌지 Ⅱ, 구조식(Ⅲd)의 아크리플라빈, 구조식(Ⅲe)의 보르도 R, 또는 구조식(Ⅲf)의 K2와 커플링시키는 것을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)의 폴리시안아미드 화합물의 제조 방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성],6-트리플루오르-1,3,5-트리아진의 제조방법15194구조식(II)의 2, 4, 6-트리클로로-1, 3, 5-트리아진과 불화알카리엄 (DF 또는 NAF)을 극성용매중에서 상간이 도촉매존재하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 구조식(I)의 2, 4, 6-트리플루오로-1, 3, 5-트리아진의 제조방법.1. 구조식(Ⅱ)의 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진과 불화알카리염(KF 또는 NaF)을 극성용매 중에서 상간이 동촉매존재하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 구조식(Ⅰ)의 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.2. 제 1항에 있어서, 극성용매로 디메틸슬폭시드, 디에틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 벤조니트릴, 아세토니트릴, 테트라메틸렌술폰으로 구성된 군에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.3. 제 1항에 있어서, 상간 이동촉매로 테트라에틸암모늄클로리드, 테트라에틸암모늄브로미드, 테트라부틸암모늄클로리드, 테트라부틸암모늄브로미드, 벤질트리메틸암모늄클로리드, 벤질트리메틸암모늄브로미드, 벤질트리에틸암모늄클로리드, 벤질트리에틸암모늄브로미드, 디부틸디메틸암모늄클로리드, 디부틸디메틸암모늄브로미드, 디부틸디에틸암모늄클로리드, 디부틸디에틸암모늄브로미드, 헥실트리에틸암모늄클로리드, 헥실트리에틸암모늄브로미드, 트리옥틸메틸암모늄클로리드, 트리옥틸메틸암모늄브로미드, 트리옥틸에틸암모늄클로리드, 트리옥틸에틸암모늄브로미드, 트리옥틸프로필암모늄클로리드, 트리옥틸프로필암모늄브로미드, 데실트리에틸암모늄클로리드, 데실트리에틸암모늄브로미드, 도데실트리에틸암모늄클로리드, 도데실트리에틸암모늄브로미드, 헥사데실트리메틸암모늄클로리드, 헥사데실트리메틸암모늄브로미드, 헥사데실트리에틸암모늄클로리드, 헥사데실트리에틸암모늄브로미드, 메틸트리페닐암모늄클로리드, 메틸트리페닐암모늄브로미드, 벤질트리페닐포스포늄클로리드, 벤질트리페닐포스포늄브로미드, 헥사데실트리에틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리에틸포스포늄브로미드, 헥사데실트리부틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리에틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리에틸포스포늄브로미드, 헥사데실트리부틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리부틸포스포늄브로미드, 테트라부틸포스포늄브로미드, 테트라부틸포스포늄클로리드, 테트라페닐포스포늄클로리드, 테트라페닐포스포늄브로미드, 트리옥틸에틸포스포늄클로리드, 트리옥틸에틸포스포늄브로미드로 구성된 군에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.4. 제 1항에 있어서, 60~100℃에서 2~3시간 반응시키는 것을 특징으로 하는 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]다음 일반식(I)의 옥사졸리논계 유도체.상기 식에서 r은 저급 알킬기 또는 할로겐,저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며,x는 같거나 서로 다르고,할로겐, 카보메톡시,니트로기 또는 할로겐이나 트리플루로로메틸기가 피환된 페녹시기를 나타내며,a는 질소 또는 탄소를 나타낸다.n은 1-3의 정수를 낱타낸다.1. 다음 일반식(1)의 옥사졸리논계 유도체. 상기 식에서 R은 저급 알킬기 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며, X는 같거나 서로 다르고, 할로겐, 카보메톡시, 니트로기 또는 할로겐이나 트리플루오로메틸기가 치환된 페녹시기를 나타내며, A는 질소 또는 탄소를 나타내며, n은 1-3의 정수를 나타낸다.2. 출발물질로서 다음 일반식(2)의 α-아미노산을 치환기가 있는 다음 일반식(3)의 산 클로라이드와 축합반응시켜 다음 일반식(4)의 아미노가 치환된 α-아미노산을 얻은 다음 무수초산과 반응시킨 후 탈수반응시키는 것으로 이루어진 제1항의 옥사졸리논계 유도체의 제조방법. 상기 식에서 R은 저급 알킬기 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며, X는 같거나 서로 다르고, 할로겐, 카보메톡시, 니트로기 또는 할로겐이나 트리플루오로메틸기가 치환된 페녹시기를 나타내며, A는 질소 또는 탄소를 나타내고, n은 1-3의 정수를 나타낸다.3. 유효 성분으로서 제1항의 옥사졸리논계 유도체를 함유한 제초제.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
<목적>식물의 진균성 질병에 유용한 유기 규소 화합물인 1-(아릴-1-(알파-(트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸의 제조 방법을 제공한다. <구성>일반식(I)로 표시되는 1-(아릴-1-(알파-(트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸1-알리-1-트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸은 일반식(II)의 1-아릴-1-(알파-(클로로)알킬)-1-실라시클로로알칸과 트리아졸 나트륨염을 디메틸포름아미드 용매하 15-45도씨에서 3-8시간 반응시켜 제조하며, 중간체인 일반식(II)의 화합물은 알킬트리클로로실란을 염소화하여 얻은 클로로알킬 트리클로로실란을 디클로알칸을 출발물질로 한 디그리냐르 시약과 영하 78-60도씨에서 반응시켜 제조한다. 본 발명의 화합물은 농업용 살균제로서 식물의 진균성 질병에 이용된다.본 발명은 규소를 포함하는 오각형 육각형 해테로고리화합물에 트리아졸이 치환된, 일반식(I)로 표시되는 새로운 유기규소화합물 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸, 그것의 제조방법 및 식물의 진균성 질병에 대한 그것의 용도에 관한 것이다본 발명자들은 클로로메틸기를 함유한 유기디실라알칸을 출발물질로 하여 클로로메틸기의 클로로기 대신에 트리아졸기를도입함으로써 (1H-1, 2, 4-트리아졸릴)디실라알칸을 제조하여 좋은 살균효과를 얻었다.(한국 특허출원번호 공개번호 91-6503)본 발명은 규소를 포함하는 오각형 또는 육각형의 헤테로고리화합물에 트리아졸이 치환된 새로운 유기규소 화합물인 일반식(I)의 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알킬 및 이들의 식물의 진균성 질병에 대한 용도에 관한 것이다.본 발명은 또한 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸을 제조하는 방법에 관한것이다. 자세하게는, 신규한 1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸의 트리아졸화합물을 반응시켜 1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸의 클로로알킬기의 클로로기를 트리아졸기로 치환함으로써 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸을 제조하는 방법에 관한 것이다. 클로로알킬기를 가진 유기실란에 트리아졸을 치환시키는 것은 먼저 트리아졸을 수소화나트륨이나 나트륨메톡사이드 같은 염기로 처리하여 트리아졸나트륨 염을 만들고, 이 염을 클로로메틸기를 갖는 실란과 반응시킴으로써 달성된다. 낮은 온도에서의 트리아졸의 치환반응이 빨리 진행되도록 하기 위해, 아세톤 용매하에서 KI를 넣고 용매를 환류시켜 클로로알킬기의 클로로기를 요오드로 치환시킴으로써 보다 좋은 수율을 얻을수 있다.본 발명은 또한 본 발명의 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸 제조의 중간체로 사용되는 신규한 화합물1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸에 관한 것이다. 이 화합물은 클로로알킬트리클로로실란과, 디클로로알칼바람직하게는 1, 4-디클로로부탄과 1, 5-디클로로펜탄을 출발물질로 하여 제조할 수 있다. 클로로알킬 트리클로로실란은알킬트리클로로실란을 염소화시켜 얻을 수 있다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
전도성을 갖는 유기 고분자성 반도체 물질에 가시광선을 잘 흡수하는 유기 염료를 결합시켜 새로운 형태의 광전지 물질인 폴리시안아미드 화합물을 제공한다.<구성>건조시킨 폴리시안아미드 0.024몰을 95%의 진한 황산 30미리리터에 첨가하여 24시간 동안 교반, 용해시켜 용액을 제조한다. 진한 황산 15미리리터에 아질산나트륨 0.024몰을 넣어 만든 용액을 앞에서 얻은 용액에 첨가하여 0도C에서 반응시켜 디아조화시킨다. 에틸 레드, 애시드 오렌지 8, 애시드 레드 88 등의 염료 화합물 0.01몰을 진한 황산에 용해시켜 만든 용액을 디아조화시킨 용액에 서서히 적가하여 0도C에서 3시간 동안 교반하고, 55도C로 서서히 가열한 다음 3시간 동안 교반하면 일반식 (Ⅰ)로 표시되는 신규한 폴리시안아미드 화합물이 수득된다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]본 발명은 유기 알루미늄 화합물 전구체 및 액상으로 존재하여 다루기 쉽고도 증착 과정중에 리간드의 열분해로 인한 탄소오염이 없는, 알루미나 증착을 위한 유기 알루미늄 화합물 전구체로서 (베타-케토에스테르)-(알콕사이드)-알루미늄 화합물을 화학기상증착법을 사용하여 미세 기공구조를 갖는 고순도 알루미나 분리막을 제조하는 방법을 제공한다.1. 화학식....로 표시되는 유기 알루미늄 화합물 전구체;상기 식에서 R은 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, R`는 탄소수 1내지 6인 알콕시이고, R는 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, x는 1,2 또는 3이다.2. 제 1항에 있어서, 상기 베타-케토에스테츠가 메틸아세토아세테이트(MTAC), 에틸아세토아세테이트(ETAC), t-부톡시로 구성되는 군 중에서 선택되는 화합물 전구체3. 제 1항에 있어서, 상기 알콕사이드기가 메톡시, 에톡시, sio-프로폭시, 프로폭시, 부톡시, iso-부톡시 및 t-부톡시로 구성되는 군 중에서 선택되는 화합물 전구체.4. 화학식...로 표시되는 유기 알루미늄 화합물을 전구체로 사용하여 화착기상증학방법에 의해 알루미나 분리막을 제조하는 방법;상기 식에서 R은 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, R`는 탄소수 1내지 6인 알콕시이고, R는 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, x는 1,2 또는 3이다.5. 제 4항에 있어서, 상기 진구채를 50-135℃로 가열하여 전구체 증기를 발생시키고, 상기 발생된 전구체 증기를 280-440℃로 가열된 알루미나 기판에서 열분해시켜 상기 전구체를 알루미나 기판에 증착시키는 단계로 이루어지는 방법.6. 제 4항에 있어서, 상기 증착 단계가 10/(2)~10/(7)mmHg의 압력매시 수행되는 방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]본 발명은 광학적으로 순수한 다음 일반식(I)로 표시되는 비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-테트라히드로-비(1,3-옥사졸) 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 일반식(I)의 화합물은 다시, 일반식(Ia)로 표시되는 (4S,4S)-2,2-비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-4,4,5,5-테트라히드로-4,4-비(1,3-옥사졸) 화합물과 이의 거울상 이성체인 일반식(Ib)로 표시되는 (4R,4R)-2,2-비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-4,4,5,5-테트라히드로-4,4-비(1,3-옥사졸)을 포함한다. 본 발명의 화합물은 비대칭 히드로실릴화 반응, 수소화 반응, 시클로프로판화 반응, 알킬화반응 등에 유용하게 사용될 수 있다.본 발명은 광학적으로 순수한 일반식(I)로 표시되는 비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-테트라히드로-비(1,3-옥사졸) 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 일반적으로, 광학 이성체는 서로 다른 생물학적 성질을 나타내기 때문에 최근에는 광학적으로 순수한 화합물에 대한 요구가 급속히 증가되고 있다. 따라서, 광학적으로 순수한 화합물을 제조하기 위한 제조방법의 개발이 절실히 요구되고 있다. 특히 Rh, Ru, Ir, Co, Cu, Pd 등의 금속촉매를 이용한 비대칭 히드로실릴화 반응, 수소화 반응, 시클로프로판화 반응,알킬화반응 등은 광학적으로 순수한 화합물 제조에 많이 이용되는 반응이며, 이들 반응에 효과적인 리간드 개발은 광학적으로 순수한 의약, 농약 및 식품 첨가제, 향료 등의 개발을 위해서는 절대적으로 필요하고도 중요하다. 지금까지 이들비대칭촉매화 반응을 위해서 가장 많이 개발 되고 있는 키랄 리간드들은 대별하여 인(P) 원자를 포함한 포스핀계와 질소(N) 원자를 포함하는 옥사졸린계 리간드로 나누어진다. 그러나 이미 개발된 일부 키랄 리간드는 개선 되어야 할 부분이많다.본 발명에서는 상기 공지기술과는 달리, 포스핀과 옥사졸린 구조를 동시에 포함하는 화합물을 제조함으로써 이들 포스핀계 리간드와 옥사졸린계 리간드 양자가 가지고 있는 각 화합물의 단점을 극복한 새로운 키랄 리간드를 개발한 것이다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
본 발명은 출발물질로서 다음 구조식(Ⅱ)의 (R)-4(트리클로로메틸)옥세탄-2-온을 산 촉매하에 C1-C18지방족 알코올 또는 벤질알코올과 반응시켜 다음 일반식(Ⅲ)의 (R)-3-히드록시-4,4,4 -트리클로로부티르산 에스테르를 제조한 다음, 일반식(Ⅲ)의 화합물의 4-위치를 선택적으로 탈염소화(Bis-dechlorination)시키는 것으로 이루어진 다음 일반식(Ⅰ)의 (R)-3-히드록시-4-클로로부티르산 에스테르의 제조방법에 관한 것이다. 상기식에서 R은 C1-C18의 지방족 알킬기 또는 벤질기이다. 본 발명의 제조방법은 (R)-카르니틴 또는 (R)-3-히드록시-4-아미노부티르산의 제조에 이용되는 핵심 중간체인 (R)-3-히드록시-4-클로로부티르산 에스테르를 매우 높은 수율로 또한 광학적으로 순수한 형태로 얻을 수 있다.본 발명은 출발물질로서 다음 구조식(Ⅱ)의 (R)-4(트리클로로메틸)옥세탄-2-온을 산 촉매하에 C1-C18지방족 알코올 또는 벤질알코올과 반응시켜 다음 일반식(Ⅲ)의 (R)-3-히드록시-4,4,4 -트리클로로부티르산 에스테르를 제조한 다음, 일반식(Ⅲ)의 화합물의 4-위치를 선택적으로 탈염소화(Bis-dechlorination)시키는 것으로 이루어진 다음 일반식(Ⅰ)의 (R)-3-히드록시-4-클로로부티르산 에스테르의 제조방법에 관한 것이다. 상기식에서 R은 C1-C18의 지방족 알킬기 또는 벤질기이다. 본 발명의 제조방법은 (R)-카르니틴 또는 (R)-3-히드록시-4-아미노부티르산의 제조에 이용되는 핵심 중간체인 (R)-3-히드록시-4-클로로부티르산 에스테르를 매우 높은 수율로 또한 광학적으로 순수한 형태로 얻을 수 있다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[목적] 아암레스트의 일측 상단부에 홀더 몸체를 회전 가능하게 설치하여, 주행중에도 컵을안정되고 편리하게 파지시키는 차량용 아암레스트의 컵 홀더 구조를 제공한다. [구성] 아암레스트(1) 상단부 일측에 수용부(8)가 형성되며, 수용부(8)의 내부에는 연결구(6)의일측이 삽입되어 고정핀(9)에 의한 고정을 이루며, 연결구(6)의 타측은 개구부(5)와 수용부(10)를 형성하고 있는 홀더(4)의 수용부(10)에 삽입되어 고정핀(11)에 의한 고정을 이루며, 아암레스트(1)와 결합되어 있는 홀더(4)가 연결구(6)를 중심으로 회동 가능하게 설치되며, 홀더(4)에 형성되어 있는 개구부(5)에 안착되는 지지부재(3)가 아암레스트(1)에 형성되는 차량용 아암레스트의 컵홀더 구조이다.1.양자성 용매하에 킬레이트화제를 이용하여 시소마이신을 킬레이트화하고, 킬레이트화된 시소마이신의 3',2',6'위치의 아미노기를 아실화제로서 아실화 반응에 의해 보호하고, 암모니아수로 킬레이트된 금속을 이탈시킨다음, 얻어진 3.2'6'-트리치환시소마이신을 비양자성 유기용매에서 에틸화제와 반응시켜 1위치의 아미노기만을 선택적으로 에틸화시키고, 이어서 탈보호하는 것을 이루어진 다음 구조식(I)의 1-N-에틸시소마이신 및 그의 약리할적 허용염의 제조방법.2. 제1항에있어서, 킬레이트화제가 Zn(OAc)2 ` 2H2O인 것이 특징인 제조방법.3. 제1항에있어서, 양자성 용매가 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 또는 이들의 혼합 용매중에서 선택되는 것이 특징인 제조방법.4. 제1항에있어서, 아실화제가 무수 초산 또는 N-벤질옥시카르보닐옥시 숙신이미드인 것이 특징인 제조방법5. 제1항에있어서, 에틸화제가 초산과 모노, 디, 트리아세특시 수소화 붕소나트륨 또는 칼륨의 혼합물 또는 초산과 수소화 붕소나타륨 또는 캄륨의 혼합물 중에서 선택되는 것이 특징인 제조방법.6. 제1항에있어서, 비양자성 용매가 클로로포륨, 메틸렌클로라이드. 사염화탄소, 테트라히드로퓨란, 디메톡시엔탄, 1,4-디옥산,벤젠,툴루엔,아세토니트릴, 프로피오니트릴, 벤조니트릴 또는 이들의 혼합물 중에서 선택되는 것이 특징인 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]본 발명은 일반식(II)로 표시되는 카르복시 화합물 또는 그의 염을 일반식(III)으로 표시되는 헤테로 화합물과 반응시켜 새로운 화합물인 일반식(I)로 표시되는 세팔로스포린 화합물과 이의 약리학적으로 허용가능한 염 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 일반식(I)의 화합물은 그람 음성균 및 그람 양성균에 대해 폭넓은 항균력을 나타내며 여러 내성균에 대해서도 강한 항균력을 나타낸다. 일반식(I) ∼ (III)에 있어서, A는 CH를, R1은 메틸기를, R2는 시아노기, 기(X는 산소, 히드록실 아민을 표시하고, Y는 히드록시, 탄소수 1 ∼ 5인 알킬옥시, 아미노기, 탄소수 1 ∼ 5인 1급 히드록시알킬아미노, 포밀 히드라지노 또는 아실기로 보호된 히드라지노기를 표시한다.)를 또는 하기 구조식의 헤테로환(R3는 수소 또는 메틸기를 의미하며, A2 및 A3는 각각 질소 또는 산소이고, A4는 질소를 표시한다)을 각각 표시하며, 그리고, Z는 요오드, 브롬 또는 아세톡시기이다.1. 일반식(I)로 표시되는 세팔로스포린 화합물 및 이의 약리학적으로 허용가능한 염 :
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
고온 고압 석탄가스화 반응장치에 관한 것으로 대기압하에서는 물론, 고온 고압하에서의 석탄의 가스화반응을 효과적으로 실험 및 분석할 수 있는 고온 가압 석탄 가스화 반응장치에 관한 것이다.석탄입자를 공급하기 위한 석탄공급부, 공급된 석탄이 연소되어 반응하도록 하는 반응기, 반응기에서 연소후 배출된 가스와 반응입자의 분석을 수행하며 가스를 외부로 배출시키기 위한 배가스처리부를 포함하는 석탄의 특성시험장치에 있어서, 석탄가스화에 필요한 반응가스를 고온 고압 주반응기에 정량공급하기 위한 가스정량공급부, 반응가스를 혼합 하기 위한 가스혼합부, 반응가스를 800 내지 1,300℃의 온도로 예열시키기 위한 가스예열기, 증기를 고온 고압 주반응기에 정량 공급하기 위한 증기정량주입부, 가스예열기로부터 예열된 반응가스와 석탄공급부에서 공급된 석탄입자를 0 내지 25kg/cm2의 압력 및 600 내지 1,800℃의 온도에서 석탄가스화 반응시키기 위한 고온 고압 주반응기, 고온 고압 주반응기로부터 배출된 가스와 반응입자의 분석을 수행하며 가스를 외부로 배출시키기 위한 배가스처리부, 고온 고압 주반응기의 주위에 냉각수를 순환시키기 위한 냉각수순환부 및 고온 고압 주반응기와 반응가스의 압력, 유량 및 온도를 제어하고 설비운전시의 비상상황을 감시 및 제어하며 설비운전자료를 수집하기 위한 제어 및 자료수집부로 구성된다.
- 보유기관
- 전력연구원
- 등록일
- 2001-02-19
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
광학창 교체장치가 구비된 광화학 기상증착장치 및 광학창 교체방법에 관한 것이다. 좀더 구체적으로는 광화학 기상증착(photo-chemical vapor deposition; photo-CVD) 장치의 반응실 내에서 광화학기상증착 반응시 반응가스의 분해에 의해 생성된 물질 또는 증착에 사용된 물질의 부착에 의해 흐려진 광학창(optical window)을 반응실의 내부를 대기에 노출시키지 않으면서 세정된 광학창으로 교체할 수 있는 광학창 교체장치가 구비된 광화학기상증착장치 및 광학창 교체장치를 사용하여 광화학기상증착장치의 광학창을 교체하는 방법에 관한 것이다.취기구, 배기구, 기판 가열지지대 및 가열히터가 구비되고 상단에 광학구멍이 형성되며 증착반응을 수행하기 위한 반응실과 반응실의 상부에 형성되고, 취기구 및 배기구와 상단에 광 통과구가 구비되며 광학창 이송수단에의해 이송된 광학창의 탈장착이 수행되는 광학창 고정실과 광학창 고정실의 광 통과구 상부에 부설되어 광화학기상증착반응을 위해 필요한 에너지를 지닌 광을 광 통과구에 장착된 뷰 포트를 통해 반응실 내부로 조사하기 위한 광원과 광학창 고정실과 횡방향으로 일체로 연장 형성되고 취기구 및 배기구와 하단에 광학창 교체를 위한 개폐구가구비되며 광학창 이송수단에 의해 이송된 흐려진 광학창과 세정된 광학창의 교체가 수행되는 광학창 교체실과 광학창 고정실과 광학창 교체실의 사이에 설치되어 광학창 고정실과 광학창 교체실을 연통 또는 격리시키기 위한 개폐수단과 광학창이 장착되어 광학창 교체실과 광학창 고정실을 왕복하면서 광학창을 이송하며 반응실의 광학구멍 상에 광학창을 탈장착하기 위한 광학창 이송수단 및 광학창 이송수단과 연결되어 광학창 이송수단이 광학창 교체실과 광학창 고정실 내에서 왕복하도록 구동력을 제공하기 위한 구동수단으로 구성된다.
- 보유기관
- 전력연구원
- 등록일
- 2001-02-19
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일반기술
화학공정 > 기타 촉매 기술
수소와 물 사이의 수소 동위원소 교환반응을 수행하기 위한 병류식 고분자 촉매 반응장치로서 반응탑의 내부에서 액체는 상부에서 하부로 기체는 하부에서 상부로 흐르면서 전체적으로 향류접촉하도록 구성되어진 병류식 고분자 촉매 반응장치에 관한 것이다.액상 주입구, 액상 배출구, 기상 주입구 및 기상 배출구가 구비된 반응탑의 내부에 기체의 입,출구가 형성되고 소수성 고분자 촉매가 충진되어 기상반응이 일어나는 고분자 촉매부와 반응탑 내에서 액체의 분산을 높이기 위한 친수성 충전물이 충진되어 기-액 반응이 일어나는 친수성 충전부가 그 내부에서 기-액이 병류 접촉을 하도록 1개 이상의 단으로 교대로 형성되고 친수성 충전부의 기-액 반응에 의해 형성된 기체를 상위단의 고분자 촉매부로 이송하기 위한 기체 이송로가 부설되며 반응탑의 내부에서 액체는 상부에서 하부로 기체는 하부에서 상부로 흐르면서 전체적으로 향류접촉 하도록 구성된 것을 특징으로 한다.
- 보유기관
- 전력연구원
- 등록일
- 2001-02-19
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
합성섬유의 스크랩을 재생 가공하여 방수, 항균 기능을 가진 포장골판지의 소재를 개발1. 衫鳧특성 : 흡수두께팽창율, 흡수율, 내구성 및 물리적 특성 공인 시험완료 2. 화학적 특성 : 내산, 내알칼리등 모든 용제에 변형없음, 한열, 한냉 및 내마모 공인 3. 저가, 고품질, 고부가, 고효율, 고기능성 공인기ㅘㄴ 시험성적서 제
- 보유기관
- 리텍환경기술개발원
- 등록일
- 2001-02-28
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
경첩으로 서로 연결되고 적소에는 절첩 가능한 지지각이 배치되며 상면 상면 주변에는 매직테이프가 부착되고 세장공이 천공되어 있는 단위탁자자판과, 공기 주입관을 가지고 일측에 매직테이프가 부착되어 있는 에어쿳션으로 구성되고, 단위탁자판 간의 각도를 조절할수 있는 탄성재질의 연결관체 및 연결관체 조절구로서 조립되는 다기능성 공기 탁자에 관한것이다본 고안은 절첩식 탁자에 관한 것으로, 절첩되는 탁자판에 공기 주입식 에어쿠션을 착탈식으로 장착하여 사용할 때에는 공기를 주압, 사용하고 휴대시에는 에어쿠션내의 공기를 제거함으로서 부피를 최소화하여 간편하게 휴대할 뿐만 아니라 여러개의 단위 탁자판을임의 형태로 조립할 수 있게한 가변형 다기능 탁자에 관한 것이다
- 보유기관
- (주)우신산업
- 등록일
- 2001-05-07
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
중합체의 단량체로 사용될 수 있는 불소 함유 치환체가 도입된 트리아릴포스핀 옥사이드 유도체에 관한 기술이다. 종래의 접착성, 난연성 등의 물성이 우수한 중합체 제조를 위한 단량체는 DAPPO 또는 DDS를 사용하는 방법이 알려져 있으나, 접착력, 유전상수, 복굴절율 등의 물성이 만족스럽지 못하다. 또한 우수한 물성을 가진 불소화합물의 경우에는 상대적으로 다른 물질과의 접착력이 떨어지는 단점이 있다. 이러한 문제점을 해결하고자, 접착력 및 난연성 향상에 탁월한 효과가 있는 포스핀옥사이드계 화합물에 불소 치환체를 도입하여 우수한 물성을 갖는 신규 물질을 제공한다. 유기 용매 및 마그네슘 중에서 플루오로알킬-이치환된 브로모벤젠과 디페닐포스피닉 클로라이드를 반응시킨 후, 염 존재하에서 질산화하고, 이를 다시 팔라듐 촉매의 존재하에서 수소화하여 불소 함유 치환체가 도입된 트리아릴포스핀 옥사이드 유도체를 제조한다. 또한 상기의 유도체를 디안하이드라이드 화합물과 반응시킨 후 용액 이미드화하여 폴리이미드 중합체를 제조할 수 있다. 상기의 화합물은 인과 불소를 동시에 가져, 접착성, 난연성 뿐만 아니라 내약품성 및 전기절연성이 우수하여 반도체 패키징 재로, 내화제, 광섬유 및 광학재료의 중간물질, 금속의 접착제 중간물질로 사용될 수 있는 중합체의 제조에 유용하게 사용될 수 있다.
- 보유기관
- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-05-30
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일반기술
화학공정 > 고분자 가공공정 기술
폴리메타아크릴레이트의 음이온 중합방법에 관한 기술이다. 메타아크릴레이트의 음이온 중합은 많은 부반응을 수반하므로, 종래에는 이러한 문제를 해결하기 위해 LiCl, 금속물질, 아민류 등을 이용하여 부반응을 제거하고 있으나, 고체 형태의 단량체를 사용하는 경우에는 어느 정도의 불순물을 함유하고 있으며, 이로 인해 분자량 및 분자량 분포의 조절에 문제가 있었다. 또한 니트로 그룹을 갖는 물질의 경우에 아직까지 음이온 중합을 이용하여 고분자를 합성한 경우가 보고된 바 없다. 이러한 종래의 문제점을 해결하고자, 카르바졸을 함유하는 메타아크릴레이트 고체 단량체를 이용하여 분자량과 분자량 분포를 제어한 고분자를 제공한다. 카르바졸을 측쇄로 갖는 메타아크릴레이트 단량체를 합성하고, 전기의 단량체를 디에틸아연 등을 사용하여 음이온 중합함으로써, 단독고분자 또는 블록 공중합체를 제조한다. 상기의 중합방법은 불순물을 함유하는 고체단량체의 불순물을 디에틸아연을 사용하여 제거하므로써 분자량과 분자량 분포를 제어할 수 있다는 장점을 가진다.
- 보유기관
- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-05-30
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일반기술
화학공정 > 기타 섬유·의류제조 기술
본 기술은, 면사 및 면혼방사 등과 같은 방적사의 가호에 이용되는 분말형 복합호제에 관한 것이다.일반적으로, 제직시에 경사의 가호상태가 실제 양호한 제직성을 갖추는데 중요한 역할을 하는 것은 이미 널리 알려진 사실이다. 그러나 가호용액(호제)의 조건은 매우 광범위하여 이를 충족시키기 위한 꾸준한 노력들이 직기의 고속화와 더불어 많은 진보를 가져왔고, 최근 경사물성 보강을 위한 가호기술 및 호제의 개발이 심각히 대두되어 왔다.본 기술의 목적은 면 및 면혼방사에 대해 기존의 전분, PVA, 아크릴계 등의 단순한 혼합차원을 넘어 기존방법보다 저렴한 비용으로, 용이하게 가호사의 제반 필요조건을 만족시켜, 세번수의 사까지 양호한 제직성을 갖출 수 있는 섬유용 복합호제의 제조방법을 개발하는 것이다.본 기술에서는 전분을 초산 등으로 개질화한 것과 찰옥수수전분, 옥수수알파화전분, 옥수수 전분, 산처리전분중의 적어도 1종 이상을 혼합한 혼합물에 폴리비닐알코올(PVA) 공중합체의 고중합 및 저중합체를 적절히 혼합 사용함으로써, 혼합안정성을 개선하고, 가호사의 물성을 향상하였으며, 이외 상압에서 호액 쿡킹(Cooking)이 가능한 점 등 다수의 기술적 문제를 개선함으로써 피복성 및 침투성을 동시에 만족시킬 수 있본 기술은 전분을 초산 등으로 개질화한 것과 찰옥수수전분, 옥수수알파화 전분, 옥수수전분, 산처리전분중의 적어도 1종 이상을 혼합한 혼합물에 폴리비닐알코올의 Copolymer의 고중합체 및 저중합체를 적절히 혼합 사용함으로써, 전분류 등 기타 호제와 폴리비닐알코올(PVA)의 혼합안정성을 개선하였고, 또한 이것의 호발성이 양호하여 제직후 비교적 고단가인 폴리비닐알코올(PVA)계 호제의 회수 및 재이용이 가능하다. 또 일반적으로 고전도 호제는 피복성이 우수한 반면 침투성이 약하고, 저점도 호제는 그 반대현상을 보여왔으나, 본 방법으로서, 피복성 및 침투성을 동시에 만족시킬 수 있다.더욱이, 가호작업을 호제쿡킹(Cooking)시 기존에는 고압쿡커(Cooker)로 120℃ 이상에서 90분 이상 호화시켰으나, 본 기술에서는 80-90℃에서 40분이면 호화되므로, 상압에서 쿡킹이 가능하고, 가호사의 특성으로 인해 직기 회전수900RPM 이상에서, 또한 면사의 새번수(80S이상)까지 제직이 가능한 점을 특징으로 하고 있다. 또한, 본 제품은 대전방지 유제까지 왁스와 함께 경화되어 포함되어 있고, 각 배합비율별로 등급을 설정하여 추가 첨가를 하지 않아도 북직기용부터 세번수의 고속직기까지 우수한 제직성을 유지할 수 있는 점도 큰 장점이라 하겠다
- 보유기관
- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-06-20
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일반기술
화학공정 > 기타 섬유·의류제조 기술
본 기술은 면사 및 면혼방사 등과 같은 방적사에 대한 경사가호용 복합호제의 제조방법에 관한 것이다.종래의 복합호제의 제조방법들은 방적사의 가호제로서 전문성이 결여되어 실제로 만족스럽지 못하고, 번잡한 공정 및 여러 가지 고단가의 원료 배합으로 호제의 제조비용이 높다.본 기술에서는 이보다 더 혼합원료를 줄임으로써 제조경비의 절감은 물론 혼합공정의 단순화 효과를 가지면서도 제직성이 매우 우수한 방법으로서 경사 물성 보강을 위해 여러 가지 반합성 호제 및 합성 호제류를 첨가하던 기존 방법들에 탈피하여 전분계 및 폴리비닐알코올계 외에 왁스만을 첨가제로 사용하는 방법이므로, 용이하게 가호사의 제반조건을 만족시켜 세번수의 사까지 양호한 제직성을 가지는 섬유용 복합호제를 제조할 수 있다.또한, 본 기술은 매우 저렴한 가격의 복합호제로서 호화가 쉽고 호액의 안전성과 결착력이 우수하여 낙호가 없는 것은 물론, 사에 유연성을 부여함으로써 양호한 가호사의 물성을 양호한 가호사의 물성을 유지하여 직기 회전수 900RPM 이상, 면사의 세번수(80s 이상)까지 제직이 가능한 기술이다본 기술은 전분을 인산 등으로 개질화한 것에 덱스트린, 찰옥수수전분, 옥수수알파화 전분, 산처리 전분 및 옥수수전분 중의 적어도 1종 이상을 혼합하는 방법으로 기존전부의 섬유용 호제로서의 결점을 보완, 개선하고, 또한 폴리비닐알코올 공중합체중의 고중합체 및 저중합체의 혼합물을 위와 같은 전분류 혼합물과 적절히 혼합사용함으로써 혼합안정성과 호액의 침투 및 피복성을 동시에 만족시켜 우수한 가호사의 물성을 유지하였으며, 더구나 가호사 물성보강을 위해 전분류 및 폴리비닐알코올계 외에 기존에 첨가되던 여러 가지 반합성호제 및 합성호제의 사용을 배제함으로써 제조비용의 절감은 물론 호발성이 양호하여 비교적 고단가인 폴리비닐알코올계 호제의 회수 및 재이용이 더욱 용이해졌을 뿐만 아니라, 호제 쿡킹시에도 배합 원료의 호화가 수월하여 80∼90℃에서 40분이면 완전호화가 가능하므로 기존의 고압의 쿠킹방법으로부터 상압 쿡킹방법으로의 공정 단순화를 점도 장점이라 하겠다
- 보유기관
- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-04-07
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