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일반기술 물리학 > 플라즈마 물리

가속화 이온의 광원&진공 아크 “RADUGA-5'를 베이스로한 플라즈마 Flow[W025]

광원의 작동 원리는 진공 아크를 포함한 프라즈마의 연속적 발생과 유도 플리즈마 flow의 이차적 적출과, 가속화 이온의 heavy 전류 광선의 구조에 의한 주기적 펄스 또는 연속적 펄스에 베이스를 둔 것이다. 설비에 사용되어진 다이오드 시스템과 플라즈마 필터는 금속의 강력하고 폭넓은 이온 광선의 형태와 플라즈마 flow 형태로 만드는 것이 가능하다. RADUGA-5는 연속적으로 작동이 가능한 무한한 자원을 가지고 있다는 것이 특징이다. RADUGA-5의 광원은 다음의 기술적 프로세스를 현실화 하는 것이 가능하다. - 여러 가지 다른 코팅에 사용할 수 있는 표면의 고효율 preparation ; 다른 코팅에 적용을 할 수 있도록 어떠한 물질이든지 표면을 최적화하는 목적을 가지고, 물질에 주입된 원자의 높은 농축 레벨을 달성하는 고농축 주입 ; 금속과 세라믹, 유리, 플라스틱의 결합으로 만들어진 물품에 여러 가지 다른 이온 플라즈마 산란 코팅(마모 방지, 보호-장식 코팅, 방식제 등) ;이온 주입을 사용한 조인트와 플라즈마 산란 코팅은 다음을 보증한다. - 고흡착 코팅 획득 ; 유리와 자기 제품, 세라믹, 플라스틱, 금속 위에 장식적 코팅을 할 수 있는 코팅의 특성을 향상 ; tool과 장비, 기계 부품을 강화하는 동안 절단 가장자기가 과열되는 문제가 해결됨 ; 필요에 의해, 표면층의 화학적 활동성과 마찰적 특징 그리고 전기 전도성을 변화시켜 물품에 적용할 수 있다. 동 기술은 광원은 이온 주입과 이온 혼합이 함유된 금속성 플라즈마의 침전 기술의 실현을 위해 개발되었다. 광원은 진공-아크와 마그네트론, 그 외 플라즈마 발생기가 공동으로 또는 독립적으로 물질의 표면 특성 변경에 영향을 주도록 하는 설비에 사용된다.

보유기관: 티알씨코리아
등록일: 2004-05-17

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일반기술 물리학 > 플라즈마 물리

진공-아크 발생기내의 플라즈마에서 micro-drop fractions제거장치[W026]

플라즈마 필터 : 진공-아크 발생기내의 플라즈마에서 micro-drop fractions 제거를 위한 장치는 진공 아크 발생기의 플라즈마를 세정하기 위해 개발된 것으로, micro-drop fraction에서 연속적 작용 또는 펄스적인 작용을 하도록 한 것이다. 이온 플라즈마 산란 코팅과 그 외 필터를 위한 장비에 있는 플라즈마 필터는 어떠한 전도 물질(가용성 포함하여)의 플라즈마도 세정하는 것이 가능하다. 동종의 구조를 가진 플라즈마 필터를 사용한 형태의 코팅은 microhardness, 점착력의 증가가 이루어지며, 표면 roughness의 상당한 감소시킬 수 있는 특징을 갖는다. 또한 플라즈마 필터는 plasma-immersion 이온 주입을 위한 장비, 또는 진공 아크에 의한 플라즈마의 발생이 일어나는 이온 공급원에도 사용되어진다. 플라즈마 flow의 이온 성분의 전도 유효성은 30%까지이다. macros-switching의 평균 밀도의 감소는 2-3order, 요구되는 파워는 3kW이다.개발된 진공-아크 발생기내의 플라즈마에서 micro-drop fractions 제거를 위한 장치인 플라즈마 필터의 특징은 구조가 단순하다는 것이며, 진공 아크 vaporizer 의 구조를 가지는 어떠한 과학기술용, 실험을 위한 설비에도 사용될 수 있는 일반성이다. 그리고, 전도의 고효율성, 플라즈마 세정 품질 - 이것은 focused된 플라즈마 flow와 발산 플라즈마 flow 모두의 형태에 사용 가능하게 한다. 또한, 플라즈마 flow의 이온 성분의 전도 유효성은 30%까지이며, macros-switching의 평균 밀도의 감소는 2-3order, 요구되는 파워는 3kW이다.

보유기관: 티알씨코리아
등록일: 2004-05-17

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일반기술 물리학 > 플라즈마 물리

이온 활동 근원과 아크 플라즈마 클리닝[W036]

아크의 연속적인 연소에 의해, 부품의 세정 처리를 위한 이온과 플라즈마의 활동 Source를 증가시켰다.부품 클리닝의 프로세스는 아크 플라즈마와 이온 펄스의 교대에 의해 일어나며, 이 플라즈마에서 가속화된다. 이온의 투명성 루버 시스템에서의 증가를 위해 진공 아크 플라즈마에 의해 positive 포텐셜의 상태에서 개발되었다 아크 플라즈마에서 나온 마이크 크기의 drop 파편 제거 유니트 또한 개발되었다.동 기술에서 루버 시스템의 투명성은 플라즈마의 이온을 반사하는 분야의 개발에 의해 증가되었다. 플라즈마 전자의 자성은 전류와 시리즈에 연결된 것의 흐름에 의해 제공되는 것이며, 이것은 루버 시스템의 전극에 반대되는 것이다. 루버 시스템은 플라즈마 흐름의 방향을 변경하지 않고, 특히 플라즈마-아크 증발기의 사용을 매우 편리하게 한다. 예를 들자면 "Damascus steel", "NNV" 타입의 설비가 있다. 전자의 자성은 열구적 자석에 의해 보증되는 것이다.연속적인 아크 방출 플라즈마에서 촉진된 코팅 품질의 증가는 플라즈마의 마이크로 drop 파편의 제거 knot을 허락하며, 공축 원추형 전극을 사용한 루버 시스템 형태에서 만들어 진다.동 기술에서 루버 시스템의 투명성은 플라즈마의 이온을 반사하는 분야의 개발에 의해 증가되었다. 플라즈마 전자의 자성은 전류와 시리즈에 연결된 것의 흐름에 의해 제공되는 것이며, 이것은 루버 시스템의 전극에 반대되는 것이다. 루버 시스템은 플라즈마 흐름의 방향을 변경하지 않고, 특히 플라즈마-아크 증발기의 사용을 매우 편리하게 한다. 예를 들자면 "Damascus steel", "NNV" 타입의 설비가 있다. 전자의 자성은 열구적 자석에 의해 보증되는 것이다.

보유기관: 티알씨코리아
등록일: 2004-05-17

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비정질 실리콘의 결정화 방법

유리기판 등의 절연기판 위에 제작되는 저온 다결정 실리콘 박막은 형성온도가 낮아 제조단가가 상대적으로 낮고, 대면적화가 가능하다. 본 발명은 비반응성 기체를 이용한 플라즈마를 사용하여 니켈 등의 아주 얇은 전이금속 입자를 비정질 실리콘 박막으로 결정화시키어 박막의 특성 향상시키기 위한 비정질 실리콘의 결정화 방법에 관한 것으로, 이러한 특성을 갖는 다결정 실리콘 박막은 제작함으로써 박막트랜지스터와 태양전지, 이미지 센서 등의 실리콘 반도체 소자 제작에 사용될 수 있다.현재 사용되고 있는 반도체 소자의 대면적 공정에 응용하기 위해서 결정화 온도는 유리기판의 변형 온도보다 낮아야 하고 대면적의 결정화 특성 향상이 필요하다. 그러나 기존의 할로겐 램프에 의한 열처리 방법은 대면적 기판에 적용하기 위해서는 열처리 온도의 균일도을 유지하기가 어렵다. 또한 대면적 기판에 적용함에 따른 기판 변형이 문제가 되고 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 전계를 인가하면서 자외선(UV)에 의한 열처리로 비정질 실리콘 박막을 급속히 가열하여 결정화 시간을 줄일 수 있다. 또한 대면적 공정에 있어서 기판의 변형을 최소화 할 수 있다. 현재 사용되고 있는 금속 유도 결정화에 있어 결정화된 실리콘 박막내에 남아 있는 금속에 의한 오염을 극복하기 위하여 결정화에 필요한 금속의 양을 조절하고 자외선(UV)조사에 의한 열처리로 결정화 특성이 향상된 박막을 얻을 수 있다.

보유기관: 경희대학교
등록일: 2004-06-08

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대기압 플라즈마 발생장치

본 발명은 안정화된 대기압 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 상기 발생장치(100)는, 그 내부에 한쌍의 전극(112)이 구비되고, 플라즈마(P)를 발생시켜 시료(2)의 표면을 세정하는 플라즈마 건(110)과; 상기 플라즈마 건(110)에 연결되어 대기압 이상의 압력으로 조절된 반응가스를 공급하는 반응가스공급부(120)와; 상기 플라즈마 건(110)의 전극(112)에 연결되어 10～100Hz의 주파수를 갖는 고전압을 제공하는 고전압공급부(130)와; 상기 고전압공급부(130)에 50～60Hz의 상용주파수를 갖는 교류전원을 공급하는 전원부(134)와; 상기 고전압공급부(130)의 작동을 제어하는 조절부(132);로 구성되어, 대기압 이상의 압력에서 안정화된 플라즈마(P)를 발생시킴으로써 종래에 요구되던 진공장치 등과 같은 고가의 장비가 불필요하게 되어 경제적이고, 플라즈마 발생장치(100)의 범용화를 꾀할 수 있어 경제적인 세정시스템을 구축할 수 있다.리드 프레임(Lead Frame)이나 PCB와 같은 부품 및 병뚜껑이나 화장품 케이스 등을 세정용 액체 속에 침적시켜 세정액체와의 화학반응에 의해 그 표면을 세정하는 습식세정 방법이 이용되었는데, 이러한 습식세정 방법은 세정액체가 여러 종류의 화학약품으로 이루어져 있기 때문에, 화학약품에 의한 환경오염 문제가 야기되었고, 화학약품에 따른 빈번한 장비 교체작업으로 인해 생산성이 저하되며, 생산경비가 상승되는 문제점이 있었다.그리고, 위와 같은 문제점을 감안하여 최근에는 저압의 진공조 내에 플라즈마를 발생시켜 만들어진 이온이나 활성화된 가스를 시료의 표면과 접촉시켜 시료 표면의 불순물이나 오염물질을 제거하는 진공 플라즈마 기술을 이용한 세정방법이 개발되었는데, 이는 플라즈마를 발생시키기 위해서 별도의 진공장치가 요구되어 생산원가가 상승되고, 제한된 크기의 진공 반응용기가 반드시 요구되기 때문에 습식 세정보다 생산성이 떨어짐으로 인해 우수한 세정효과에도 불구하고 널리 이용되지 못하는 문제점이 있었다.이에, 본 발명은 전술한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 시료의 표면을 세정하기 위한 플라즈마를 대기압 이상의 압력에서 안정화한 상태로 발생시킴으로써, 플라즈마 발생장치의 범용화를 이뤄 경제적인 세정시스템을 구축할 수 있도록 한 대기압 플라즈마 발생장치를 제공하는데 그 목적이 있다.본 발명의 대기압 플라즈마 발생장치에 의하면, 대기압 이상의 압력에서 안정화된 플라즈마를 발생시킴으로써 종래에 요구되던 진공장치 등과 같은 고가의 장비가 불필요하게 되어 경제적이고, 플라즈마 발생장치의 범용화를 꾀할 수 있어 경제적인 세정시스템을 구축할 수 있는 효과가 있다.

보유기관: 한국생산기술연구원
등록일: 2004-06-28

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플라스마 음극 전자총

플라스마 음극이 포함된 전자총은 전자빔 용접과 진공상태에서 금속 표면 처리 기술을 위해 개발되었다. 동 전자총의 주요 장점은 고온 전극(열전자의 고형 음극)이 존재하지 않는다는 것이다. 이것은 상당히 긴 사용기간과 높은 작동 압력을 제공하며, 물질 처리에 있어 부족함이 없게 해 준다. 또한 활동적인 가스체와 증발 매체에서의 작동 가능성을 제공한다. 플라스마 음극 전자총은 플라스마가 발생되고, 진공 또는 낮은 압력 가스에서 전자 누출을 위해 고안된 컨디션이 제공되는 곳에 위치한 가스 방전 유니트를 포함한다. 개념적으로, 전자 방출은 다양한 방전 타입으로 이루어진다. 그러나, 동사는 오직 하나의 방전 타입을 갖는 연속적 전자 빔 생산에 초점을 맞추고 전자총 연구를 해왔다. 동사가 연구한 한 가지 방전 타입은 반사된 공동(空洞)-음극 저압, 저전압 방전이다. 이 타입의 방전은 3개의 “차가운(cold)" 전극(공동 음극, 양극, 보조 전극)으로 이루어진 전국 시스템에서 방전이 시작된다. 공동(空洞) 음극과 양극은 원주 모양의 형태를 가지며, 보조 전극은 평면 형태이고 공동 음극의 맞은편에 위치한다. 자기장은 방전실에서 발생된다. 보조 전극(이미터 음극) 방출 체널은 추출된 전자를 통해 만들어진다. 전자 방출을 실행하기 위한 가속 전기장은 이미터 음극과 가속 전극 사이에서 발생된다. 방출 플라스마에서 나온 전자는 가속되어있고, 집중 시스템(focusing system)의 자기장에 의해 집중되어진 빔의 형태로 그룹지어져 있다.전통적인 플라스마 전자총의 파라미터는 다음과 같다. - 가속 전압 : 30~50kV- 빔 전류 : 0.001~0.3A- 빔 직경 : 0.7~0.9mm- 작동 압력 : 10-3~10-5Torr.전자총 동력 래크는 높은 가속 전압과 방전 동력 공급원, 프로그램 된 제어 시스템, 빔 스캐닝을 위한 시스템이 포함된다. 전자총과 동력 공급 기계 생산에 대한 광범위한 경험이 축적되어있으며, 동 전자총은 러시아의 산업 분야에서 10년 이상 성공적으로 사용되고 있다. 본 기술의 플라즈마 전자총의 주요 특징은 높은 작동 압력에도 불구하고 그 수명이 기존의 제품에 비하여 길다는 것으로 이는 경제적 효과로 이어질 수 있다.

보유기관: 티알씨코리아
등록일: 2005-07-18

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플라즈마 표시소자 및 그 보호막 제조방법

종래 플라즈마 표시소자의 보호막은 MgO보호막으로 낮은 2차 전자 방출로 인한 높은 구동전압 때문에 소비전력이 높고, 전극간의 방전 때문에 발생하는 MgO보호막의 방전에 의해 보호막이 깎여 그 특성이 열화(劣化)되는 스퍼터링(sputtering) 현상으로 인하여 플라즈마 표시소자의 수명이 단축되는 문제점이 있었다. 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여, 일정간격을 유지하는 전면판 및 배면판과; 상기 배면판 위에 X-Y 매트릭상으로 배열되는 양극 및 음극과; 상기 양극 및 음극 위의 유전체와; 상기 유전체 위에 적층된 보호막과; 상기 전면판과 배면판 사이에 화소들간의 혼선을 방지하는 다수의 나란한 격벽과; 상기 보호막과 격벽 내부의 표면에 도포된 형광체 및 보조방전전극으로 구성되는 플라즈마 표시소자에 있어서, 상기 보호막이 플라즈마 중합막인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시소자를 제공한다.본 발명의 플라즈마 표시소자는 보호막인 플라즈마 중합막의 강한 막 특성과 높은 2차 전자 방출계수로 구동 소비전력이 낮고 수명이 긴 것이 특징이다.본 발명의 플라즈마 표시소자는 보호막으로 이용되는 플라즈마 중합막의 강한 막 특성과 높은 2차 전자방출계수로 플라즈마 표시소자의 구동 소비전력이 낮아 에너지를 절약할 수 있으며, 수명이 연장되므로 소자의 신뢰성을 높이는 효과가 있다. 또한 보호막을 플라즈마중합법에 의해 제조함으로써 손쉽게 일정한 막을 넓은 범위의 두께로 짧은 시간에 만들 수 있어 제조가 용이하고, 제조장치의 가격이 저렴하므로 싼 가격에 플라즈마 표시소자를 제작할 수 있어 가격 경쟁력을 향상시키는 효과가 있다.플라즈마 표시소자 특히, 보호막이 플라즈마 중합막으로 된 플라즈마 표시소자의 시장성은 크다고 볼수 있다.

보유기관: 인하대학교
등록일: 2006-05-22

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플라즈마 멸균기

본 기술은 플라즈마 발생기의 전원 전극과 멸균 대상물 사이에서 플라즈마가 발생되는 것을 방지할 수 있는 과산화수소 플라즈마 멸균 시스템에 관한 것으로, 트레이에 놓인 멸균 대상물이 수용되는 멸균 챔버; 멸균 챔버로 과산화수소를 공급하기 위한 과산화수소 공급기; 멸균 챔버 내의 기체를 배기하도록 멸균 챔버와 배기관을 통해 연통하는 진공 펌프; 및 멸균 챔버 내에 플라즈마를 발생시키기 위한 것으로서, 멸균 챔버의 외부에 제공되는 전원과, 멸균 챔버의 내부에서 트레이 상의 멸균 대상물을 둘러싸도록 챔버 벽과 대향하게 배치되고 전원과 연결되는 전원 전극과, 멸균 챔버의 벽이 접지됨으로써 이루어지는 제 1 접지 전극과, 트레이 상의 멸균 대상물을 둘러싸도록 전원 전극과 트레이 사이에 배치되어 트레이와 전기적으로 접속되는 동시에 접지되는 제 2 접지 전극을 가지는 플라즈마 발생기를 포함한다트레이에 놓인 멸균 대상물이 수용되는 멸균 챔버; 상기 멸균 챔버로 과산화수소를 공급하기 위한 과산화수소 공급기; 상기 멸균 챔버 내의 기체를 배기하도록 상기 멸균 챔버와 배기관을 통해 연통하는 진공 펌프; 및 상기 멸균 챔버 내에 플라즈마를 발생시키기 위한 것으로서, 상기 멸균 챔버의 외부에 제공되는 전원과, 상기 멸균 챔버의 내부에서 트레이 상의 멸균 대상물을 둘러싸도록 상기 챔버 벽과 대향하게 배치되고 상기 전원과 연결되는 전원 전극과, 상기 멸균 챔버의 벽이 접지됨으로써 이루어지는 제 1 접지 전극과, 상기 트레이 상의 멸균 대상물을 둘러싸도록 상기 전원 전극과 상기 트레이 사이에 배치되어 상기 트레이와 전기적으로 접속되는 동시에 접지되는 제 2 접지 전극을 가지는 플라즈마 발생기를 포함하는 과산화수소 플라즈마 멸균 시스템.

보유기관: 도원닷컴(주)
등록일: 2007-08-09

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플라즈마 디스플레이의 유지방전 회로

본 기술은 플라즈마 디스플레이의 플라즈마 방전을 유지시키는 신호를 인가하는 플라즈마 디스플레이(PDP)의 유지방전 회로에 있어서, 플라즈마 디스플레이(PDP) 패널과 접속되는 접속 단자부에 병렬로 접속되는 외부 캐패시터를 더 포함하여 구성되어, 방전전류를 감소시키고 방전지속시간을 증가시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이의 유지방전 회로에 관한 것이다.; 본 기술은 방전 특성상 발생되는 과도상태를 외부회로를 추가하여 최적화시킨 플라즈마 디스플레이의 유지방전 회로를 제공하는 이점이 있다.; 또한, 플라즈마 디스플레이가 높은 방전 효율을 유지하게 함으로써, 소비전력 과다에 의한 플라즈마 디스플레이의 기술개발 저해요소를 해소시키는 플라즈마 디스플레이의 유지방전 회로가 제공되는 이점이 있다.

보유기관: 부산대학교
등록일: 2008-12-31

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변형 플라즈마 토치

□ 기술개요본 플라즈마 토치는 플라즈마가 2차 코일의 역할을 해 주는 변압기이다. 이 플라즈마 코일은 교류 전압에 의해 공급된 1차 권선과 유도성 연결을 하고 있다. 본 변형 플라즈마 토치는 가스히터로, 또는 플라즈마-화학 반응기로 사용될 수 있다. 다용도 플라즈마-화학 반응(공기로부터 질소 산화물의 합성, 합성 가스를 천연 가스로 변환 등)이 플라즈마실과 플라즈마 토치로부터 방출되는 가스-플라즈마 제트에서 얻어질 수 있다. 기술 평가 및 경제성 본 플라즈마 토치의 주요 이점은 전극의 부재이며 이는 수명을 매우 길게 해 주고(수만 시간) 공격성 가스(산소, 불소, 염소 등)의 순수 저온 플라즈마 생산을 가능하게 해 준다. □ 응용분야화학 산업: 플라즈마-화학 처리과정을 사용하는 신기술의 개발(질소 산화물의 합성, 탄화 플루오르 화합물의 생산 등과 같은) 마이크로일렉트로닉스: 온도 제어 기능이 있고 공격성 가스에 적용 가능한 저압 플라즈마 화로의 개발 □ 개발 단계 10 Pa에서 2х105 Pa으 압력과 20 g/sec에 달하는 가스 유속에서 작동하는 10-kHz a.c. 전 류용 200 kW 실험 샘플"

보유기관: (재)송도테크노파크
등록일: 2009-02-20

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