산업기술 통합검색
본 발명은 하기 일반식 (I) 내지 (IV)의 새로운 크라운 에테르형 시클로판 화합물 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.; [IMAGE 1] 하기 일반구조식 (I), (II), (III) 또는 (IV)를 갖는 크라운 에테르형 시클로판 화합물: [IMAGE 49] 여기에서, m은 0 또는 1의 정수를 나타내고; n은 1 내지 5의 정수를 나타내고;양 이소옥사졸린 고리는 벤젠 고리에 있어서 meta- 또는 para- 위치에 치환된다.
본 발명은 인간 면역 결핍 바이러스(HIV) 프로테아제 억제제 화합물 및 이를 포함하는 조성물에 관한 것으로, 하기 일반식 (I), (II) 또는 (III)의 화합물은 HIV 프로테아제를 억제함으로써 HIV 감염으로 발생하는 후천성 면역 결핍증의 치료 및 예방에 사용할 수 있다:; [IMAGE 1] 하기 일반식 (I)의 화합물, 이의 약학적으로 허용되는 염, 수화물 또는 용매화물: [IMAGE 50] 여기에서, R은 이속사졸 또는 이속사졸린환이고, R 1 은 -CO-NH-C(CH 3 ) 3 또는 -CH 2 -CH 2 -Ph 이고, R 2 는 -(A) n -P 인데, A는 발린 또는 아스파라긴이고, n은 0 또는 1이고, P는 벤질옥시카르보닐 또는 tert-부틸옥시카르보닐이고, R 3 는 페닐 또는 시클로헥실이다.
3-아미노프로필디에톡시메틸실란 용액에 용융 실리카 또는 실리콘 웨이퍼 등의 기질을 침지시킨 후 건조함으로써 높은 아민 작용기 밀도를 갖는 실란 분자층을 형성시킬 수 있다. 3-아미노프로필디에톡시메틸실란 용액에 침지시킨 후 건조하는 것을 포함하는, 실란 화합물의 단분자층 형성 방법.
염기자리를 첨가하여 고온에서의 이산화탄소에 대한 흡착능을 높인 흡착제 및 그 제조방법이 제공된다. 종래의 흡착제 또는 흡착제로서 사용가능한 물질로된 담지체에 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 산화물 혹은 수산화물 혹은 탄산염 등을 담지시킴으로써 이산화탄소에 대한 흡착제 표면의 친화도를 높여, 냉각단계 없이 100℃에서 250℃의 고온의 이산화탄소 함유 배가스로부터 이산화탄소를 효율적으로 분리ㆍ흡착시킬 수 있도록 하였다.; 상기 흡착제 제조방법으로는 함침법 및 합성법을 포함한다.통상의 흡착제 또는 흡착제로서 사용가능한 물질로된 담지체 표면에 염기자리를 부가하여된 이산화탄소 고온분리용 흡착제.
본 발명은 항진균 활성을 갖는 하기 일반식 (I) 또는 (II)의 24-헤테로 원자 치환된 스테로이드 화합물, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 항진균제에 관한 것이다:; [IMAGE 1] ; [IMAGE 2] ; 상기식에서; R 1 은 수소원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 시클로알킬기, 벤질기, 페닐기 또는 하이드로겐설파이트기이고,; R 2 는 수소원자 또는 하이드로겐설파이트기이고,; X는 질소원자 또는 황원자이다. 하기 일반식 (I)의 24-헤테로 원자 치환된 라노스테롤. [화학식 1] [IMAGE 17] 상기식에서 R 1 은 수소원자, 탄수수 1 내지 4 개의 알킬리, 시클로알킬기, 벤질기, 페닐기 또는 하이드로겐설파이트기이고, R 2 는 수소원자 또는 하이드로겐설파이트기이고, X는 질소원자 또는 황원자이다.
본 발명은 엔지오제닌(angiogenin)의 저해제에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 신 혈관형성(angiogenesis)을 유도하는 엔지오제닌에 대해 길항능을 지닌, 엔지오제닌 58번에서 70번까지의 아미노산을 암호화하는 염기들의 대응유전자코돈(anticodon)에 의해 암호화되는 펩티드 및 그를 이용한 신 혈관형성의 억제방법에 관한 것이다. 본 발명의 펩티드는 인간 엔지오제닌과 그 수용체인 액틴간의 결합을 농도의존적으로 저해하고, 결국 인간 엔지오제닌에 의해 유도되는 신 혈관형성을 기존 혈관에는 어떠한 영향을 미치지 않고서 억제하는 바, 항암제 혹은 신 혈관형성이 필수적으로 요구되는 류마티스 관절염 및 당뇨성 실명증 등과 같은 병의 치료제로서 효과적으로 이용될 수 있을 것이다. 엔지오제닌(angiogenin)과 그 수용체 액틴(actin)과의 결합을 저해하여 신 혈관형성(angiogenesis)을 억제하는 하기와 같은 아미노산 서열로 이루어진 펩티드 : NH 2 -Val-Phe-Ser-Val-Arg-Val-Ser-Ile-Leu-Val-Phe-COOH
본 발명은 신 혈관형성 유도물질인 혈관벽세포 성장호르몬(vascular endothelial growth factor, 이하 'VEGF'로 약칭함) 활성을 저해하는 새로운 펩티드 및 이를 항암제, 신 혈관형성과 관련된 질병의 치료제로 사용하는 용도에 관한 것으로, 구체적으로는 신 혈관형성을 유도하고 암세포 등에 의해 분비되는 VEGF의 활성을 저해하는 새로운 펩티드 서열을 화학적으로 합성된 펩티드 라이브러리로부터 분리함으로, 본 발명의 펩티드를 포함하는 약학적 조성물은 항암제, 신 혈관형성과 관련된 질병의 치료제 등으로 유용하게 사용될 수 있다. 1) 첫 번째, 네 번째, 여섯 번째 아미노산은 아르기닌이고; 2)두 번째 아미노산은 아르기닌, 라이신, 히스티딘에서 선택되며; 3) 세 번째, 다섯 번째 아미노산은 아르기닌, 라이신에서 선택된 여섯 개의 아미노산으로 구성된 서열을 포함하는 혈관벽세포 성장호르몬 활성억제 펩티드.
본 발명은 엔지오제닌(angiogenin) 및 플라즈민(plasmin)의 저해제에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 신 혈관형성(angiogenesis)을 유도하는 엔지오제닌의 저해제로 보고된 chANG 펩티드(인간 엔지오제닌의 58번부터 68번까지의 아미노산을 암호화하는 염기 서열에 대응하는 유전자코돈(anticodon)으로부터 번역되는 아미노산으로 구성된 펩티드(참조: 특허출원 97-44681)와 이로부터 유래된 특정 결실 펩티드들 및 그를 이용한 신 혈관형성의 억제방법에 관한 것이다. 본 발명의 펩티드들은 신 혈관형성과 암세포의 전이에 필수적으로 요구되어지는 플라즈민의 활성도를 저해하고, 기존혈관에는 영향을 주지 않으면서 엔지오제닌과 인간 암세포에 의해 유도되는 신 혈관형성을 억제하는 바, 항암제 혹은 신 혈관형성이 필수적으로 요구되는 류머티스 관절염, 당뇨성 실명증 및 망막의 황반퇴화에 의한 실명증 등과 같은 병의 치료제로서 유효하게 이용될 수 있다. 플라즈민의 활성을 저해하여 신 혈관형성(angiogenesis)을 억제하는 하기 아미노산 서열로 이루어진 펩티드. NH 2 -Val-Phe-Ser-Val-Arg-Val-Ser-Ile-Leu-Val-Phe-COOH
본 발명은 항암제, 항균제, 소염제, 위궤양제, 동맥경화제 및 면역억제제 등의 합성 중간체로 사용되는 스핑고신 및 스핑가닌 유도체의 새로운 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따른 제조방법은 입체선택성이 높아 광학적 및 입체적으로 순수한 이성질체를 제조할 수 있고, 하나의 출발 물질로 다양한 입체이성질체 제조가 가능하며, 반응시간이 짧은 등의 장점이 있다. (a) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물과 하기 화학식 2로 표시되는 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; <화학식 1> [IMAGE 13] <화학식 2> CH 3 PO(OR 5 ) 2 <화학식 3> [IMAGE 14] 상기 식들에서, R 1 은 수소 또는 메틸기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이며, R 2 는 수소 또는 히드록시기의 보호기로서 메톡시메틸, 메톡시티오메틸, 트리에틸실릴, 트리이소프로필실릴, t-부틸디페닐실릴, t-부틸디메틸실릴, 트리메틸실릴, 트리페닐실릴, 벤질, p-메톡시벤질, t-부톡시메틸, 테트라히드로피라닐, 3,4-디메톡시벤질, o-니트로벤질, 디페닐메틸 및 트리페닐메틸(트리틸)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나이며, R 3 는 수소 또는 아민기의 보호기로서 트리페닐메틸, 알릴, 디(4-메톡시페닐)메틸, N-5-디벤조수베릴, (4-메톡시페닐)디페닐페닐 및 9-페닐플루오로레닐 군으로부터 선택되는 어느 하나이며, R 4 및 R 5 는 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, t-부틸, 페닐 및 벤질기로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나임. (b) 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 하기 화학식 4로 표시되는 알데히드 화합물을 염기 조건에서 반응시켜 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; 및 <화학식 4> R 6 CHO <화학식 5> [IMAGE 15] 상기 식 들에서, R 1 , R 2 , 및 R 3 는 상기에서 정의한 바와 같으며, R 6 는 수소 또는 탄소수 1 내지 30의 탄화수소임. (c) 상기 화학식 5로 표시되는 화합물의 케톤기를 환원하여 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 스핑고신 유도체의 제조방법. <화학식 6> [IMAGE 16] 상기 식에서, R 1 , R 2 , R 3 및 R 6 는 상기에서 정의한 바와 같음 .
본 발명은 기질상에 높은 아민기 밀도를 갖는 분자층의 형성방법을 제공한다. 상기 방법은 기질 표면에 형성되어 있는 아미노실란 분자층의 아민기를 아지리딘 유도체와 반응시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 기질 표면에서의 아민기 밀도를 대폭적으로 증가시킬 수 있다. 이와 같이 표면에 높은 아민기 밀도를 갖는 고체 기질은 DNA 칩이나 바이오칩을 개발하는데 매우 중요한 기능을 수행한다. 이밖에도 기질 표면에 원하는 분자들을 고정하고, 이들의 성질을 밝히는 표면 연구에도 중요한 표면 기질로 사용가능하다. 기질 표면에 형성되어 있는 아미노실란 분자층의 아민기를 아지리딘 유도체와 반응시키는 것을 특징으로 하는 기질상에 아민기 함유 분자층을 형성하는 방법.
본 발명은 화학식 1로 표시되는 3,3'-비스[(4'-Ｒ-4-스틸베닐)옥시알킬옥시]바이페닐-4,4'-디아민, 그 제조방법, 이로부터 형성된 방향족 폴리이미드 및 이 방향족 폴리이미드로 된 배향막을 구비하고 있는 액정표시소자를 개시한다.; [화학식 1] [IMAGE 1] ; 상기식중, R은 할로겐 원자, CN, CF 3 , OC j H 2j+1 및 C j H 2j+1 (단, j는 2 내지 12의 수임)로 이루어진 군으로부터 선택되고, m은 2 내지 12의 수이다. 본 발명에 따른 화학식 1의 3,3'-비스[(4'-R-4-스틸베닐)옥시알킬옥시]바이페닐-4,4'-디아민은 폴리아마이드, 폴리이미드 등의 고분자 합성용 단위체로서 유용하다. 그리고 이로부터 제조된 화학식 2의 방향족 폴리이미드는 통상의 바이페닐-4,4'-디아민에서 제조되는 방향족 폴리이미드에 비하여 유기용매에 대한 용해도 특성이 매우 우수하다. 따라서 폴리이미드 전구체인 폴리아믹산을 이용한 이미드화 공정을 거칠 필요 없이 방향족 폴리이미드를 직접 가공할 수 있다. 또한, 상기 방향족 폴리이미드로 된 배향막을 구비하고 있는 액정표시소자는 프리틸트각 특성이 우수하다. 화학식 1로 표시되는 3,3'-비스[(4'-R-4-스틸베닐)옥시알킬옥시]바이페닐 4,4'-디아민: <화학식 1> [IMAGE 23] 상기식중, R은 할로겐 원자, CN, CF 3 , OC j H 2j+1 및 C j H 2j+1 (단, j는 2 내지 12의 수임)로 이루어진 군으로부터 선택되고, m은 2 내지 12의 수이다.
본 발명은 저유전재료 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 유기치환체를 갖는 실란화합물(organosilane)과 산화규소 에어로겔(aerogel)을 포함하는 저유전재료를 제공하는 것을 특징으로 하고, 상기 저유전재료를 이용하여 초저유전박막을 제조하는 방법을 제공하고 있다. 하기 화학식 1의 유기치환체를 갖는 실란화합물과 산화규소 에어로겔을 99:1 내지 1:99의 중량비로 포함하고, 상기 유기치환체를 갖는 실란화합물과 산화규소 에어로겔 총 100 중량부에 대하여 테트라알콕시실란을 10 내지 80 중량부 포함하는 집적회로의 저유전 박막 형성용 조성물. 〔화학식 1〕 (R 1 O) m (R 2 ) n SiR 3 . 상기 식에서 m+n=3 이고 m은 1, 2 또는 3이며, R 1 과 R 2 는 서로 독립적으로 C 1 - C 10 알킬기이고, R 3 는 비닐, 할로겐, 알콕시, 니트로, 니트릴, 아민, 아크릴옥시 또는 에폭시기 치환체를 말단으로 갖는 탄화수소이다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 삼발이형 옥사졸린 화합물 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 화학식 1로 표시되는 화합물은 선형의 알킬 암모늄 이온 및 β-페네틸암노늄 이온에 대한 인지물질로 사용될 수 있다. 따라서 이러한 화합물을 이용한 화학 센서는 선형의 알킬 암모늄 이온 및 β-페네틸암노늄 이온을 정량적 또는 정성적으로 분석이 가능하여 임상실험, 화학분석실험 등에 널리 이용될 수 있다. ; [화학식 1] [IMAGE 1] ; 상기 식 중 R 1 은 메틸기 또는 에틸기이고; R 2 는 페닐 또는 벤질이고; R 3 은 수소 또는 페닐이다. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물. <화학식 1> [IMAGE 13] 상기 식 중 R 1 은 메틸기 또는 에틸기이고; R 2 는 페닐 또는 벤질이고; R 3 는 수소 또는 페닐이다.
본 발명은 저유전재료 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 유기치환체를 갖는 다면체구조의 실세시퀴옥산 (silsesquioxane)과 산화규소 에어로겔 (aerogel) 을 포함하는 유전 재료를 제공하는 것을 특징으로 하고, 상기 유전재료를 이용하여 저유전박막을 제조하는 방법을 제공하고 있다. 유기치환체를 갖는 다면체구조의 실세시퀴옥산과 산화규소 에어로겔을 9.9:0.1 내지 1:9 중량비로 포함하며, 상기 유기치환체를 갖는 다면체구조의 실세시퀴옥산이 하기 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 유전재료: (R 1 O) m (R 2 ) n [Si 8 O 12 ]. (상기 식에서, [Si 8 O 12 ]는 육면체 구조의 옥타실록산이며, m+n=8 이고 m은 8, 7 또는 5 이며, R 1 은 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 2-(클로로디메틸실릴)에틸, 2-(디클로로메틸실릴)에틸, 2-(트리클로로실릴)에틸, 비닐 또는 디메틸실릴옥시 기 치환체를 갖는 지방족 알킬 그룹이며, R 2 는 3-히드록시프로필, (3-히드록시-3-메틸)부틸, 3-(에톡시디메틸실릴)프로필, 3-(디에톡시메틸실릴)프로필, 3-(트리에톡시실릴)프로필, 2-(에톡시디메틸실릴)에틸, 2-(디에톡시메틸실릴)에틸, 2-(트리에톡시실릴)에틸, 3-(클로로디메틸실릴)프로필, 3-(디클로로메틸실릴)프로필, 3-(트리클로로실릴)프로필, 2-(클로로디메틸실릴)에틸, 2-(디클로로메틸실릴)에틸, 2-(트리클로로실릴)에틸, 2-에폭시프로필 또는 에폭시에틸기 치환체를 갖는 지방족 알킬 그룹이다.)
본 발명은 바이오칩등의 기질로 사용될 수 있는, 저밀도 아민기를 함유하는 분자층을 표면에 포함하는 기질에 관한 것이다.; 본 발명은 이를 위하여, N-CBZ-[1]amine-[9]acid로 대표되는 카르복시산을 가지는 화학식 1의 화합물 및 이의 제조방법을 제공하며, 아미노실란화된 기질표면의 아민기와 삼각뿔 형태의 화학식 1의 화합물을 반응시켜 제조되는 분자층을 표면에 포함하는 기질 및 이의 제조방법을 제공한다.; 본 발명에 따르면 아미노실란화된 기질표면에서의 아민기 밀도를 대폭 감소시킬 수 있고, 낮은 아민기 밀도를 갖는 동시에 아민기간의 거리가 일정한 고체 기질은 DNA 칩이나 바이오칩을 개발하는데 중요한 기능을 수행할 수 있으며, 이밖에도 기질 표면에 원하는 분자들을 고정하고, 이들의 성질을 밝히는 표면연구에 사용할 수 있다. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물: [화학식 1] [IMAGE 10] 상기 식에서, R은 페닐이거나, 니트로기, 할로겐, 또는 시아노기로 치환된 페닐, 나프틸, 또는 안트릴이다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 9,10-디알킬옥시-1,2,3,4,5,6,7,8-옥타히드로-2,3,6,7-안트라센테트라카르복실산-2,3:6,7-이무수물들 및 그 제조방법에 관한 것이다:; [화학식 1] [IMAGE 1] ; 상기 식중, R은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 24의 알킬기이다. ; 본 발명에 따른 화학식 1로 표시되는 화합물들은 폴리이미드, 폴리이미다조피롤론, 가교 폴리에스테르, 가교 폴리아미드등의 고분자합성의 단위체로서 매우 유용하다. 특히 화학식 1의 화합물로부터 제조된 폴리이미드는 통상적인 방향족 폴리파이로멜리트이미드나 또는 불포화된 고리를 포함하는 다른 폴리이미드에 비하여 유리전이온도가 낮으며 유기용매에 대한 용해성이 우수하다. 하기 화학식 1로 표시되는 9,10-디알킬옥시-1,2,3,4,5,6,7,8-옥타히드로-2,3,6,7-안트라센테트라카르복실산-2,3:6,7-이무수물; [화학식 1] [IMAGE 12] 상기 식중, R은 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 24의 알킬이다.
본 발명은 사염화탄소의 처리방법에 대한 것으로, 보다 상세하게는 사염화탄소와 메탄 또는 알코올을 200∼800℃ 온도에서 촉매를 사용하여 비균등화 반응시켜 염화탄소류를 생성시키는 과정을 포함하는 사염화탄소의 처리방법에 관한 것으로 적절한 촉매계의 선택에 의해 촉매의 비활성화 영향을 받지 않고 용이하게 사염화탄소를 처리할 수 있도록 하며, 또한 이로부터 유용한 산물을 얻을 수 있다. 사염화탄소와 메탄 또는 알코올을 200∼800℃ 온도에서 촉매를 사용하여 비균등화 반응시켜 염화탄소류를 생성시키는 과정을 포함하는 사염화탄소의 처리방법.
본 발명은 덴드론티올 혹은 덴드론티올 유도체로 표면이 안정화된 금속 나노 입자 및 그 제조 방법을 제공한다.; 본 발명에서는 금속 나노 입자를 안정화하기 위해 표면에 도입하는 화합물로서 입체적 장애효과를 효율적으로 나타낼 수 있는 덴드론이라고 하는 나무가지 모양의 유기화합물을 사용함으로써, 금속 나노 입자의 크기를 용이하게 조절할 수 있을 뿐 아니라, 덴드론의 입체적 장애 효과에 의해 금속 나노 입자의 표면에 촉매로서 이용할 있는 비어 있는 금속 표면을 효과적으로 제공하여 균일상 촉매로 금속 나노 입자를 사용하는 것을 가능케 한다. 화학식 1의 덴드론티올 혹은 덴드론티올 유도체로 표면이 안정화된 금속 나노 입자. [화학식 1] [IMAGE 4] 상기 화학식 중, R은 메틸기이고, n은 1 내지 5의 정수이다.
본 발명은 유기 나노관(organic nanotube)의 합성 및 이 유기 나노관을 주형으로서 이용하여 산화-환원 반응을 통해 이온 상태의 금속으로부터 초미세 금속 나노선(ultrathin nanowire)을 합성하는 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 기존의 합성법과는 달리 상온, 상압의 용액 상에서 합성이 수행되므로 매우 실용적으로 유기 나노관 및 금속 나노선을 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 수득된 유기 나노선은 극히 작은 지름을 가지므로 고집적회로 및 기억소자의 개발에 유용하게 이용될 수 있다. 칼릭스[4]하이드로퀴논(calix[4]hydroquinone)(CHQ)을 아세톤 수용액에 용해시킨 후 0 내지 10 ℃ 범위의 온도에서 아세톤을 증발시킴으로써 CHQ를 결정화시킴을 포함하는, CHQ 유기 나노관(organic nanotube)의 합성방법.
본 발명은 단일공정을 통해 기질 상에 고밀도의 아민기 함유 분자층을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기질 표면의 친핵성 작용기인 히드록시기와 아지리딘 동등체(equivalent)를 직접 반응시켜 기질 상에 고밀도의 아민기 함유 분자층을 형성하는 방법에 관한 것이다.; 상기와 같은 방법에 의하면, 기질 상에 고밀도의 아민기 함유 분자층이 도입되어 바이오칩을 개발하는데 매우 중요한 기능을 수행할 수 있으며, 이밖에도 기질 표면에 원하는 분자들을 고정하고, 이들의 성질을 밝히는 표면 연구에도 중요한 표면 기질로 사용이 가능하다.; 또한, 본 발명은 기질의 친핵성 작용기 표면에 아지리딘 동등체를 직접 반응시키는 단일공정을 통해 기질 표면에 높은 밀도의 아민기를 가지는 표면을 간단히 제조할 수 있고, 기존의 두 단계 또는 그 이상을 거치는 공정을 보다 단순화시킨 방법으로서, 바이오칩의 개발 및 표면연구에 소요되는 시간 및 비용을 절감시키는 효과를 가져올 수 있다. 히드록시기, 티올기, 및 아민기로 구성된 그룹에서 선택된 기질 표면의 친핵성(nucleophilic) 작용기를 아지리딘 또는 할로에틸아민과 연쇄중합반응 시킴으로써 기질 상에 고밀도의 아민기 함유 분자층을 형성하는 방법.