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[구성]일반식(Ⅰ)로 표시되는 새로운 2-이미노티아졸린 유도체 및 그의 염산염 또는 브롬산염과 그 제조방법에 관한 것으로, 이 화합물은 살균제로 사용가능하며, 특히, 농약살균제로 효과 높은 화학약품이다. 이의 제조는 일반식(Ⅳ)로 표시되는 이소티오시아네이트 유도체와 일반식(Ⅴ)로 표시되는 알킬아민 또는 아릴아민을 비활성 유기 용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체를 제조하는 제 1 공정과 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체와 일반식(Ⅶ)로 표시되는 알파-할로케톤 유도체를 비활성 유기용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염산염 또는 브롬산염을 제조하는 제 2 공정으로 이루어진다. 일반식(Ⅰ)의 2-이미노티아졸린 유도체는 일반식(Ⅰ)의 염산염 또는 브롬산염을 무기염기 또는 유기염기로 처리하여 염산염이나 브롬산염을 제거시킴으로써 얻을 수 있다.1. 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린 유도체 및 그의 염일반식(Ⅰ)에 있어서, R1과 R2는 각각 수소, 메틸, 에틸 페닐, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐메틸렌, 아미노카르보닐,아미노카르보닐메틸렌 또는 프탈이미딜기를 표시하며, 서로 같거나 다를 수 있고 그 위치가 서로 바뀔수 있으며, R5CO(CH2)n로 표시되는 알콕시카르보닐메틸렌기에서 R5는 메톡시, 에톡시 또는 프탈이미딜기를 표시하며, n은 0 또는 1이며, R6R7NCO(CH2)n 으로 표시되는 아미노카르보닐메틸렌기에서 R6과 R7은 수소, 페닐, 클로로페닐, 프로필페닐 또는 디클로로페닐로구성된 할로페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐기로 표시되는 알킬페닐, 메톡시페닐의 알콕시페닐 또는 시아노페닐기이며, n은 0또는 1이며, R3는 메틸, 에틸, 시클로헥실, 비닐메틸기로 표시되는 알킬, 페닐 또는 페닐에틸기로 구성되는 아릴기이며,R4는 페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐, 클로로페닐, 브로모페닐, 플루오르페닐, 메톡시페닐, 벤조일페닐, 시아노페닐 또는 페녹시페닐로 구성되는 치환된 페닐기, 피리미딜, 모르포닐 또는 피페리디닐기에서 질소원자 또는 산소원자가 포함된 헤테로고리 화합물을 표시하며, X는 Br 또는 Cl이다.2. 일반식(Ⅳ)로 표시되는 이소티오시아네이트 유도체와 일반식(Ⅴ)로 표시되는 알킬아민 또는 아릴아민을 비활성 유기용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체를 제조하는 제 1 공정과 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 티오우레아 유도체와 일반식(Ⅶ)로 표시되는 알파-할로케톤 유도체를 비활성 유기용매중에서 반응시켜 일반식(Ⅰ')로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염을 제조하는 제 2 공정으로 이루어지는 것이 특징인 일반식(Ⅰ')로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염산염 또는 브롬산염의 제조방법.(식 중, R1과 R2는 각각 수소, 메틸, 에틸, 페닐, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐 메틸렌, 아미노카르보닐, 아미노카르보닐메틸렌 또는 파탈이미딜기를 표시하며, 서로 같거나 다를 수 있고 그 위치가 서로 바뀔수 있으며, R5CO(CH2)n 로 표시되는 알콕시카르보닐메틸렌기에서 R5는 메톡시, 에톡시 또는 프탈이미딜기를 표시하며, n은 0 또는 1이며, R6R7NCO(CH2)n 으로 표시되는 아미노카르보닐메틸렌기에서 R6과 R7은 수소, 페닐, 클로로페닐, 프로필페닐 또는 디클로로페닐로 구성된 할로페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐기로 표시되는 알킬페닐, 메톡시페닐의 알콕시페닐 또는 시아노페닐기이며, n은 0 또는 1이며, R3는 메틸, 에틸, 시클로헥실, 비닐메틸기로 표시되는 알킬, 페닐 또는 페닐에틸기로 구성되는 아릴기이며, R4는 페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐, 클로로페닐, 브로모페닐, 플루오르페닐, 메톡시페닐, 벤조일페닐, 시아노페닐 또는 페녹시페닐로 구성되는 치환된 페닐기, 피리미딜, 모르포닐 또는 피페리디닐기에서 질소원자 또는 산소원자가 포함된 헤테로고리 화합물을 표시함.3. 제2항에 있어서, 제 1 공정에서 사용된 비활성 유기용매가 아세톤, 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 에틸아세테이트, 벤젠 및 톨루엔 중에서 선택된 하나 또는 두가지 이상의 혼합용매인 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.4. 제2항에 있어서, 제 1 공정의 반응을 0 - 80℃의 온도에서 2 - 15시간 동안 수행하는 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.5. 제2항에 있어서, 제 2 공정에서 사용된 비활성 유기용매가 아세톤, 메틸렌클로라이드, 클로로포름, 에틸아세테이트, 벤젠 및 톨루엔 중에서 하나 또는 두가지 이상의 혼합용매인 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.6. 제2항에 있어서, 제 2 공정의 반응을 0 - 100℃의 온도에서 2 - 24시간 동안 수행하는 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.7. 일반식(Ⅰ')로 표시되는 2-이미노티아졸린의 염산염 또는 브롬산염을 상온에서 염기로 처리하고 용매를 사용하여 추출하는 것이 특징인 일반식(Ⅰ)로 표시되는 2-이미노티아졸린의 제조방법.(식 중, R1과 R2는 각각 수소, 메틸, 에틸 페닐, 알콕시카르보닐, 알콕시카르보닐메틸렌, 아미노카르보닐, 아미노카르보닐메틸렌 또는 프탈이미딜기를 표시하며, 서로 같거나 다를 수 있고 그 위치가 서로 바뀔수 있으며, R5CO(CH2)n로 표시되는알콕시카르보닐메틸렌기에서 R5는 메톡시, 에톡시 또는 프탈이미딜기를 표시하며, n은 0 또는 1이며, R6R7NCO(CH2)n 으로표시되는 아미노카르보닐메틸렌기에서 R6과 R7은 수소, 페닐, 클로로페닐, 프로필페닐 또는 디클로로페닐로 구성된 할로페닐, 메틸페닐, 디메틸페닐기로 표시되는 알킬페닐, 메톡시페닐의 알콕시페닐 또는 시아노페닐기이며, n은 0 또는 1이며,R3는 메틸, 에틸, 시클로헥실, 비닐메틸기로 표
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- 2000-12-15
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본 발명은 솔-젤법과 초임계 건조법을 이용하여 제조한 알루미나 에어로젤 담체에 니켈을 담지하거나 니켈-알루미나 혼성 에어로젤 촉매를 제조하는 방법에 관한 것으로 본발명에 따라 제조된 니켈-알루미나 촉매는 반응 활성이 우수하고 수명이 현저히 향상되는 효과가 있다.청구항 1. 1∼40%의 니켈을 포함하고 나머지를 알루미나로 하여 100%로 구성되는 메탄의 이산화탄소 개질 반응용 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매.청구항 2. 가열된 알코올 용매에 알루미늄알콕사이드를 용해시키는 제 1단계; 제 1단계에서 제조된 용액에 물, 산 및 알코올을 부가하여 가수분해함으로써 투명한 솔을 형성하고 이 솔에 니켈염 함유알코올 용액을 부가하는제 2단계; 제 2단계에서 형성된 솔을 상온으로 냉각시킨 후 물 함유 알코올을 가하여 젤을 형성시키는 제 3단계;제 3단계에서 제조된 젤을 숙성시키는 제 4단계; 제 4단계에서 숙성된 젤을 초임계 건조시키는 제 5단계; 및 제 5단계에서 건조된 젤을 불활성 분위기로 일차 열처리하고 공기 또는 산소분위기로 이차 열처리하는 제 6단계로 구성되는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조 방법.청구항 3. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 단계의 알코올 용매의 온도를 40-90℃되게 유지하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 4. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1단계의 알루미늄알콕사이드로서 알루미늄 이소프로폭사이드 또는 알루미늄sec-부톡사이드를 사용하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 5. 제 2 항에 있어서, 상기 제 1단계에서 사용된 알루미늄/알코올 비를 0.4∼0.6mmol/ml되게 하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 6. 제 2 항에 있어서, 상기 제 2단계에서 알루미늄에 대한 물의 양을 몰 비로 0.2∼0.8되게 넣어 투명한 솔을형성하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 7. 제 2 항에 있어서, 상기 제 3단계에서 상온에서 알루미늄에 대한 물의 양을 몰 비로 0.5∼1.5되게 넣어 단시간에 균일한 젤을 형성하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 8. 제 3 항에 있어서, 상기 제 6단계에서 초임계 건조된 에어로젤을 200∼500℃에서 불활성 분위기로 일차 열처리하고 500℃ 이상에서 공기 또는 산소 분위기로 이차 열처리하는 것을 특징으로 하는 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매의 제조방법.청구항 9. 제 2항 내지 8항중 어느 하나의 제조방법에 의해서 제조되고, 1∼40%의 니켈을 포함하고 나머지를 알루미나로 하여 100%로 구성되는 메탄의 이산화탄소 개질 반응용 알루미나-니켈 혼성 에어로젤 촉매.청구항 10. 메탄 15∼30%, 이산화탄소 15∼30% 및 나머지를 질소로 하여 100%로 구성되는 반응물을 반응 온도 600∼800℃, 접촉시간 0.0005∼0.005g·min·1-1로 제 1항 의 촉매를 사용하여 합성가스를 제조하는 방법.청구항 11. 메탄 15∼30%, 이산화탄소 15∼30% 및 나머지를 질소로 하여 100%로 구성되는 반응물을 반응 온도 600∼800℃, 접촉시간 0.0005∼0.005g·min·1-1로 제 9항 의 촉매를 사용하여 합성가스를 제조하는 방법.
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- 2000-12-15
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<목적>새로운 광전지 물질인 폴리시안아미드 화합물 및 그의 제조 방법을 제공한다. <구성>신규한 폴리시안아미드 화합물은 일반식(I)로 표시된다. 이 화합물은 전도성인 폴리시안아미드와 가시 광선을 흡수하여 광전류를 생성하는 염료 화합물로부터 생성되는데, 즉 일반식(II)의 폴리시안아미드를 진한 황산에 용해시킨 후 아질산나트륨과 섭씨 0도에서 반응시켜 디아조화하고, 이를 알리자린 옐로우 GG나 수단 III 또는 오렌지 II, 아크리플라빈, 보르도 R 등과 커플링시켜 제조한다. 일반식(I)의 폴리시안아미드 화합물을 브롬으로 도핑하게 되면 폴리시안아미드 사슬의 전도성이 더욱 증가되어 발명의 효과를 향상시키게 된다. <효과>일반식(I)의 폴리시안아미드 화합물은 가시 광선에 의한 광전류의 생성은 물론 전도성도 가지고 있으므로 광전지 물질 등으로 유용하게 사용할 수 있다.1. 일반식(Ⅰ)의 신규한 폴리시안아미드 화합물.상기 식에서, A는x는 10 내지 30의 정수이다. 2. 제1항에 있어서, 상기 폴리시안아미드 화합물이 추가로 브롬으로 도핑된 것인 폴리시안아미드 화합물. 3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리시안아미드 화합물이 광전지 물질로서 사용되는 것인 폴리시안 아미드 화합물.4. 일반식(Ⅱ)로 표시되는 폴리시안아미드를 진한 황산 중에서 디아조화하고, 이를 구조식(Ⅲa)의 알리자린 엘로우 GG, 구조식(Ⅲb)의 수단 Ⅲ, 구조식(Ⅲc)의 오렌지 Ⅱ, 구조식(Ⅲd)의 아크리플라빈, 구조식(Ⅲe)의 보르도 R, 또는 구조식(Ⅲf)의 K2와 커플링시키는 것을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)의 폴리시안아미드 화합물의 제조 방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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[구성],6-트리플루오르-1,3,5-트리아진의 제조방법15194구조식(II)의 2, 4, 6-트리클로로-1, 3, 5-트리아진과 불화알카리엄 (DF 또는 NAF)을 극성용매중에서 상간이 도촉매존재하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 구조식(I)의 2, 4, 6-트리플루오로-1, 3, 5-트리아진의 제조방법.1. 구조식(Ⅱ)의 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진과 불화알카리염(KF 또는 NaF)을 극성용매 중에서 상간이 동촉매존재하에 반응시키는 것을 특징으로 하는 구조식(Ⅰ)의 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.2. 제 1항에 있어서, 극성용매로 디메틸슬폭시드, 디에틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 벤조니트릴, 아세토니트릴, 테트라메틸렌술폰으로 구성된 군에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.3. 제 1항에 있어서, 상간 이동촉매로 테트라에틸암모늄클로리드, 테트라에틸암모늄브로미드, 테트라부틸암모늄클로리드, 테트라부틸암모늄브로미드, 벤질트리메틸암모늄클로리드, 벤질트리메틸암모늄브로미드, 벤질트리에틸암모늄클로리드, 벤질트리에틸암모늄브로미드, 디부틸디메틸암모늄클로리드, 디부틸디메틸암모늄브로미드, 디부틸디에틸암모늄클로리드, 디부틸디에틸암모늄브로미드, 헥실트리에틸암모늄클로리드, 헥실트리에틸암모늄브로미드, 트리옥틸메틸암모늄클로리드, 트리옥틸메틸암모늄브로미드, 트리옥틸에틸암모늄클로리드, 트리옥틸에틸암모늄브로미드, 트리옥틸프로필암모늄클로리드, 트리옥틸프로필암모늄브로미드, 데실트리에틸암모늄클로리드, 데실트리에틸암모늄브로미드, 도데실트리에틸암모늄클로리드, 도데실트리에틸암모늄브로미드, 헥사데실트리메틸암모늄클로리드, 헥사데실트리메틸암모늄브로미드, 헥사데실트리에틸암모늄클로리드, 헥사데실트리에틸암모늄브로미드, 메틸트리페닐암모늄클로리드, 메틸트리페닐암모늄브로미드, 벤질트리페닐포스포늄클로리드, 벤질트리페닐포스포늄브로미드, 헥사데실트리에틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리에틸포스포늄브로미드, 헥사데실트리부틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리에틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리에틸포스포늄브로미드, 헥사데실트리부틸포스포늄클로리드, 헥사데실트리부틸포스포늄브로미드, 테트라부틸포스포늄브로미드, 테트라부틸포스포늄클로리드, 테트라페닐포스포늄클로리드, 테트라페닐포스포늄브로미드, 트리옥틸에틸포스포늄클로리드, 트리옥틸에틸포스포늄브로미드로 구성된 군에서 선택 사용하는 것을 특징으로 하는 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.4. 제 1항에 있어서, 60~100℃에서 2~3시간 반응시키는 것을 특징으로 하는 2,4,6-트리플루오로-1,3,5-트리아진의 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]다음 일반식(I)의 옥사졸리논계 유도체.상기 식에서 r은 저급 알킬기 또는 할로겐,저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며,x는 같거나 서로 다르고,할로겐, 카보메톡시,니트로기 또는 할로겐이나 트리플루로로메틸기가 피환된 페녹시기를 나타내며,a는 질소 또는 탄소를 나타낸다.n은 1-3의 정수를 낱타낸다.1. 다음 일반식(1)의 옥사졸리논계 유도체. 상기 식에서 R은 저급 알킬기 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며, X는 같거나 서로 다르고, 할로겐, 카보메톡시, 니트로기 또는 할로겐이나 트리플루오로메틸기가 치환된 페녹시기를 나타내며, A는 질소 또는 탄소를 나타내며, n은 1-3의 정수를 나타낸다.2. 출발물질로서 다음 일반식(2)의 α-아미노산을 치환기가 있는 다음 일반식(3)의 산 클로라이드와 축합반응시켜 다음 일반식(4)의 아미노가 치환된 α-아미노산을 얻은 다음 무수초산과 반응시킨 후 탈수반응시키는 것으로 이루어진 제1항의 옥사졸리논계 유도체의 제조방법. 상기 식에서 R은 저급 알킬기 또는 할로겐, 저급 알킬 또는 트리플루오로메틸기를 함유하는 페닐기를 나타내며, X는 같거나 서로 다르고, 할로겐, 카보메톡시, 니트로기 또는 할로겐이나 트리플루오로메틸기가 치환된 페녹시기를 나타내며, A는 질소 또는 탄소를 나타내고, n은 1-3의 정수를 나타낸다.3. 유효 성분으로서 제1항의 옥사졸리논계 유도체를 함유한 제초제.
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- 2001-01-17
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<목적>식물의 진균성 질병에 유용한 유기 규소 화합물인 1-(아릴-1-(알파-(트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸의 제조 방법을 제공한다. <구성>일반식(I)로 표시되는 1-(아릴-1-(알파-(트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸1-알리-1-트리아졸릴)알킬)-1-실라시클로알칸은 일반식(II)의 1-아릴-1-(알파-(클로로)알킬)-1-실라시클로로알칸과 트리아졸 나트륨염을 디메틸포름아미드 용매하 15-45도씨에서 3-8시간 반응시켜 제조하며, 중간체인 일반식(II)의 화합물은 알킬트리클로로실란을 염소화하여 얻은 클로로알킬 트리클로로실란을 디클로알칸을 출발물질로 한 디그리냐르 시약과 영하 78-60도씨에서 반응시켜 제조한다. 본 발명의 화합물은 농업용 살균제로서 식물의 진균성 질병에 이용된다.본 발명은 규소를 포함하는 오각형 육각형 해테로고리화합물에 트리아졸이 치환된, 일반식(I)로 표시되는 새로운 유기규소화합물 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸, 그것의 제조방법 및 식물의 진균성 질병에 대한 그것의 용도에 관한 것이다본 발명자들은 클로로메틸기를 함유한 유기디실라알칸을 출발물질로 하여 클로로메틸기의 클로로기 대신에 트리아졸기를도입함으로써 (1H-1, 2, 4-트리아졸릴)디실라알칸을 제조하여 좋은 살균효과를 얻었다.(한국 특허출원번호 공개번호 91-6503)본 발명은 규소를 포함하는 오각형 또는 육각형의 헤테로고리화합물에 트리아졸이 치환된 새로운 유기규소 화합물인 일반식(I)의 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알킬 및 이들의 식물의 진균성 질병에 대한 용도에 관한 것이다.본 발명은 또한 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸을 제조하는 방법에 관한것이다. 자세하게는, 신규한 1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸의 트리아졸화합물을 반응시켜 1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸의 클로로알킬기의 클로로기를 트리아졸기로 치환함으로써 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸을 제조하는 방법에 관한 것이다. 클로로알킬기를 가진 유기실란에 트리아졸을 치환시키는 것은 먼저 트리아졸을 수소화나트륨이나 나트륨메톡사이드 같은 염기로 처리하여 트리아졸나트륨 염을 만들고, 이 염을 클로로메틸기를 갖는 실란과 반응시킴으로써 달성된다. 낮은 온도에서의 트리아졸의 치환반응이 빨리 진행되도록 하기 위해, 아세톤 용매하에서 KI를 넣고 용매를 환류시켜 클로로알킬기의 클로로기를 요오드로 치환시킴으로써 보다 좋은 수율을 얻을수 있다.본 발명은 또한 본 발명의 1-아릴-1-[α-(트리아졸릴)알킬]-1-실라시클로알칸 제조의 중간체로 사용되는 신규한 화합물1-아릴-1-[α-(클로로)알킬]-1-실라시클로알칸에 관한 것이다. 이 화합물은 클로로알킬트리클로로실란과, 디클로로알칼바람직하게는 1, 4-디클로로부탄과 1, 5-디클로로펜탄을 출발물질로 하여 제조할 수 있다. 클로로알킬 트리클로로실란은알킬트리클로로실란을 염소화시켜 얻을 수 있다
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- 2001-01-17
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전도성을 갖는 유기 고분자성 반도체 물질에 가시광선을 잘 흡수하는 유기 염료를 결합시켜 새로운 형태의 광전지 물질인 폴리시안아미드 화합물을 제공한다.<구성>건조시킨 폴리시안아미드 0.024몰을 95%의 진한 황산 30미리리터에 첨가하여 24시간 동안 교반, 용해시켜 용액을 제조한다. 진한 황산 15미리리터에 아질산나트륨 0.024몰을 넣어 만든 용액을 앞에서 얻은 용액에 첨가하여 0도C에서 반응시켜 디아조화시킨다. 에틸 레드, 애시드 오렌지 8, 애시드 레드 88 등의 염료 화합물 0.01몰을 진한 황산에 용해시켜 만든 용액을 디아조화시킨 용액에 서서히 적가하여 0도C에서 3시간 동안 교반하고, 55도C로 서서히 가열한 다음 3시간 동안 교반하면 일반식 (Ⅰ)로 표시되는 신규한 폴리시안아미드 화합물이 수득된다.
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- 한국과학기술연구원
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- 2001-01-17
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[구성]본 발명은 유기 알루미늄 화합물 전구체 및 액상으로 존재하여 다루기 쉽고도 증착 과정중에 리간드의 열분해로 인한 탄소오염이 없는, 알루미나 증착을 위한 유기 알루미늄 화합물 전구체로서 (베타-케토에스테르)-(알콕사이드)-알루미늄 화합물을 화학기상증착법을 사용하여 미세 기공구조를 갖는 고순도 알루미나 분리막을 제조하는 방법을 제공한다.1. 화학식....로 표시되는 유기 알루미늄 화합물 전구체;상기 식에서 R은 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, R`는 탄소수 1내지 6인 알콕시이고, R는 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, x는 1,2 또는 3이다.2. 제 1항에 있어서, 상기 베타-케토에스테츠가 메틸아세토아세테이트(MTAC), 에틸아세토아세테이트(ETAC), t-부톡시로 구성되는 군 중에서 선택되는 화합물 전구체3. 제 1항에 있어서, 상기 알콕사이드기가 메톡시, 에톡시, sio-프로폭시, 프로폭시, 부톡시, iso-부톡시 및 t-부톡시로 구성되는 군 중에서 선택되는 화합물 전구체.4. 화학식...로 표시되는 유기 알루미늄 화합물을 전구체로 사용하여 화착기상증학방법에 의해 알루미나 분리막을 제조하는 방법;상기 식에서 R은 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, R`는 탄소수 1내지 6인 알콕시이고, R는 탄소수 1내지 6인 알킬기이고, x는 1,2 또는 3이다.5. 제 4항에 있어서, 상기 진구채를 50-135℃로 가열하여 전구체 증기를 발생시키고, 상기 발생된 전구체 증기를 280-440℃로 가열된 알루미나 기판에서 열분해시켜 상기 전구체를 알루미나 기판에 증착시키는 단계로 이루어지는 방법.6. 제 4항에 있어서, 상기 증착 단계가 10/(2)~10/(7)mmHg의 압력매시 수행되는 방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]본 발명은 광학적으로 순수한 다음 일반식(I)로 표시되는 비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-테트라히드로-비(1,3-옥사졸) 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 일반식(I)의 화합물은 다시, 일반식(Ia)로 표시되는 (4S,4S)-2,2-비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-4,4,5,5-테트라히드로-4,4-비(1,3-옥사졸) 화합물과 이의 거울상 이성체인 일반식(Ib)로 표시되는 (4R,4R)-2,2-비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-4,4,5,5-테트라히드로-4,4-비(1,3-옥사졸)을 포함한다. 본 발명의 화합물은 비대칭 히드로실릴화 반응, 수소화 반응, 시클로프로판화 반응, 알킬화반응 등에 유용하게 사용될 수 있다.본 발명은 광학적으로 순수한 일반식(I)로 표시되는 비스(오르토-디아릴포스피노페닐)-테트라히드로-비(1,3-옥사졸) 화합물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 일반적으로, 광학 이성체는 서로 다른 생물학적 성질을 나타내기 때문에 최근에는 광학적으로 순수한 화합물에 대한 요구가 급속히 증가되고 있다. 따라서, 광학적으로 순수한 화합물을 제조하기 위한 제조방법의 개발이 절실히 요구되고 있다. 특히 Rh, Ru, Ir, Co, Cu, Pd 등의 금속촉매를 이용한 비대칭 히드로실릴화 반응, 수소화 반응, 시클로프로판화 반응,알킬화반응 등은 광학적으로 순수한 화합물 제조에 많이 이용되는 반응이며, 이들 반응에 효과적인 리간드 개발은 광학적으로 순수한 의약, 농약 및 식품 첨가제, 향료 등의 개발을 위해서는 절대적으로 필요하고도 중요하다. 지금까지 이들비대칭촉매화 반응을 위해서 가장 많이 개발 되고 있는 키랄 리간드들은 대별하여 인(P) 원자를 포함한 포스핀계와 질소(N) 원자를 포함하는 옥사졸린계 리간드로 나누어진다. 그러나 이미 개발된 일부 키랄 리간드는 개선 되어야 할 부분이많다.본 발명에서는 상기 공지기술과는 달리, 포스핀과 옥사졸린 구조를 동시에 포함하는 화합물을 제조함으로써 이들 포스핀계 리간드와 옥사졸린계 리간드 양자가 가지고 있는 각 화합물의 단점을 극복한 새로운 키랄 리간드를 개발한 것이다
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[목적] 아암레스트의 일측 상단부에 홀더 몸체를 회전 가능하게 설치하여, 주행중에도 컵을안정되고 편리하게 파지시키는 차량용 아암레스트의 컵 홀더 구조를 제공한다. [구성] 아암레스트(1) 상단부 일측에 수용부(8)가 형성되며, 수용부(8)의 내부에는 연결구(6)의일측이 삽입되어 고정핀(9)에 의한 고정을 이루며, 연결구(6)의 타측은 개구부(5)와 수용부(10)를 형성하고 있는 홀더(4)의 수용부(10)에 삽입되어 고정핀(11)에 의한 고정을 이루며, 아암레스트(1)와 결합되어 있는 홀더(4)가 연결구(6)를 중심으로 회동 가능하게 설치되며, 홀더(4)에 형성되어 있는 개구부(5)에 안착되는 지지부재(3)가 아암레스트(1)에 형성되는 차량용 아암레스트의 컵홀더 구조이다.1.양자성 용매하에 킬레이트화제를 이용하여 시소마이신을 킬레이트화하고, 킬레이트화된 시소마이신의 3',2',6'위치의 아미노기를 아실화제로서 아실화 반응에 의해 보호하고, 암모니아수로 킬레이트된 금속을 이탈시킨다음, 얻어진 3.2'6'-트리치환시소마이신을 비양자성 유기용매에서 에틸화제와 반응시켜 1위치의 아미노기만을 선택적으로 에틸화시키고, 이어서 탈보호하는 것을 이루어진 다음 구조식(I)의 1-N-에틸시소마이신 및 그의 약리할적 허용염의 제조방법.2. 제1항에있어서, 킬레이트화제가 Zn(OAc)2 ` 2H2O인 것이 특징인 제조방법.3. 제1항에있어서, 양자성 용매가 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올 또는 이들의 혼합 용매중에서 선택되는 것이 특징인 제조방법.4. 제1항에있어서, 아실화제가 무수 초산 또는 N-벤질옥시카르보닐옥시 숙신이미드인 것이 특징인 제조방법5. 제1항에있어서, 에틸화제가 초산과 모노, 디, 트리아세특시 수소화 붕소나트륨 또는 칼륨의 혼합물 또는 초산과 수소화 붕소나타륨 또는 캄륨의 혼합물 중에서 선택되는 것이 특징인 제조방법.6. 제1항에있어서, 비양자성 용매가 클로로포륨, 메틸렌클로라이드. 사염화탄소, 테트라히드로퓨란, 디메톡시엔탄, 1,4-디옥산,벤젠,툴루엔,아세토니트릴, 프로피오니트릴, 벤조니트릴 또는 이들의 혼합물 중에서 선택되는 것이 특징인 제조방법.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
[구성]본 발명은 일반식(II)로 표시되는 카르복시 화합물 또는 그의 염을 일반식(III)으로 표시되는 헤테로 화합물과 반응시켜 새로운 화합물인 일반식(I)로 표시되는 세팔로스포린 화합물과 이의 약리학적으로 허용가능한 염 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 일반식(I)의 화합물은 그람 음성균 및 그람 양성균에 대해 폭넓은 항균력을 나타내며 여러 내성균에 대해서도 강한 항균력을 나타낸다. 일반식(I) ∼ (III)에 있어서, A는 CH를, R1은 메틸기를, R2는 시아노기, 기(X는 산소, 히드록실 아민을 표시하고, Y는 히드록시, 탄소수 1 ∼ 5인 알킬옥시, 아미노기, 탄소수 1 ∼ 5인 1급 히드록시알킬아미노, 포밀 히드라지노 또는 아실기로 보호된 히드라지노기를 표시한다.)를 또는 하기 구조식의 헤테로환(R3는 수소 또는 메틸기를 의미하며, A2 및 A3는 각각 질소 또는 산소이고, A4는 질소를 표시한다)을 각각 표시하며, 그리고, Z는 요오드, 브롬 또는 아세톡시기이다.1. 일반식(I)로 표시되는 세팔로스포린 화합물 및 이의 약리학적으로 허용가능한 염 :
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2001-01-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
합성섬유의 스크랩을 재생 가공하여 방수, 항균 기능을 가진 포장골판지의 소재를 개발1. 衫鳧특성 : 흡수두께팽창율, 흡수율, 내구성 및 물리적 특성 공인 시험완료 2. 화학적 특성 : 내산, 내알칼리등 모든 용제에 변형없음, 한열, 한냉 및 내마모 공인 3. 저가, 고품질, 고부가, 고효율, 고기능성 공인기ㅘㄴ 시험성적서 제
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- 리텍환경기술개발원
- 등록일
- 2001-02-28
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
제올라이트가 아닌 다공성 물질에 대한 연구가 크라드레트에 의해 1811년에 시작되어 온 이래 우에스트(Wuest), 무어(Moor), 워드(Ward)등에 의해 진행되었지만 이온결합, 배위결합에 의해 구조가 결정되는 비교적 단순한 시스템에서만 이루어져 왔고, 유기 합성화학에서 축적된 지식이나 분자간 복잡한 상호작용을 이용하여 원하는 구조와 성질을 결정 내에서 실험하고자 하는 연구가 최근에서야 나타나고 있으나, 분자간 약한 성호작용을 이용한 다공성 물질들은 제올라이트와 같은 무기물에 비해 구조적 안정성이 약한 문제점을 갖으며 공동 또는 채널의 크기와 모양을 자유자재로 조절하여 게스트 분자의 선택성을 부여 특히 키랄 구조의 공동 또는 채널 구조를 갖는 광학 이성질체만을 선택적으로 내포할 수 있는 다공성 물질을 고안하고 합성하는 것은 아직 요원하다. 따라서 화학적 성질 및 구조에 따라 적절한 키랄 단위체(Chiral building block)와 금속 이온을 선택하여 다양한 크기 및 모양을 갖는 공동과 채널을 구비하고 있는 신규한 호모키랄 다공성 결정 물질을 제조하여 거울성 이성질체의 분리체나 거울성 선택적인 촉매로서 유용하게 사용 가능하다.키랄 유기 화합물 또는 키랄 금속 착물에 금속 이온과 배위결합을 형성할 수 있는 작용기를 도입하여 얻어진 키랄 단위체(chiral building block)와, 금속 이온간이 배위결합을 통하여 형성된 것을 특징으로 하는 호모키랄 다공성 결정물질을 제공한다. 키랄유기화합물 또는 키랄 금속 착물(tartaric acid, aspartic acid, phenanthroline을 리간드로 하는 팔면체 착물)에 금속 이온(IA, IIa, IIIb, IV, VB, VI, VII, VIIIB, IB, IIB, IIIA, IVA, VA족등)과 배위 결합을 형성할 수 있는 단위체로서 -CO2H, -CS2H, -NO2, -SO3H, -Si(OH)3, -Ge(OH)3 등을 도입하여 얻어진 키랄 단위체(Chrial building block)와, 상기 키랄 단위체와 배위 결합을 형성할 수 있는 금속 이온을 용매 하에 혼합 및 교반하여 호모키랄 다공성 결정 물질을 얻는다. 키랄 단위체가 지니고 있는 작용기의 종류 및 개수를 조절하여 그 빈 공간 안에 촉매점으로 사용될 수 있는 작용기를 더 도입할 수 있으므로 다양한 종류와 크기를 갖는 화합물을 포집할 수 있고 거울상 이성질체에 대하여 선택적인 촉매나 분리체로 사용할 수 있으며 제조 방법이 매우 용이하며 종래의 균일 촉매와는 달리 수거하여 계속적 사용이 가능하다.
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 등록일
- 2001-05-31
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
모노라우린산 폴리옥시에틸렌 솔비탄과 구연산 나트륨 또는 이들의 혼합물을 주성분으로 하는 세정제 조성물은 우수한 농약 제거능력, 일반 오염물 세척능력, 세균 제거능력이 뛰어나면서도 과채류의 신선도를 저해시키지 않고 인체에 독성이 전혀 없으며, 생분해성도 뛰어난 세정제이다.최근 화학비료와 농약사용의 증가 및 대기환경의 오염 등으로 인해, 과일이나 채소류 등의 농산물의 오염문제가 날로 심각해져가고 있고 또한, 국제무역의 활발화 및 냉장기술의 발달로 인한 과일 및 채소류의 국제적인 교역에 따른 방부제 처리로 인해, 농작물의 오염문제가 더욱 악화되고 있다.본 기술의 목적은, 모노라우린산 폴리옥시에틸렌 솔비탄(20 E.O.) 또는 모노라우린산 폴리옥시에틸렌 솔비탄(20E.O.) 및 자당 지방산 에스테르의 혼합물과 구연산 나트륨, 구연산 칼륨 또는 이들의 혼합물로 구성된 조성물의 새로운 용도를 제공하는 데에 있다. 이에 본 기술에 따른 세정제 조성물은, 과일이나 채소에 묻어 있는 농약, 오염물 또는 세균들을, 신선도에 영향을 미치지 않으면서, 제거시킬 수 있는 동시에, 잔류세제에 의한 인체 독성이 거의 없고, 또한 사용후 환경오염을 거의 유발하지 않아, 차세대 환경제품으로의 활용가능성이 매우 높다.
- 보유기관
- 한국산업은행
- 등록일
- 2001-05-17
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화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
최근 액체 세정제에 천연의 추출물, 오이즙, 살구즙, 레몬즙, 알로에 등을 첨가하여 자연의 신선한 향취를 부여하고 이들 추출물이 갖는 보습 및 영양공급 효과를 제품에 부여하고자 하는 시도가 계속되고 있다. 그러나, 이러한 식물 추출물들은 경우에 따라 세정제 본래의 세척력 및/또는 기포력의 감소를 초래하고 이로 인하여 사용량에 제한을 받게 되는 등의 문제점을 갖고 있다.이에 본 기술에서는 사포닌을 함유하는 식물의 추출물을 액체 세정제에 배합시킴으로써, 피부보호 효과, 보습 효과, 식물 추출물의 신선한 식물향취 부여효과를 나타내며, 종래의 식물 추출물들과는 달리 세척력 및 기포력을 증가시켜 합성 계면활성제의 사용량을 감소시킬 수 있는 식물 추출물을 함유하는 액체 세정제를 제공하고 있다.즉, 본 기술은 사포닌을 함유하는 식물 추출물들이 배합되어 있어 이들 추출물들의 본래 기능을 유지할 뿐 아니라, 사용시 기포력과 세척력을 증진시켜주는 주방용 및 인체용의 액체 세정제 조성물을 제공한다일반적으로 액체 세정제는 계면활성제, 세정보조제, 유효성분, 향, 물 등으로 조성되며, 이중에서 세척능과 기포력을 동시에 발휘하는 것은 계면활성제뿐이다. 그러나 합성 계면활성제들은 경우에 따라 피부자극과 주부습진 같은 피부염을 유발하고 세척후 피세정 물질 표면에 잔류하여 이로 인한 인체독성의 원인제공이 되기도 한다. 따라서 저자극성 계면활성제의 개발 또는 가능한 소량의 계면활성제를 사용하는 제품의 개발노력이 꾸준히 계속되고 있다.본 기술에 의한 사포닌계 식물 추출물은 천연의 계면활성제 기능을 하면서 공지의 액체세정제에 있어 합성의 계면활성제 대체 기능을 할 수 있으므로, 합성 계면활성제의 사용량을 줄일 수 있게 한다.본 기술의 세정제 조성물은 계면활성제 총량이 동일한 대조군의 조성물에 비하여 세척력, 기포력, 사용감 그리고 향취에 있어 우위를 보여주며 계면활성제 총량에 있어 25%를 더 사용한 대조군의 조성물과는 거의 동일한 세척력 및 기포력을 보여주며 향취와 사용감에 있어서는 우위를 보여주고 있다
- 보유기관
- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-05-20
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
국민의 위생 관념이 날로 높아짐에 따라 화장실 문화가 많은 발전을 거듭해 왔다. 그 중에서도 비데 사용 보급이 증가 추세에 있으나, 세척수의 온도, 건조 등으로 사용자의 위생, 청결을 도모하고 있는 정도에 불과한 실정이다. 또한 점막용 세척제로 붕사, 중조, 글리세린 등을 함유한 것이 소개되고 있으나, 이 또한 만족할 만한 점막용 조성물의 역할을 다하지 못하는 아쉬움이 있다.이에, 본 기술에서는 점막용 세척제에 생약재 추출물을 첨가함으로써 점막용 세척제로서의 기능을 향상시킬 수 있으며, 사용시 피부에 대해 자극이 없고, 항문 주위의 오물을 깨끗이 제거하는 본래의 기능 외에 여성질 청결이나 치질 및 피부습진 등의 예방 기능도 얻을 수 있음을 밝혔다.본 기술의 조성물에 함유되는 생약재료는 수렴성 지혈작용을 갖는 지유, 황백 또는 고삼으로, 피부점막출혈, 피부소양증(가려움증), 화농성질환, 점안세척용 등으로 활용할 수 있으며, 본 기술의 점막용 세척제 조성물은 비데용 위생 세척제, 여성 청결제 등으로 사용될 수 있다 천연 생약성분인 지유, 황백, 고삼 추출물을 함유함으로써, 사용시 자극성이 없으며 여성 질 청결과 항문 주위의 오물을 깨끗이 제거함은 물론 치루(치질), 피부습진 등을 예방하거나 완화시키는 효과가 있는 점막용 세척제 조성물에 관한 것으로서, 본 기술의 조성물에 함유되는 상기한 생약재 추출물은 물, 에탄올, 메탄올, 아세톤 등의 극성 용매를 추출용매로 사용하여 생약원료에 대하여 2-10배의 추출용매를 가하여 환류 또는 침적 추출한 후, 감압 증류하여 얻거나 다시 추출물을 에테르, 에틸아세테이트, 부탄올 등의 비극성 용매를 사용하여 계통적으로 분획하여 얻은 각각의 분획물을 감압 증류하여 얻는다.이렇게 하여 얻은 생약재 추출물은 고형분으로서, 세척수로 사용하는 경우 피부에 대한 자극이 전혀 없고, 사용감이 생약재 추출물을 함유하지 않은 세척수에 비해 전반적으로 우수한 것으로 나타났다.
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- 특허법인충정
- 등록일
- 2001-05-20
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
임상 실험 및 화학실험에서 시험 용액에 함유되어 있는 이온의 농도 분석시 무기 양이온, 특히 암모늄 이온을 양호한 감도와 선택성을 가지고 인지할 수 있는 1,3,5-트리스(치환된 카테콜릴메틸)-2,4,6-트리알킬벤젠 새장 구조 화합물 및 이를 이용한 이온 센서에 관한 기술이다. 지금까지는 4개의 테트라하이드로퓨란기로 이루어진 고리화합물인 노낙틴이라는 천연물이 유일하게 암모늄 이온에 대한 센서로서 이온선택성 전극을 통해 상용화되어 널리 쓰이고 있었으나 칼륨이온에 대한 선택성이 좋지 않다는 단점과 가격이 비싸다는 문제점이 있었다. 이러한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 합성이 용이하고 양호한 감도와 선택성을 가지고 암모늄 이온을 인지할 수 있는 화합물을 제공한다.양이온 특히 암모늄 이온 검출용 이온선택성 전극의 이온 센서로서 1,3,5-트리스(치환된 카테콜릴메틸)-2,4,6-트리알킬벤젠 새장 구조 화합물은 양이온에 대해 선택적으로 복합체를 형성할 수 있는 화합물로서 기존 노낙틴보다 더 높은 선택성과 비슷한 감도를 나타내는 물질이다. 상기 화합물은 1,3,5-트리스(브로모메틸)-2,4,6-트리에틸벤젠, 카테콜, 탄산칼륨, 크라운 에테르 화합물을 유기용제에 녹인 후 에틸 아세테이트로 추출하고 유기층을 수집하여 세척, 건조하여 제조한다. 이온선택성 막은 상기 1,3,5-트리스(치환된 카테콜릴메틸)-2,4,6-트리알킬벤젠 새장 구조 화합물 0.5~5%, 고분자 지지체 10~70%, 가소제 10~70%의 조성물을 유기용매에 용해시킨 후 천천히 용매를 제거함으로서 제조할 수 있다.
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- 포항공과대학교
- 등록일
- 2001-06-20
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
파장 분할 다중화 전송기법에서 신호광을 증폭하기 위해 널리 사용되는 Er3+이온이 함유된 광섬유에서는 광이득 증폭을 얻을 수 있는 파장 대역의 반가폭이 작고 파장 대역에 따라 채널 이득이 달라지기 때문에 평탄한 이득을 얻을 수 있는 파장 대역의 반가폭이 좁아져서 이용 가능한 채널의 수가 작아지는 문제점이 있었으며, 텔루라이드( tellurite) 계열의 유리와 같은 특수한 조성의 광섬유에서는 형광 스펙트럼 폭이 실리케이트계열의 유리보다 다소 증가하지만 열적 안정성 및 기계적 안정성이 떨어지는 문제점이 있었다. 이에 광학적 도파로를 분극 처리하여 희토류 이온을 함유한 광학적 도파로에서 희토류 이온이 방출하는 형광 스펙트럼의 파장 대역의 반가폭을 확대시키는 기술이다.기존에 알려진 희토류 이온이 함유된 광학적 매체를 분극 처리함으로써 희토류 금속이 방출하는 형광 스텍트럼의 파장 대역의 반가폭을 확대시켰으며, 또한 희토류 이온을 함유한 유리를 사용하여 광증폭이 가능하도록 형광 스펙트럼의 파장 대역의 반가폭을 확대시킴으로써 수십 테라비트 이상의 광전송이 가능하게 하였다.
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 등록일
- 2001-05-31
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
SnO2를 이용한 반도체식 가스센서는 환원성 가스 대부분에 대해 감지를 하기 때문에 선택성이 떨어지며 오동작의 우려가 크며, 상용화된 SnO2(모물질)+Pt 또는 Pd(귀금속 첨가물) 타입의 CO 감지센서는 감도는 우수하고 비교적 저온에서 작동하나 귀금속을 사용하므로 제작비가 비싸다는 단점이 있었다. 이에 본 기술은 우수한 감도 및 선택성을 갖는 가스 감응층을 개발하여 저가의 센서를 제공하였다. 신규한 가스감응층은 CuO 분말, ZnO분말 및 SnO2 분말을 혼합후 건조 및 열처리하여 소결체를 형성시켜 제조한다.CuO 및 임이의 ZnO가 첨가된 SnO2 재료를 가스감응층에 주 재료로 사용하여 저온에서는 일산화탄소에 대해 높은 감도를, 고온에서는 수소에 대해 높은 감도를 갖는 온도에 따른 선택적인 감도를 나타내는 가스 센서를 제공한다.
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 등록일
- 2001-05-31
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일반기술
화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
GaAs/AlxGa1-xAs로 구성된 이종 접합 소자를 제작하기 위해서는 AlxGa1-xAs 층위에 성장된 GaAs층만을 선택적으로 에칭할 수 있는 기술이 필요하다. 기존에는 건식 에칭방법을 사용하여 게이트 리쎄스 에칭을 하여 고전자이동 트랜지스터(HEMT) 소자를 제작하였는데, 이러한 방법은 게이트 전극이 형성될 영역에 점 결함이 생성되므로 소자 작동시 게이트의 누설 전류가 발생되어 신호의 전달 특성이 감소되고 주파수 특성이 감소되는 등 소자의 전기적 특성이 현저하게 저하된다. 또한, GaAs 에칭용액인 암모니아계 및 인산계 용액을 사용하여 에칭시간에 따라 소스와 드레인 사이의 포화전류를 측정하여 포화전류 값이 원하는 값에 도달될 때까지 에칭시키는 기존의 습식 에칭방법은 GaAs 및 AlxGa1-xAs 층의 에칭깊이를 조절하였는데, 이 경우 에칭 용액의 에칭 균일도가 3인치 기판의 경우 수십 nm 이상에 달하며 동시에 측면에칭이 일어나므로 HEMT 소자의 전기적 특성 균일도 및 특성이 떨어지며, 이에 따라 수율이 떨어진다.이에 본 기술은 GaAs에서는 에칭속도가 빠르고, AlxGa1-xAs에서는 에칭속도가 느린 구연산과 과산화수소의 합성용액을 에칭용액으로 사용하여 GaAs층만을 선택적으로 에칭시킴으로써 표면결함의 생성을 방지하고 에칭깊이의 제어성을 향상시킨 소자특성의 균일도가 우수한 HEMT 소자를 제작하였다.본 기술에 따르면 GaAs/AlxGa1-xAs (x=0.1 내지 1.0)로 구성된 이종접합 반도체 기판위에 반도체 소자를 제작할 때, 50% 구연산 수용액과 과산화수소를 1:1 내지 3:1 범위의 중량비로 혼합하여 얻은 용액을 사용하여 GaAs 층만을 선택적으로 에칭함으로써 에칭 선택도가 매우 우수함과 동시에 표면 거칠기가 매우 작게 되기 때문에 표면결함의 생성을 방지할 수 있고 에칭깊이의 균일도를 높일 수 있으며 소자특성의 균일도가 우수한 HEMT 소자를 제작할 수 있다.
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 등록일
- 2001-05-21
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