일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
폐사의 주요 생산품인 양면 접착 테이프, 폼테이프, 특수 단면 테이프, 고무 패드형 등은 자동차, 전자, 인쇄, 건설, 농기계 기타 점착 테이프가 요구되는 각종 산업에 광범위하게 사용되고 있으며, 포장방법, 제품 팩키지 구성 방법등이 관건입니다.특히 LG전자등 고유한 납품처를 바탕으로 제작 방법 및 연구를 확대하고 잇으며, 관련 제품의 제작공정에 필요한 여러가지 노하우를 공유할 협력업체를 찾고 있습니다...또한 관련 시장의 규모는 현재 연간 4천억 규모로서 폐사의 시장 목표는 연간 100억정도의 시장을 목표로 시장 개척을 가속화할 것입니다.폐사의 테이프류 접착제 및 관련 접착물등은 다양한 요구사항에 맞게 산업별로 특화되어 제작되고 있습니다..특히 반도체, 전자회사의 경우 관련 전기적 이상이나 결함이 발생하지 않도록 독특한 처리방법에 의해 제공되고 있으며,건설, 자동차류등에는 차량 내외부 및 마감재등에 광범위하게 활용되고 있습니다..이러한 테이프류의 기술적 특징은 결국 접착강도와 접착수명에 달려 있으며, 이를 위해 차별화된 약품, 재료의 선택과 관련 접착류의 생산 과정에서의 이물질, 배합정도, 사용목적등에 따라 그 제조방법을 달리하고 있습니다.폐사의 기술적 특징은 이러한 제조방법 상의 노하우와 자체 연구개발에 의한 상품화가 특징입니다.
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- 경북기술이전센터
- 등록일
- 2005-07-08
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 기술은 전이금속 질화물(Transition Metal Nitrides)의 화학 기상 증착(CVD: chemical vapor deposition) 공정에 관한 것으로써, 낮은 온도(최적으로는 섭씨 200도)에서 화학 기상 증착에 의해 티타늄 질화물(TiN) 박막을 증착하기 위한 공정을 제공한다. 낮은 온도에서 수행되기 때문에, 티타늄 질화물(TiN)은 유리, 비트리우스 카본(vitreous carbon), 마일라(Mylar)와 같은 온도에 민감한 기판 상에 증착될 수 있다. 표준 화학 기상 증착 장비가 대기압에서 대략 100 nm/min의 속도로 막을 증착하는 데 사용된다.본 기술에 따른 방법은, 전이 질화물 금속(Transition Nitride Metal)의 일반 화학 기상 증착(standard CVD)시 요구되는 기판 온도를 상당히 낮출 수 있다는 장점을 가지고 있다. 증착 결과 형성된 막은 전도성과 내마모성이 우수하며, 잘 긁히지 않으며, 산과 염기에 화학적으로 강하며, 또한 탄소/산소불순물(carbon- and oxygen- impurities)이 낮으며(<1 wt%), 표면에 대한 이온충격(ion bombardment)을 이용하지 않고 우수한 접착성을 얻을 수 있다.
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- (주)피앤아이비
- 등록일
- 2005-07-12
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화학 > 전이금속화학·착물화학
원리 및 구성전기화학적 매개산화 및 오존 산화에 의한 유기폐액의 복합매개산화 처리장치이다. 이 장치는 전기화학적 매개산화 및 오존 산화를 병용함과 동시에 일체형 스크러버식 산화반응조를 적용함으로서 유기폐액의 산화효율을 증가시킨다. 개발배경기존 기술은 산화효율이 떨어지며 난분해성 고농도 유기폐액을 효율적으로 처리하지 못하였으며 장치가 복잡하였다. 이에 초기 장치 투자비의 부담이 있으며 운전의 어려움이 있었다. 중요성 및 독창성본 기술을 통해 작은 크기의 전해셀을 취하할수있으며, 전해셀의 전류의 소모량을 줄일 수 있으며, 캐소드액을 환원시키는 환원재생조의 크기도 작게 조절 가능하다응용분야전기화학적 매개산화 및 오존 산화를 병용함으로서 종래의 매개산화만으로 유기폐액을 산화시키는 장치에 비하여 유기폐액의 산화효율을 증가시켜 난분해성 고농도 유기폐액을 효율적으로 처리할 수 있어 매개산화반응조의 크기가 작아지는 장점이 있으며, 또한 일체형 스크러버식 산화반응조를 적용함으로서 장치가 단순화되어 초기 장치 투자비와 운전의 용이성이 있다특징 및 장점복합산화반응조에서 오존에 의한 환원된 매개이온의 산화반응을 병행함으로서 전해셀에서 처리해야 하는 환원된 매개이온의 양이 적어짐으로 인하여 전해셀의 크기가 작아지고, 전해셀의 전류의 소모량을 줄일 수 있으며, 캐소드액 양이 적어짐으로 인하여 캐소드액을 환원시키는 환원재생조의 크기도 작아지는 장점이 있다.
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- (재)광주테크노파크
- 등록일
- 2006-05-18
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 수은 이온에 대하여 선택적인 형광특성을 갖는 새로운 8-하이드록시퀴놀린 화합물의 제조방법 및 이 제조방법에 의하여 제조된 아래 화학식 1을 갖는 화합물에 관한 것으로, 특히 본 발명은 과량의 물이 사용된 디옥세인(dioxane) 수용액(dioxane: water = 1:3, v/v) 하에서, 그리고 불과 5배의 수은 이온에 대하여 전체 형광의 98%가 소멸되는 매우 효과적인 수은이온 선택적인 발색특이성과 on-off 타입의 형광특이성을 지닌 스위치 성질을 지녀 향후 환경 및 의학분야 등에서 센서(ionophore)로 활용될 수 있는 8-하이드록시퀴놀린 화합물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 상기 화학식 1의 8-하이드록시퀴놀린 화합물의 제조방법은 ⒜ 몰비 [2,4-디메틸파이롤 : 8-하이드록시퀴놀린-2-카르복살데히드]가 [1:0.5] 내지 [1:1] 되도록 준비하여 두 물질을 용매에 용해시키는 단계; ⒝ 상기 ⒜용액에 몰비 [2,4-디메틸피롤 : 트리플로로아세틱]이 [1:0.5] 내지 [1:1]이 되는 양의 트리플로로아세틱산을 첨가하고 교반하는 단계; ⒞ 몰비 [2,4-디메틸피롤 : 파라-클로라닐]이 [1:0.5] 내지 [1:1]이 되는 양의 파라-클로라닐을 용매에 용해시켜 ⒝용액에 첨가하고 교반하는 단계; ⒟ 상기 ⒞용액에 트리에틸아민과 BF 첨가하는 단계; 및 ⒠ 상기 ⒟용액을 유기용매로 추출하고 건조시켜 분리하는 단계를 포함하여 이루어진다.본 발명에 따른 8-하이드록시퀴놀린 화합물은 잘 알려진 결합부위인 8-하이드록시퀴놀린과 효과적인 신호화 부위인 BDP기를 접합시킴으로 새로운 발색 및 형광특이성을 갖는 이오노포어이며, 또 본 발명의 화합물 은 수은이온에 대해 아주 효과적인 on-off 형태의 형광특이성 및 눈으로도 검출이 가능한 발색특이성을 나타내고, 물이 포함되어 있는 화학적 및 생물학적 계에서의 수은이온 검출을 가능하다는 장점을 갖는다본 발명은 환경 분야에서 유해한 수은이온에 대하여 선택적인 형광 감응특성을 갖도록 BDP 형광기를 도입한 8-하이드록 시퀴놀린 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
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- 중앙대학교
- 등록일
- 2006-05-12
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 종래의 Ti5Si3계 금속간화합물을 치밀화하는 방법은 고가의 장비를 사용하여 복잡하고 공정으로 수행되는 것을 해결하고자 한다.본 발명은 분말야금법을 사용하고 다이스를 막은 상태로 유지하여 연속적인 저속의 일축 압력을 정수압에 가깝도록 작용시켜 가압성형함으로써 간단한 공정으로 친밀도 Ti5Si3계 금속간 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명의 분말야금법에 의한 친밀도 Ti5Si3계 금속간 화합물의 제조방법은 Ti 분말과 Si 분말을 혼합하고 압출기의 다이스를 막은 상태로 유지하여 연속적인 저속의 일축 압력을 정수압에 가깝도록 작용시켜 가압성형하는 것을 특징으로 한다.본 발명은 분말야금법에 의한 간단한 공정으로 기존의 고온강도, 고온 내산화성, 고온 크리프 특성 등을 유지하면서 치밀화되고 크기, 형상에 제한을 받지 않는 진밀도 Ti5Si3계 금속간 화합물을 제조하는 방법을 제공한다. 종래의 Ti5Si3계 금속간화합물을 치밀화하는 방법은 고가의 장비를 사용하여 복잡하고 공정으로 수행되는 반면에, 본 발명은 일반적으로 사용될 수 있는 압출기를 사용하여 간단한 공정으로 Ti5Si3계 금속간화합물을 치밀화함으로써 공정의 효율성을 기할 수 있고, 생산성 향상에 기여할 수 있다.본 발명은 차세대 우주 항공 및 고온 구조용 재료로서, Ti5Si3계 금속간 화합물을 제공한다. Ti5Si3계 금속간 화합물은 융점(2130℃)이 높고 밀도(4.32g/㎤)가 낮으며, 표면의 SiO2피막으로 인하여 고온 내산화성이 우수하고, 고온 크리프 저항성이 뛰어나 경량 고온 구조용 재료로서 적합하다.보다 상세하게는 Ti 분말과 Si 분말을 혼합하고 압출기의 다이스를 막은 상태로 유지하여 연속적인 저속의 일축 압력을 정수압에 가깝도록 작용시켜 가압성형하는 것을 특징으로 하는 분말야금법에 의한 진밀도 Ti5Si3계 금속간 화합물을 제조하는 것이다. 본 발명은 분말야금법에 의한 간단한 공정으로 기존의 고온강도, 고온 내산화성, 고온 크리프 특성 등을 유지하면서 치밀화되고 크기, 형상에 제한을 받지 않는 진밀도 Ti5Si3계 금속간 화합물을 제조할 수 있다. 종래의 Ti5Si3계 금속간화합물을 치밀화하는 방법은 고가의 장비를 사용하여 복잡한 공정으로 수행되는 반면에, 본 발명은 일반적으로 사용될 수 있는 압출기를 사용하여 간단한 공정으로 Ti5Si3계 금속간화합물을 치밀화함으로써 공정의 효율성을 기할 수 있고, 생산선 향상에 기여할 수 있다.최근 한정된 자원을 효과적으로 사용하기 위한 노력들이 세계 곳곳에서 행해지고 있으며, 자원이 한정적인 국내의 여건에 비추어 볼 때 에너지, 비용 등의 절감은 시급한 실정이다. 특히, 첨단 산업인 우주 항공 분야 및 그 관련분야에서는 이러한 노력의 일환으로 강도가 우수하고 경량인 재료를 경제적으로 개발하려는 시도가 계속되고 있다. 그러나 항공기용 구조재료 및 엔진의 터빈 부품과 같은 고온 구조용 재료는 그 사용 온도가 매우 높기 때문에 높은 고온강도뿐만 아니라 고온 크리프(creep) 특성, 고온 내산화성 및 내마모성 등의 우수한 물성이 필수적으로 요구된다.본 연구를 통해 기대되는 기업화 전망에 대한 효과는 한국의 21세기 산업에 필연적 중추 역할을 할 항공산업에 대한 준비에서 그 의미를 찾을 수 있다. 현재는 항공기 엔진의 조립단계에 머무르고 있는 항공․우주산업이 엔진자체의 설계, 제작단계에 진입할 때, 소재의 중요성, 특히 첨단성 소재의 중요성이 대두될 것이며, 본 연구는 그 시점에 가서 축적된 기반기술로서 나타날 것이다.
- 보유기관
- 인하대학교
- 등록일
- 2006-05-12
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 실리콘계 고분자막, 퍼플루오리네이티드 아이노머막 및 폴리우레탄계막으로 순차적으로 적층되어 2년 이상의 보관수명 안정성을 나타내는 소형 고체상 기준전극 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명은 안정성이 향상된 소형 고체상 기준전극 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 은/염화은 층 상부면에 염화칼륨 등이 포함된 실리콘계고분자막, 퍼플루오리네이티드 아이노머막 및 폴리우레탄계막으로 순차적으로 적층시킨 것이다. 본 발명의 소형 고체상 기준전극은 전기화학측정법, 화학분석용 센서 및 혈중가스분석용에 이용할 수 있으며, 특히 2년 이상의 전극 수명 안정성을 나타내므로 매우 우수하다.본 발명자들은 실리콘계 고분자막, 퍼플루오리네이티드 아이노머막 및 폴리우레탄계막으로 순차적으로 적층된 소형 고체상 기준전극을 개발함으로써 재래식 기준전극과 동일한 전극 성능을 유지하면서도 우수한 수명 안정성을 나타낸다는 것을 발견하여 본 발명을 완성하였다. 따라서, 본 발명의 목적은 재래식 기준전극과 동일한 전극 성능을 유지하면서도 우수한 수명 안정성을 나타내는 소형 고체상 기준전극 및 이의 제조방법을 제공하고자 하는데 있다.
- 보유기관
- 부산대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 DTPA-비스(피콜린아미드) 리간드 및 DTPA-비스(피콜린아미드) 리간드의 가돌리늄 착물에 관한 것으로서, 본 발명의 DTPA-비스(피콜린아미드)리간드는 양 말단기에 피리딘 유도체를 포함하고 있기 때문에 두 개 이상의 금속(가돌리늄 등)을 고정시킬 수 있는 이점을 갖는다. 본 발명의 DTPA-비스(피콜린아미드)리간드는 기존의 DTPA-비스아미드류 리간드와 달리 양 말단기에 피리딘 유도체를 포함하고 있기 때문에 두 개 이상의 금속을 고정시킬 수 있는 이점을 갖고, 따라서 보다 우수한 상자성 및 자기 이완 효과를 얻을 수 있다. 본 발명의 DTPA-비스(피콜린아미드)리간드는 기존의 DTPA-비스아미드류 리간드와 달리 양 말단기에 피리딘 유도체를 포함하고 있기 때문에 두 개 이상의 금속을 고정시킬 수 있는 이점을 갖고, 따라서 보다 우수한 상자성 및 자기 이완 효과를 얻을 수 있다. 조영제로서 Gd금속을 하나 이상 포함할 수 있는 다핵 금속 착물이 가능하여, 같은 농도에서 기존의 조영제에 비해 상자기성이 월등하게 향상될 것으로 기대된다. DTPA-비스(아미드)를 포함하는 다핵 전이금속 착물의 제조까지 가능하게 되었다.
- 보유기관
- 경북대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 고안은 광을 이용하여 효율 및 휘도를 높일 수 있게 구조로 만들어진 광섬유 조명기기에 관한 것으로 종래의 기술은 광원에서 출사된 광을 단순이 광섬유로 전송하도록 구조되어 있어, 광섬유의 휘도가 광원의 휘도능력에 따라 다른 결점을 가지고 있어서 이와같은 점을 개선하고 창안 하는 것으로서, 광 섬유로 전달되는 광의 휘도를 높일 수 있는 광섬유 조명기기를 개발 하고 또 한 다른 기능인 광섬유를 위치 교체 및 원하는 위치로의 장착이 용이한 구조의 광섬유 조명기기 위치 변경기능을 가진다.본 고안은 광섬유 조명기기에 관한것으로 광원에서 출사되는 광을 복수의 광섬유로 분할공급할 수 있도록 된 광섬유 조명기기는 케이스에 설치된 광원에서 출사된 광중 후방으로 진행하는 광을 집속하여 전방으로 반사시키는 반사경과, 광원을 중심으로 반사경 맞은편에 설치되어 광원의 광축과 수직한 방향을 따라 열을 지어 배열되어 광원에서 출사된 광을 각각 집속시키는 복수의 실린드리컬 렌즈가 어래인된 실린드리컬 렌즈 어레이와, 실린드리컬 렌즈를 거쳐 집속된 광을 각각수신 받을 수 있도록 실린드리컬 렌즈 어래이의 종축을 따라 복수의 광섬유가 어레이데어 적어도 하나의 광섬유 어래이 패널을 구비한다. 이러한 광섬유 조명기기에 의하면 광섬유로 전송되는 광의 휘도를 높일 수 있고, 수평상으로 광섬유가 어레이된 광섬유 어레이 패널의 수직상에서의 위치 교환 및 조립이 용이한 장점을 제공 한다.
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- (재)광주테크노파크
- 등록일
- 2007-03-15
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 에나멜선 용도를 갖는 알루미늄 합금에 관한 것으로서, 상세하게는 알루미늄, 구리, 아연 및 실리콘을 구성성분으로 한 전기 전도성과 인장 강도가 동시에 우수한 특성을 갖는 알루미늄 합금 및 이로부터 알루미늄 합금선을 제조하기 위한 것이다. 모터를 비롯한 각종 전자 부품의 제조에 사용되는 에나멜선은 부품의 소형화 및 경량화의 추세에 따라 전기 전도도는 우수하지만 비중이 큰 구리 대신에 비중이 낮은 알루미늄으로 제조되는 경향이 점차로 늘고 있으며, 선재 직경의 경우에 있어서는 세선화의 경향을 보이고 있다. 이에 따라 에나멜선 제조시 사용되어지는 소재는 높은 전도도와 더불어, 우 수한 인장 강도 역시 함께 요구되어 진다. 통상적으로 알루미늄 에나멜선은 99.5%이상의 알루미늄 순금속을 사용하여 제조되나, 전기 전도적인 면에 있어서는 61% IACS(국제연동표준)로 우수하지만 인장 강도가 10.5kg/mm 2 으로 낮기 때문에 초기 권취시 페이 오프(pay-off)에 걸리는 장력에 의해서 단선 발생율이 높아 세선의 가공 최소지름을 0.3mm 이하로 할 수 없는 문제점이 있다. 본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 에나멜 세선 제조에 유용한 알루미늄 합금을 제공하는데 그 목적이 있다. 본 발명은, 알루미늄을 주성분으로 하고, 여기에 전체 중량에 대하여 0.3 내지 0.5중량%의 구리와 0.4 내지 0.9중량%의 실리콘을 부성분으로 하여 이루어지는 알루미늄 합금 및 알루미늄을 주성분으로 하고, 0.3 내지 0.5중량%의 구리와 0.4 내지 0.9중량%의 아연 및 0.25중량%의 실리콘을 성분으로 하여 구성되는 알루미늄 합금을 연속주조 방식으로 주조하고, 열간 압연한 후 급냉시키고, 신선 가공한 후 어닐링하는 것으로 행하여지는, 알루미늄 합금선의 제조 방법이다.본 발명에 따른 알루미늄 합금선의 제조 방법에 있어서, 알루미늄 합금체를 연속 주조하고 열간 압연한 후 급냉시키는 조작에 의하여 준용체화 처리가 이루어진다. 또한 주조재를 신선 가공한 후 어닐링함에 의하여 석출 열처리가 이루어지게 된다. 이때 어닐링 공정은 고온에서 단시간 동안 행하는 것이 좋다. 바람직하게는 300 내지 500℃에서 약 1 내지 10분간 행한다. 더욱 바람직하게는 400℃에서 5분간 행하는 것이다. 이와 같은 본 발명의 방법에 의하여 준용체화 처리와 석출처리가 동시에 일어나 에나멜선에서 필요한 특성인 고용 강화와 석출 강화 효과를 동시에 기대할 수 있다. 이에 의하여, 합금화에 의한 전기 전도도의 감소 영향을 감소시켜 우수한 전기 전도도의 에나멜선을 제조하는 것이 가능하게 된다.
- 보유기관
- (주)엘에스전선
- 등록일
- 2007-01-30
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 쿠커비투릴 유도체, 그 제조방법 및 이의 용도를 제공한다. 상기 쿠커비투릴 유도체는 화학식 1로 표시된다.; [화학식 1] [IMAGE 1] ; 상기식중, X는 O, S 또는 NH이고, R 1 과 R 2 는 서로에 관계없이 수소, C1-C30의 알킬기, C1-C30의 알케닐기, C1-C30의 알키닐기, C1-C30의 알킬티오기, C1-C30의 알킬카르복실기, C1-C30의 하이드록시알킬기, C1-C30의 알킬실릴기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 할로알킬기, 니트로기, C1-C30의 알킬아민기, 아민기, C1-C30의 아미노알킬기, 비치환된 C5-C30의 사이클로알킬기 또는 헤테로원자를 갖고 있는 C4-C30의 사이클로알킬기, 비치환된 또는 헤테로원자를 가지고 있는 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되고, n은 4 내지 20의 정수이고, 단, n=6일 때, R 1 =H, R 2 =H, X가 O인 경우와, n=5일 때, R 1 =CH 3 , R 2 =H, X가 O인 경우는 제외된다. 상술한 화학식 1의 쿠커비투릴 유도체는 본 발명의 세가지 제조방법중의 하나에 따라 혼합물 상태로 얻어지며, 혼합물을 구성하는 각 성분들은 분별결정을 통하여 분리가능하다. 이 쿠커비투릴 유도체 및 그 혼합물은 폐수 또는 물속에 녹아 있는 염료 및 중금속 제거에 매우 유용하다.(a-1) 화합물 (A)에, 이 화합물 (A) 1몰을 기준으로 하여 3 내지 7몰의 산을 부가하여 혼합한 다음, 여기에 2 내지 20몰의 알킬 알데히드 (B)를 부가하여, 70 내지 95℃에서 교반하는 단계; 및 (b-1) 상기 반응 결과물을 95 내지 105℃에서 교반하여 반응을 완결시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 1로 표시되는 쿠커비투릴 유도체의 제조방법. [IMAGE 9] <화학식 1> [IMAGE 10] 상기식중, X는 O, S 또는 NH이고, R1과 R2는 서로에 관계없이 수소, C1-C30의 알킬기, C1-C30의 알케닐기, C1-C30의 알키닐기, C1-C30의 알킬티오기, C1-C30의 알킬카르복실기, C1-C30의 하이드록시알킬기, C1-C30의 알킬실릴기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 할로알킬기, 니트로기, C1-C30의 알킬아민기, 아민기, C1-C30의 아미노알킬기, 비치환된 C5-C30의 사이클로알킬기 또는 헤테로원자를 갖고 있는 C4-C30의 사이클로알킬기, 비치환된 또는 헤테로원자를 가지고 있는 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되고, n은 4 내지 20의 정수이다.
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- 포항공과대학교
- 등록일
- 2007-08-10
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 호모키랄 다공성 결정 물질 및 그 용도를 개시한다. 상기 호모키랄 다공성 결정 물질은 키랄 유기 화합물 또는 키랄 금속 착물에 금속 이온과 배위결합을 형성할 수 있는 작용기를 도입하여 얻어진 키랄 단위체(chiral building block)와, 금속 이온간의 배위결합을 통하여 형성된 것을 특징으로 한다. 본 발명의 호모키랄 다공성 결정 물질은 다양한 형태의 공동 또는 채널내에 화학반응을 촉진시킬 수 있는 촉매점을 도입할 수 있어서 각종 화학반응의 촉매로 활용가능하다. 특히 거울상 선택성을 갖는 키랄한 공동 또는 채널의 특성으로 말미암아 거울성 이성질체의 분리체나 거울성 선택적인 촉매로서 매우 유용하게 사용가능하다. 화학식 1 내지 3의 화합물중에서 선택된 하나의 키랄 단위체(chiral building block)와, 금속 이온간의 배위결합을 통하여 형성되거나 또는 화학식 4로 표시되는 키랄 단위체와 금속 이온간의 배위결합을 통하여 형성되는 것을 특징으로 하는 호모키랄 다공성 결정물질. <화학식 1> [IMAGE 11] 상기식중, X 1 과 X 2 는 서로에 관계없이 CO 2 H, 아미도피리딘기{-CONH(C 5 H 4 N)}, 아미도피라졸기{-CONH(C 3 H 3 N 2 )} 및 아미도이미다졸기{-CONH(C 3 H 3 N 2 )}로 이루어진 군으로부터 선택된다. <화학식 2> [IMAGE 12] 상기식중, X 3 및 X 4 는 서로에 관계없이 아미도피리딘기{-CONH(C 5 H 4 N)}, 아미도피라졸기{-CONH(C 3 H 3 N 2 )} 및 아미도이미다졸기{-CONH(C 3 H 3 N 2 )}로 이루어진 군으로부터 선택되고, X 5 는 아민의 보호기이다. <화학식 3> [IMAGE 13] 상기식중, X 6 과 X 7 은 서로에 관계없이 아미도피리딘기{-CONH(C 5 H 4 N)}, 아미도피라졸기{-CONH(C 3 H 3 N 2 )} 및 아미도이미다졸기{-CONH(C 3 H 3 N 2 )}로 이루어진 군으로부터 선택된다. <화학식 4> [IMAGE 14] 상기식중, M은 Ru, Co, Mn, Re, Fe, Os, Rh, Ir, Zn, Cd 및 Hg로 이루어진 군으로부터 선택된 하나이고, n은 1 내지 5의 정수이다.
- 보유기관
- 포항공과대학교
- 등록일
- 2007-08-10
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일반기술
화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 기둥 구조를 갖는 액정 물질의 중합을 통하여 얻은 다공성 고분자 및 그 제조방법을 제공한다. 상기 다공성 고분자는 주형 분자와 중합성 모노머간의 수소결합을 통하여 얻은 기둥 구조(columnar structure)를 갖는 액정 물질로부터 액정 상태에서의 중합을 거치고, 중합 결과물로부터 주형 분자를 제거하여 얻어진 것임을 특징으로 한다. 본 발명의 다공성 고분자는 일정한 크기의 기공이 규칙적으로 배열되어 있으므로 기공내에 금속을 포함시켰을 때 소정 크기의 금속 입자를 균일하게 배열시킬 수 있다. 또한 중합하기 이전의 액정 물질은 유동성을 갖고 있어서 스핀 코팅이 가능하고 이 결과물을 중합하면 고분자 박막을 만들기가 용이하다는 잇점이 있다. 이와 같은 고분자 박막은 공업적으로 가치가 높은 다공성 물질이나 멤브레인으로 사용가능하며, 특히 주형 분자에 따라 특정 물질만을 인지, 분리할 수 있는 기능성 멤브레인으로 응용가능하다. 그리고 본 발명의 다공성 고분자는 다른 물성을 갖는 고분자의 합성에서 주형 분자로서 사용가능할 뿐만 아니라, 다공성 고분자의 기공에 금속을 삽입하여 얻은 화합물은 촉매로도 이용가능하다. 또한, 본 발명의 다공성 고분자는 종래의 다공성 물질의 제조방법과는 달리 고온, 고압의 가혹한 조건을 거치지 않고서도 손쉽게 제조할 수 있다. 주형분자인, 하기 구조식의 2,5,8-트리알킬-4,7-디하이드로-1H-디이미다조[4',5':3,4:4',5':5,6] 벤조[d]이미다졸과, 중합성 모노머인 하기 구조식의 3,4,5-트리스(11'-아크릴로일알킬옥시)벤조익산간의 수소결합을 통하여 얻은 결합물이면서 기둥 구조(columnar structure)를 갖고 있는 화학식 1의 액정 물질을 중합하여 액정상의 대응하는 고분자를 얻고, 상기 중합 결과물인 고분자를 유기 용매와 산 용액의 혼합물에 담가 고분자내의 주형 분자인 2,5,8-트리알킬-4,7-디하이드로-1H-디이미다조[4',5':3,4:4',5':5,6] 벤조[d]이미다졸을 제거하여 얻어진 것임을 특징으로 하는 다공성 고분자. [IMAGE 10] <화학식 1> [IMAGE 11] 상기식중, R 1 , R 2 및 R 3 은 서로에 관계없이 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5개의 알킬하이드록시기 및 탄소수 1 내지 5의 알켄기로 이루어진 군으로부터 선택되고, S 1 , S 2 및 S 3 은 서로 독립적으로 화학식 2로 표시되고, <화학식 2> [IMAGE 12] 상기식중, A 1 , A 2 및 A 3 은 서로에 관계없이 탄소수 8 내지 30의 알킬기이다.
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- 포항공과대학교
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 1,3,5-트리스(치환된 카테콜릴메틸)-2,4,6-트리알킬벤젠 새장 구조 화합물 및 이를 이용한 이온 센서를 제공한다. 본 발명에 따른 1,3,5-트리스(치환된 카테콜릴메틸)-2,4,6-트리알킬벤젠 새장 구조 화합물 사용시 암모늄 이온에 대한 인지에 있어서 천연물질인 노낙틴을 사용하는 경우와 비교할 때, 다양한 pH에 걸쳐 동일한 수준의 감도와 다른 양이온들에 대한 더 높은 선택성을 보이고, 또한, 합성이 훨씬 용이하므로 고가의 노낙틴을 대체할 수 있다. 화학식 1로 표시되는 1,3,5-트리스(치환된 카테콜릴메틸)-2,4,6-트리알킬벤젠 새장 구조 화합물: [화학식 1] [IMAGE 3] 상기 화학식 중, R 1 , R 2 및 R 3 는 서로 관계없이 수소 또는 탄소수 1 내지 10 이내의 알킬기, 탄소수 1 내지 10 이내의 알킬치오기, 탄소수 1 내지 10 이내의 알킬옥시기, 탄소수 1 내지 10 이내의 알킬아민기, 탄소수 1 내지 10 이내의 알킬에스테르기, 할로겐기, 니트로기 및 아민기로 이루어진 군에서 선택된다.
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 말단에 폴리아민기가 치환된 폴리암모늄 덴드리머, 그 제조방법 및 이의 용도를 제공한다. 또한, 본 발명은 상기 덴드리머의 말단에 있는 폴리아민기와 쿠커비트릴간의 자기 조립 착물인 유사로택산 덴드리머 유도체, 그 제조방법 및 이의 용도를 제공한다. 상기 폴리암모늄 덴드리머 및 유사로택산 덴드리머 유도체는 덴드리머 내부에 생화학적 활성물질을 가두어 포집할 수 있고 이 형성된 착물이 해리되면서 내부에 포집된 생화학적 활성물질을 천천히 방출시킬 수 있다. 그리고, 폴리암모늄 덴드리머는 폴리뉴클레오티드, DNA 등과 같은 생화학적 활성물질과 이온상호작용을 통하여 자기 조립 착물을 형성할 수 있다. 따라서, 이러한 물질들은 약물의 전달, 유전자 치료, 유전자 전달 등과 같은 생화학적 분야에 유용하게 사용가능하다. 화학식 1로 표시되는 폴리암모늄 덴드리머: <화학식 1> [IMAGE 15] 상기식중, R 1 와 R 2 는 서로 독립적으로 수소 원자, 탄소수 2 내지 4의 아미노알킬기 또는 탄소수 5 내지 10의 디아미노알킬기이고, ○는 폴리(프로필렌이민) 덴드리머 및 폴리(아미도아민) 덴드리머로 이루어진 군으로부터 선택된 덴드리머 중심 영역을 나타내고, Y는 O 또는 NH이며, m은 덴드리머의 세대수에 따른 표면에 있는 작용기의 개수로서, 3 내지 200의 정수이며, n이 1 내지 3의 정수이며, x는 2 내지 10의 정수이고, X는 할로겐 원자, 헥사플루오로포스페이트, 트리플루오로아세테이트로 이루어진 군으로부터 선택된다.
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 화학식 1로 표시되는 수용성 및 지용성 쿠커비투릴 유도체, 그 제조방법, 그 분리방법 및 용도를 제공한다.; [화학식 1] [IMAGE 1] ; 상기식중, X는 O, S 또는 NH이고, R 1 과 R 2 는 서로에 관계없이 수소, C1-C30의 알킬기, C1-C30의 알케닐기, C1-C30의 알키닐기, C1-C30의 알킬티오기, C1-C30의 알킬카르복실기, C1-C30의 하이드록시알킬기, C1-C30의 알킬실릴기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 할로알킬기, 니트로기, C1-C30의 알킬아민기, 아민기, C1-C30의 아미노알킬기, 비치환된 C5-C30의 사이클로알킬기 또는 헤테로원자를 갖고 있는 C4-C30의 사이클로알킬기, 비치환된 또는 헤테로원자를 가지고 있는 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되고, n은 4 내지 20의 정수, m은 1내지 7의 정수이다. 상술한 화학식 1의 쿠커비투릴 유도체는 통상적인 용매에 대한 용해도 특성이 개선됨으로 말미암아 그 용도에 대한 응용성이 보다 확장될 수 있다. 화학식 1로 표시되는 쿠커비투릴 유도체: <화학식 1> [IMAGE 13] 상기식중, X는 O, S 또는 NH이고, R 1 과 R 2 는 서로에 관계없이 수소, C1-C30의 알킬기, C1-C30의 알케닐기, C1-C30의 알키닐기, C1-C30의 알킬티오기, C1-C30의 알킬카르복실기, C1-C30의 하이드록시알킬기, C1-C30의 알킬실릴기, C1-C30의 알콕시기, C1-C30의 할로알킬기, 니트로기, C1-C30의 알킬아민기, 아민기, C1-C30의 아미노알킬기, 비치환된 C5-C30의 사이클로알킬기 또는 헤테로원자를 갖고 있는 C4-C30의 사이클로알킬기, 비치환된 또는 헤테로원자를 가지고 있는 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되고, n과 m은 서로에 관계없이 각각 4 내지 20의 정수, 1 내지 7의 정수이다.
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 쿠커비투릴 유도체를 주인 분자로 그리고 백금 착물과 같은 금속 착물을 손님 분자로 포함하고 있는 내포 화합물을 제공한다. 이 내포 화합물을 이용하면 항암 효과를 갖는 약제학적 조성물을 얻을 수 있다. 이 약제학적 조성물은 유효성분이 용액상에서 신체의 생물질에 의하여 분해되는 것이 방지되고, 목적한 종양에 도달한 후, 백금 착물이 서서히 방출될 수 있도록 조절함으로써 한번의 처방으로도 오래 지속된 약효를 갖는다.화학식 1의 쿠커비투릴 유도체를 주인 분자로 하고, 하기 화학식 4 내지 27로 표시되는 화합물 및 시스-디클로로에틸렌디아민백금(II)중에서 선택된 금속 착물을 손님 분자로 내포하고 있는 것을 특징으로 하는 내포 화합물: <화학식 1> [IMAGE 64] 상기식중, R 1 과 R 2 는 서로에 관계없이 H, C1-C30의 알킬기, C1-C30의 알켄기, C1-C30의 알킨기, C1-C30의 알킬티오기, C1-C30의 알킬카르복실기, C1-C30의 알킬하이드록시기, C1-C30의 알킬실릴기, C1-C30의 알킬옥시기, C1-C30의 할로알킬기, 니트로기, C1-C30의 알킬아민기, 아민기, 비치환 또는 헤테로원자를 갖고 있는 C6-C30의 사이클로알킬기, 비치환 또는 헤테로 원자를 갖는 탄소수 6 내지 15의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되고, n은 4 내지 20의 정수이다. <화학식 4> [IMAGE 65] <화학식 5> [IMAGE 66] <화학식 6> [IMAGE 67] <화학식 7> [IMAGE 68] <화학식 8> [IMAGE 69] <화학식 9> [IMAGE 70] <화학식 10> [IMAGE 71] <화학식 11> [IMAGE 72] <화학식 12> [IMAGE 73] <화학식 13> [IMAGE 74] <화학식 14> [IMAGE 75] <화학식 15> [IMAGE 76] <화학식 16> [IMAGE 77] <화학식 17> [IMAGE 78] <화학식 18> [IMAGE 79] <화학식 19> [IMAGE 80] <화학식 20> [IMAGE 81] <화학식 21> [IMAGE 82] <화학식 22> [IMAGE 83] <화학식 23> [IMAGE 84] <화학식 24> [IMAGE 85] <화학식 25> [IMAGE 86] <화학식 26> [IMAGE 87] <화학식 27> [IMAGE 88]
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 기재 표면에 친수성 코팅층을 형성하기 위한 방법에 관한 것으로서, 기재를 양이온 고분자 수용액에 침지시켜 기재의 표면에 양이온 코팅층을 형성한 후 수세 및 건조하고, 표면에 양이온 코팅층이 형성된 상기 기재를 음이온 고분자 수용액에 침지시켜 상기 양이온 코팅층 위에 음이온 코팅층을 형성한 후 수세 및 건조하는 것을 포함하는, 본 발명의 재료 표면의 친수화 코팅 방법에 따르면, 기재의 크기와 형태에 대한 제약 없이 무기 재료뿐만 아니라 플라스틱, 고무 등의 고분자 재료의 기재에도 친수성 코팅층을 형성할 수 있다. 고분자 기재를 폴리(알릴아민하이드로클로라이드)(PAH), 폴리아닐린(PAN) 및 폴리(디알릴디메틸)아민(PADA) 중에서 선택된 양이온 고분자 수용액에 침지시켜 기재 표면에 양이온 고분자 코팅층을 형성한 후 수세 및 건조하고, 표면에 양이온 고분자 코팅층이 형성된 상기 기재를 폴리(아크릴산)(PAA), 폴리(메타크릴산)(PMA) 및 폴리(타이오펜아세트산)(PTAA) 중에서 선택된 음이온 고분자 수용액에 침지시켜 상기 양이온 고분자 코팅층 위에 음이온 고분자 코팅층을 형성한 후 수세 및 건조하는 단계를 포함하는, 소수성 기재의 표면을 친수성으로 개질하는 방법.
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 하이드록시쿠커비투릴 및 그 유도체, 이들의 제조방법 및 그 용도를 제공한다. 상기 하이드록시쿠커비투릴 및 그 유도체는 용도에 따라 작용기를 쉽게 도입할 수 있기 때문에 그 응용 범위가 매우 넓다. 또한, 본 발명에 따른 하이드록시쿠커비투릴의 합성은 매우 용이하여 공업적으로 대량생산이 가능하다. 이러한 하이드록시쿠커비투릴 및 그 유도체는 아세틸콜린과 같은 생체내의 생리활성 물질의 인지에 유용하게 쓰일 수 있고, 유기용매에 대한 용해도 조절이 가능하므로 화학반응장소로 이용 가능하고 또한, 이온 선택성 전극 박막의 제조가 용이하여 임상 분석이나 환경 오염 물질의 검출에 직접적으로 응용 가능한 이온 센서로 개발할 수 있다. 화학식 1로 표시되는 하이드록시쿠커비투릴 화합물: <화학식 1> [IMAGE 32] 상기식중, n개의 A 1 과 n개의 A 2 중의 하나 이상 또는 모두가, 하이드록시기, 메틸옥시기, 부틸옥시기, 도데카부틸옥시기, 알릴옥시기, 프로피닐옥시기, 하이드록시에틸옥시기, C1-C30 알킬옥시카르보닐옥시기, C1-C30의 알킬카르보닐옥시기, C1-C30의 아미노알킬옥시기, -OC(=O)CH 3 , -OCH 2 CH 2 CH 2 SCH 2 COOH, -OCH 2 CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 NH 2 , -OC(=O)CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 로 이루어진 군으로부터 선택되고, 나머지의 A 1 과 A 2 는 수소(H)이고, X는 O, S 또는 NH이고, n은 4 내지 20의 정수이다.
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 용도에 따라 치환기를 쉽게 도입할 수 있는 이치환 쿠커비투[6]릴 및 그 제조방법을 제공한다. 본 발명의 이치환 쿠커비투[6]릴은 두 개의 말단 작용기를 고체 기질상이나 생화학적으로 유용한 화합물에 말단 작용기와 반응시켜 공유 결합체를 제조하는 경우, 크로마토그래피용 컬럼 충진제, 기체 분리막의 첨가제, 각종 화학반응의 촉매, 화학센서, 생물학적인 센서 등의 분야에 이용가능하다. 화학식 1로 표시되는 이치환 쿠커비투[6]릴: <화학식 1> [IMAGE 10] 상기식중, X는 O, S 또는 NH이며, R은 2-니트로페닐기, 3-니트로페닐기, 4-니트로페닐기, 2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-아미노페닐기, 3-아미노페닐기, 4-아미노페닐기, 2-하이드록시페닐기, 3-하이드록시페닐기, 4-하이드록시페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
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화학 > 전이금속화학·착물화학
본 발명은 하기 화학식 2의 쿠커비투릴 또는 그 유도체의 내부 공동(cavity)에 하기 화학식 3의 화합물이 수직으로 관통된 하기 화학식 1의 화합물, 이 화합물이 공유결합된 고체 기판, 이 고체 기판을 포함하는 바이오칩을 제공한다. ; [화학식 1]; ; [IMAGE 1] ; [화학식 2]; ; [IMAGE 2] ; [화학식 3]; ; [IMAGE 3] ; (상기 화학식에서, R 1 , R 2 , R 3, X 1 , X 2 , Y 1 , 및 Y 2 는 명세서에서 정의된 바와 같다) 하기 화학식 2의 쿠커비투릴 또는 그 유도체의 내부 공동(cavity)에 하기 화학식 3의 화합물이 수직으로 관통된 하기 화학식 1의 화합물. [화학식 1] [IMAGE 30] (상기 화학식 1에서, R 1 , R 2 , 및 R 3 는 각각 독립적으로 C 2 -C 10 선형 알킬렌, 에틸렌글리콜 올리고머, 1,4-치환 벤젠, 또는 1,4-치환 피리딘이고; X 1 및 X 2 는 각각 독립적으로 이차 암모늄, 1,4-치환 피리디늄, 또는 벤질 암모늄이며; Y 1 및 Y 2 는 각각 독립적으로 일차 암모늄, 이소시안, 이소티오시안, 아크릴 아미디늄, 또는 티올이다) [화학식 2] [IMAGE 31] (상기 화학식 2에서, n은 4 내지 20의 정수이고, R 4 및 R 5 는 각각 독립적으로 수소, C 1 -C 20 알킬기를 가지며 말단이 불포화결합인 알케닐옥시기, C 1 -C 20 알킬기를 갖는 카르복시알킬설피드옥시기, C 2 -C 8 알킬기를 갖는 카르복시알킬옥시기, C 2 -C 8 알킬기를 갖는 아미노알킬옥시기, 또는 C 2 -C 8 알킬기를 갖는 히드록시알킬옥시기이다) [화학식 3] [IMAGE 32] (상기 화학식 3에서, R 1 , R 2 , R 3, X 1 , X 2 , Y 1 , 및 Y 2 는 상기 화학식 1에서 정의된 바와 같다)
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