일반기술
재료 > 박막 제조 기술 (B62, H64)
지금까지 사용하고 있는 비휘발성 기억소자는 소스와 드레인을 포함하고 있기 때문에 소자 공정과정이 복잡하고 비용이 높다. 이문제를 해결하기 위하여 소스와 드레인의 제조공정이 필요없는 새로운 고분자 박막 내에 자발 형성된 화합물 반도체 나노 입자들을 사용한 비휘발성 고분자 쌍안정성 기억 소자 제작 방법을 이 발명에서 제시하였다. 전자가 절연층을 투과하여 나노 입자에 포획되는 효과가 가능한 쌍안정성 소자와 나노 입자의 크기와 밀도의 제어하여 인가 전압에 따른 전자 포획 및 방출량을 조절할 수 있다. 본 발명이 제시하는 고분자 박막 내에 자발형성된 화합물 반도체 나노 입자들을 사용한 비휘발성 고분자 쌍안정성 기억 소자 제작 방법은 기존의 사용하는 기억소자에 비하여 소스나 드레인 제작 공정이 필요없기 때문에 고가의 장비를 필요로 하지 않고 제작 할 수 있는 간단한 방법이다. 이 발명은 가격이 저렴하고, 대면적, 유연성, 고밀도 및 전기적으로 정보를 전달 및 저장할 수 있는 새로운 기억 소자에 응용할 수 있다.본 발명은 나노 기억 소자에서 고분자 박막 안에 형성된 나노 입자의 크기 및 밀도를 조절하여 외부 전압의 크기를 변화함에 따라 기억소자의 필요한 최적의 쌍안정성 특성을 제어 할 수 있다. 절연성 고분자 안에 삽입된 반도체 나노 입자는 전기적으로나 화학적인 안정하기 때문에 장시간 사용할 수 있는 기억 소자로서 응용할 수 있으며, 소자 제작 및 공정 방법이 간단하여 저비용으로 기억소자를 제작하는 방법을 제시하고 있다. 고분자 내에 Cu2O같은 화합물 반도체 나노 입자를 형성하여 고가의 장비 없이도 간단한 공정과정과 고효율 특성을 갖는 차세대 비휘발성 고분자 쌍안정성 기억 소자 제작에 응용할 수 있으며 기존에 사용되고 있는 플래시 기억 소자의 대치가 가능하다. 국내외 시장성은 수천억불에 달할 것으로 추산된다.
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- 한양대학교
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- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 기타 재료
* 기존기술의 문제점기존에 유기발광소자효율을 증진시키는 방법으로 정공 수송 층에 불순물을 첨가하여 유기 발광 소자의 안정성 및 발광 효율을 향상하였으나 정공 수송 층에 존재하는 트랩으로 인하여 외부전계의 반대방향인 내부 전계를 만들고 유기 발광 소자의 전기적 특성을 저하시켜 구동 전압을 증가 시키는 문제점을 가지고 있다. * 원리 및 구성이러한 문제점을 해결하기 위하여 정공 수송 층내의 각 위치의 특성에 맞게 불순물의 양을 조절하여 계단형으로 불순물을 첨가한 새로운 고효율 유기발광소자 제작 방법을 본 발명에서 제시한다. ITO/정공 수송 층 경계부분은 효율적인 정공 주입을 위해 낮은 농도의 불순물을 첨가하고 정공 수송 층/발광층 경계 부분은 효율적인 전자-정공 재결합을 위해 높은 농도의 불순물을 첨가한다. 본 발명은 정공 수송 층에 불순물을 첨가하는 영역을 세분화함으로써 기존의 균일하게 불순물을 첨가한 유기발광 소자에 비하여 고효율, 장수명 및 저전력 유기발광소자의 제작방법을 제시한다.* 특징 및 장점본 기술에 따른 유기발광소자는, 첨가되는 불순물의 농도를 계단형으로 달리하여 적층되는 둘 이상의 영역으로 이루어지는 정공수송층을 채택하여 소자의 발광 효율을 높이고, 구동 전압을 낮추며 안정적인 색 발광을 가능하게 하므로 유용하게 사용될 수 있다. 본 기술은 종래의 정공 수송 층에 균일하게 불순물을 첨가하여 유기발광소자를 제작하는 방법과 다른 정공 수송층에 계단형으로 불순물을 첨가하여 새로운 소자를 제작하였다. 정공 수송 층의 각 위치에 불순물의 양을 달리 첨가하여 전기적 특성을 개선하여 고효율, 장수명 및 저전력에서 작동하는 새로운 유기발광소자의 제작방법을 제시한다.
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- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 박막 제조 기술 (B62, H64)
본 발명은 저에너지 원자력 힘 현미경(atomic force microscope, AFM)의 전자 조사 (electron radiation)를 이용하여 유기물 레지스트의 패턴닝 및 식각 단계를 통하여 금속 박막을 패턴닝 하는 것으로서, 더욱 상세하게는 탐침(-)과 기판(+) 사이의 인가된 전기장 (electron field)에서 전자가 유기물 레지스트에 조사 (radiation) 됨에 따라, 유기물 레지스트의 물성 변화 및 현상 (develop) 단계를 통한 유기물 레지스트가 패터닝 되고, 그 후 패터닝 된 유기물 레지스트를 바탕으로 금속 박막을 식각 하는 금속 박막의 패턴 제조에 관한 것이다. 본 발명은 낮은 에너지의 전자 조사 (electron exposure)를 통하여 패턴의 손상을 최소화 할 수 있으며, 또한 수 nm의 선폭의 유기물의 패터닝 및 금속 박막의 패터닝을 통하여 소자의 소형화와 고 집적화를 이룩할 수 있는 저에너지 원자력 힘 현미경 시스템을 이용한 유기물 및 금속 박막의 나노 미세 패턴 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 저 에너지를 사용한 원자력 힘 현미경 시스템을 이용하여, 반도체 공정에서의 리소그래피 단계에서 낮은 에너지를 이용하여 에너지 절약은 물론 수 nm 의 선폭을 가진 유기물 박막 패턴 뿐만 아니라, 이러한 나노 선폭의 유기물 레지스트를 바탕으로 건식 식각 및 리프트 오프 공정을 통하여 금속, 세라믹 등의 패터닝의 무기 패턴도 가능하며 반도체 소자와 초박막 패턴 응용분야에 활용될 수 있는 정보통신 분야에 응용될 수 있는 중요한 원천요소 기술이 될 수 있다.
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- 한양대학교
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- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 나노와이어·튜브기술
본 발명은 초음파 처리를 이용한 탄소나노튜브의 기판 위 수직 배열 방법에 관한 것으로서, 화학적 기능기로 개질된 탄소나노튜브를 자기조립막이 형성된 기판위에 전기영동법을 이용하여 강한 화학적 결합을 이루도록 침적시킨 뒤, 상기 기판에 초음파를 가해주는 초음파 처리 공정을 추가로 실시함으로써, 기판 위에 탄소나노튜브를 효과적으로 수직 배열할 수 있는 탄소나노튜브의 수직 배열 방법에 관한 것이다. 본 발명은 탄소나노튜브 분산용액에 따로 이온화합물을 첨가하지 않고 DC 전계를 이용하여 기판이 오염될 수 있는 소지를 방지하고, 탄소나노튜브를 침적시킨 후 초음파 처리 공정을 추가로 하여 탄소나노튜브의 수직 배열 효과를 증진시킨 점을 특징으로 한다.본 발명은 화학적 기능기로 개질된 탄소나노튜브를 특정 이온 화합물의 사용 없이 디메틸포름아미드에 분산시켜 자기조립막이 형성된 기판 위에 침적시키는 전기영동 침적 공정과, 탄소나노튜브가 침적된 기판에 초음파를 가해주는 초음파 처리 공정을 포함하여 이루어짐으로써, 이온 화합물에 의한 표면 오염문제를 해결할 수 있고, 기판 위에 탄소나노튜브를 효과적으로 수직 배열할 수 있는 탄소나노튜브의 수직 배열 방법을 제공한다. 본 발명에 의해 수직 배열된 탄소나노튜브는 차세대 디스플레이 소자인 전계 방출 디스플레이(FED)의 팁으로 사용하기 적합하고, 또한 백라이트와 같은 광원으로서 활용 가능성이 높으며, 3차원 구조를 가지는 전자소자의 집적화에도 큰 일조를 할 수 있을 것이다.
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- 한양대학교
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- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 분말 제조 기술
몰리브덴 산화물의 수소환원에 의한 몰리브덴 금속의 생산 방식에는 연속 장입식 수직 환원로, 연속 장입식 수평 환원로 및 유동층 환원로가 알려져 있으며, 본 발명은 배치 장입식 원통형 환원로와 이를 이용한 수소환원 방법에 관한 것이다. 특히 기존에 가장 널리 사용되고 있는 연속 장입식 수평 환원로의 경우, 설비의 길이에 따른 높은 투자비, 낮은 수소효율과 연속조업을 위한 온도 유지에 따른 높은 운전 비용이 단점이었다. 본 발명에 의한 배치식 원통형 수소환원로는 일정량의 몰리브덴 산화물을 장입한 후, 단계별 수소 환원반응에 필요한 온도와 수소분위기를 용이하게 조절할 수 있는 장치이다.본 발명의 장치 또는 방법을 사용할 경우에는 1 개의 배치 방식 수소 환원로를 이용하여 1차 수소환원 반응과 2차 수소환원 반응을 연속적으로 수행함으로써 기존의 방법에 비하여 몰리브덴 산화물의 수소환원에 필요한 수소 원단위의 절감 뿐 만 아니라 조업의 편리함을 가져올 수 있었으며, 몰리브덴 금속분말의 입도 및 형상 제어가 유리한 조업이 가능하였다. 본 발명의 장치 또는 방법에 의하여 몰리브덴 금속분말을 제조할 경우에는 크기가 일정하고 구형인 양호한 품질의 몰리브덴 금속분말을 얻을 수 있었다.
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- 한양대학교
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- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 기타 재료
본 발명은 보다 간단한 구조를 가지는 롤러블레이드에 관한 것이다. 본 발명에 의한 롤러블레이드는, 본 발명에 의한 롤러블레이드는, 사용자가 신기 위한 부츠(10)와; 상기 부츠의 하면에 부착되고, 전후방향에 대해서는 유연성을 가지고, 비틀림에 대하여 강성을 가지는 복합재료로 성형되는 부츠패드(40); 상기 부츠패드의 전방부분 및 후방부분에 각각 독립적으로 장착되는 전방프레임(22) 및 후방프레임(24); 그리고 상기 전방프레임 및 후방프레임에 각각 일렬로 설치되는 복수개의 롤러(30a,30b)를 포함하여 구성된다. 따라서 전방프레임과 후방프레임을 서로 연결하는 어떠한 연결구조를 포함하고 있지 않게 되어, 구성부품의 구조가 단순해지고, 조립공정도 더욱 간편해지기 때문에, 생산코스트의 저감과 생산성 향상을 동시에 달성할 수 있는 잇점을 기대할 수 있게 된다.사용자가 신기 위한 부츠와; 상기 부츠의 하면에 부착되고, 전후방향에 대해서는 유연성을 가지고, 비틀림에 대하여 강성을 가지는 복합재료로 성형되는 부츠패드; 상기 부츠패드의 전방부분 및 후방부분에 각각 독립적으로 장착되는 전방프레임 및 후방프레임; 그리고 상기 전방프레임 및 후방프레임에 각각 일렬로 설치되는 복수개의 롤러를 포함하고; 상기 부츠패드는, 일방향(Uni-Direction)성을 가지는 판상의 복합재료를 복수매 적층하되, 판상의 복합재료의 방향성을 교대로 동일하게 배치하고, 인접하는 판상의 복합재료의 방향성 어긋나게 겹치도록 적층하여 구성되는 것을 특징으로 하는 롤러블레이드
- 등록일
- 2006-06-12
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일반기술
재료 > 기타 재료 공정기술
본 발명은 밀링석출공정에 의한 압전 세라믹스의 제조방법에 관한 것으로, 미리 준비된 ZTO[(ZrxTi1-x)O3] 분말의 응집을 제거시키고, 질산납[Pb(NO3)2]의 수용액 상에서 액상혼합을 통한 미세하고 균질한 PZT[Pb(ZrxTi1-x)O3]분말의 합성을 위한 1차 단계인 밀링삼투공정과; 상기 밀링삼투공정에 질산납[Pb(NO3)2]과 침전제[(NH4)2C2O4] 수용액의 반응에 의하여 Pb2+ 이온의 석출을 유도하는 밀링석출공정과; 상기 밀링석출공정을 통하여 얻어진 압전세라믹스 분말로 침전잔여물[NH4NO3]을 제거하는 세척공정과; PZT 응집체를 분쇄하는 재밀링공정으로 구성함으로써, 기존의 습식 볼 밀링공정에 석출법을 적용하여 두 단계의 장점을 최대한 살려 고순도의 화합물을 아주 미세한 크기로 얻어냄으로써 저온에서의 소결과 서브미크론의 압전세라믹스를 제조할 수 있는 효과가 있다.미리 준비된 ZTO[(ZrxTi1-x)O 3 ] 분말의 응집을 제거시키고, 질산납[Pb(NO 3 ) 2 ]의 수용액 상에서 액상혼합을 통한 미세하고 균질한 PZT[Pb(ZrxTi1-x)O 3 ]분말의 합성을 위한 1차 단계인 밀링삼투공정과; 상기 밀링삼투공정을 진행한 결과물에, 침전제인 (NH 4 ) 2 C 2 O 4 수용액을 가하여, 상기 질산납[Pb(NO 3 ) 2 ]과 (NH 4 ) 2 C 2 O 4 를 반응시킴으로써, PbC 2 O 4 의 형태로 Pb 2+ 이온을 석출하는 밀링석출공정과; 상기 밀링석출공정을 통하여 얻어진 압전세라믹스 분말로 침전잔여물인 NH 4 NO 3 을 제거하는 세척공정과; PZT 응집체를 분쇄하는 재밀링공정을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 밀링석출공정에 의한 압전 세라믹스 제조방법. 상기 화학식에서 0.1 ≤x ≤0.9이다
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 기타 재료
본 발명은 공급되는 전류의 교류에 의한 전류방향과 영구자석의 자속방향에 따라 제1이동체를 좌우왕복시키도록 하는 자석분할배치형 선형진동장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 소정폭과 두께로 지지판의 일단에 부착된 비자성체의 지지프레임과, 상기 지지프레임의 일측면 상,하단에 결합되는 소정두께와 폭을 가지는 '一'형상의 제1,제2철심과, 상기 제1,제2철심으로부터 소정거리 이격된 지지프레임의 중앙에 결합되며, 제1,제2철심보다 비교적 폭이 넓게 형성된 '一'형상의 제3철심과, 상기 제1철심와 제2철심의 저부면과 상부면에 자력선의 방향이 상호 대향되도록 각각 한 쌍이 소정거리 이격되어 부착되는 제1영구자석과, 상기 제1영구자석으로부터 소정의 공극이 형성되도록 제3철심에 삽입되며, 제1,제2철심에 부착된 한 쌍의 영구자석과 대응배치 되도록 한 쌍의 'ㅁ'형 제1보빈을 직렬결합한 제1이동체와, 상기 제1이동체의 일측제1보빈과 타측제1보빈에 서로 반대방향으로 권선되어 일정한 방향으로 힘을 발생토록 하는 코일과, 상기 제1이동체의 양단 중 적어도 어느 하나에 부착되어 코일에 교류가 인가되면 전류의 방향에 따라 왕복동하도록 된 왕복로드와, 상기 제1,제2,제3철심의 개구부측 지지판에 기립부착되며 왕복로드가 삽입되어 왕복동할 수 있도록 안내하는 가이드공이 형성된 브라켓를 포함한다.따라서, 'E'자형 철심의 사용으로 인한 자기적 불평형에 대한 문제점을 해소하여 일정한 소변위 왕복운동을 이루도록 하며, 영구자석의 부피감소,철심재료의 감소등으로 원가를 절감시킴과 동시에 'ㅡ'자형 철심채택으로 제작을 용이하게 하여 제경비를 절감시키고, 제품의 경량화 및 소형화를 이룰 수 있도록 하는 자석분할배치형 선형진동장치를 제공한다소정폭과 두께로 지지판의 일단에 부착된 비자성체의 지지프레임과, 상기 지지프레임의 일측면 상,하단에 결합되는 소정두께와 폭을 가지는 '一'형상의 제1,제2철심과, 상기 제1,제2철심으로부터 소정거리 이격된 지지프레임의 중앙에 결합되며, 제1,제2철심보다 비교적 폭이 넓게 형성된 '一'형상의 제3철심과, 상기 제1철심와 제2철심의 저부면과 상부면에 자력선의 방향이 상호 대향되도록 각각 한 쌍이 소정거리 이격되어 부착되는 제1영구자석과, 상기 제1영구자석으로부터 소정의 공극이 형성되도록 제3철심에 삽입되며, 제1,제2철심에 부착된 한 쌍의 영구자석과 대응배치 되도록 한 쌍의 'ㅁ'형 제1보빈을 직렬결합한 제1이동체와, 상기 제1이동체의 일측제1보빈과 타측제1보빈에 서로 반대방향으로 권선되어 일정한 방향으로 힘을 발생토록 하는 코일과, 상기 제1이동체의 양단 중 적어도 어느 하나에 부착되어 코일에 교류가 인가되면 전류의 방향에 따라 왕복동하도록 된 왕복로드와, 상기 제1,제2,제3철심의 개구부측 지지판에 기립부착되며 왕복로드가 삽입되어 왕복동할 수 있도록 안내하는 가이드공이 형성된 브라켓를 포함하는 것을 특징으로 하는 자석분할배치형 선형진동장치.
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
본 고안은 직물등 원단의 표면에 부착되어 무늬의 입체감과 광반사성에 의하여 번쩍이는 효과를 발생케하는 스팽글에 관한 것으로 스팽글은 산화알미늄과 산화지르코늄 분말을 주성분으로 하는 세라믹 분말을 프레스로 가압 성형하여 열처리로에서 소결하여 완성하며 완성된 스팽글은 이면에 핫멜트 접착제층을 형성하고 전면에는 투명필름을 부착하여 고정한 다음 원단의 소정 위치에 안치시킨 후 가열기로 150℃ 정도 가열하면 이면의 접착제층이 용해되어 원단의 표면에 견고하게 부착하게 된다본 고안의 또 다른 목적은 스팽글의 표면 경도를 높여 마찰이나 세탁시에도 표면이 긁히거나 광반사성이 저하되지 않토록 하는데 있다.본 고안 세라믹을 주재로 한 스팽글은 금속성분을 사용함이 없고 세라믹에 의하여 원적외선의 방사나 전자파의 흡수 또는 수맥파의 차단과 음이온을 방출하는 부수적인 효과를 거둘 수 있으며 표면이 미려하고 광반사성이 높을 뿐 아니라 또한 경도가 지극히 높아 마찰 등에 의하여 표면이 손상되어 광반사성을 저하시키는일을 없게 하는 효과가 있다.
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 특수기능재료
액상으로부터 1000K/s 이하의 비교적 낮은 냉각속도로 유리천이온도 이하의 온도까지 냉각하였을 경우 비정질 형성능이 우수하여 벌크 비정질을 형성하고, 20K 이사으이 과냉각 액상영역을 포함하고 있어 낮은 온도영역에서 온간 가공성이 우수하며, 액상에서의 유동도가 매우 우수하여 주조성이 뛰어난 특성을 갖는 철계 다원소 비정질 합금조성물이 개시된다. 본 발명의 일 면에 따른 철계 다원소 비정질 합금조성물은 일반식 Fe C Si B P M로 표현되고, 상기 M은 티타늄,크롬,몰리브데늄,니오븀, 지르코늄, 탄탈륨, 텅스텐 또는 바나듐중 선태된 하나 이상의 원소이며 α, β, γ, x, y 및 a는 각각 철,탄소,시릴콘,붕소, 인 및 상기 선택된 금속원소의 원자%이다. 본 발명에 따른 철계 다원소 비정질 합금조성물은 응고시 낮은 임계냉각속도에서도 비정질상이 형성되는 우수한 비정질 형성능을 갖는다. 본 발명에 의하면 주조법 및 분말야금법에 의하여 판상, 봉상 또는 기타 형태의 벌크 비정질 소재나 분말상의 비정질 분말의 제조가 용이하다. 본발명이 소재들은 실온으로부터 승온하는 경우, 유리천이온도 이상에서 20내지 50K 이상의 매우 큰 과 냉각 액상영역이 존재하며, 이 과냉각 액상의 우수한 점성 유동성을 이용하여 특정 형태의 비정질 또는 나노구조 부품으로 경제적이며, 용이하게 성형할 수 있다. 이 비정질상을 함유하는 복합재료를 사용함으로써 결정질상과 비정질상의 특성이 적절히 융합된 우수한 특성의 부품소재의 제조가 가능하다.
- 보유기관
- 경북대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 특수기능재료
이 발명의 기술 개요로는 니켈기 비정질 합금조성물에 관한 것이다. 니켈기 벌크 비정질 합금은 우수한 비정질 형성능을 갖고 있어서 두께 1mm 혹은 그 이상의 크기로 주조법에 의하여 제조될 수 있다. 또한 50K 이상의 과냉각 액상 영역을 갖고 있어 과냉각 액상 영역의 온도에서 점성 유동을 이용한 고온 성형이 가능할 뿐 아니라 본 발명의 니켈기 벌크 비정질 합금은 높은 강도, 내마모성, 내부식성을 지니고 있기 때문에 고강도 내마모 부품, 구조용 재료, 용접 및 코팅 재료 등에 벌크 형태의 비정질 합금으로 제조되어 사용될 수 있다. 본 발명은 니켈기 비정질 합금조성물에 관한 것이다. 니켈기 벌크 비정질 합금은 우수한 비정질 형성능을 갖고 있어서 두께 1mm 혹은 그 이상의 크기로 주조법에 의하여 제조될 수 있다. 또한 50K 이상의 과냉각 액상 영역을 갖고 있어 과냉각 액상 영역의 온도에서 점성 유동을 이용한 고온 성형이 가능할 뿐 아니라 본 발명의 니켈기 벌크 비정질 합금은 높은 강도, 내마모성, 내부식성을 지니고 있기 때문에 고강도 내마모 부품, 구조용 재료, 용접 및 코팅 재료 등에 벌크 형태의 비정질 합금으로 제조되어 사용될 수 있다.
- 보유기관
- 경북대학교
- 등록일
- 2006-06-12
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일반기술
재료 > 기타 복합재료
* 기술개요본 기술은 화학적으로 유기화 처리된 판상 형태의 소량의 무기입자와 친수성기 및 이온기를 동시에 포함하는 공중합 개질 폴리에스테르계 수지를 상용화제로 사용하여, 매트릭스 수지인 폴리에스테르계 수지와 일정 비율로 이축압출기 내에서 무기 입자를 균일하게 용융 혼합시켜 수지내에서, 박리시킨 후 고상중합 하거나, 고상중합된 수지를 매트릭스로하여 무기입자를 수지내에 나노수준으로 박리시킨 폴리에스테르계 나노 복합재를 제조하는 방법에 관한 것이다.* 특징본 기술의 목적은 매트릭스 수지인 폴리에스테르 수지에 화학적으로 처리된 판상의 무기 첨가제를 용융혼합하거나 이를 다시 고상중합하여 수지내에 판상의 점토광물을 나노수준으로 박리시킴으로써 우수한 물성을 갖는 폴리에스테르 수지 복합재를 제조하는 방법을 제공하고자 하는 것이다.* 장점수지에 물성 향상 개념의 보강재로서 기존에는 구형 입자의 광물질이나 유리 섬유, 탄소 섬유를 사용하여 왔다. 그러나 이들은 제조 과정에서 그 함량이 10~50wt% 정도 많아야 요구하는 기계적 물성의 증대가 가능하며, 사용 후 재활용이 거의 불가능하여 환경적인 문제가 커지고 있다. 이에 반해 본 기술은 폴리에스테르 수지를 고성능 성형재료로 사용함에 있어 제조 방법이 기존의 거대 입자 첨가 방법이 아닌 분자 레벨수준의 미세 구조입자 개념을 도입하여 소량 첨가제를 사용하고, 재활용이 가능한 수지복합재의 제조 방법을 제공한다. * 적용가능분야 - nanoclay의 완전박리,분산을 가능케 함 - 특수 수지 상용하ㅗ제를 사용할 수 있음 - 고상중합 공정이고 재활용이 가능함 - 친환경적 공법임
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 박막 제조 기술 (B62, H64)
*원리 및 구성극자외선 노광 공정에 적용하기 위한 반사도가 우수한 반사형 다층 박막 미러의 제조 방법을 제시한다. 반사형 다층 박막 미러는 반도체 기판 상에 몰리브덴층과 실리콘층을 순차적으로 형성한 이중 구조를 40주기 반복하여 적층하여 형성하되, 적층 구조 최하위의 제1층, 제3층 및 제5층의 몰리브덴층 중 적어도 하나 이상의 몰리브덴층을 2.9~3.3㎚ 의 두께로 형성하며, 이때, 적층 구조의 제6층 이상의 몰리브덴층은 2.7~2.9㎚ 의 두께로 형성하고 상기 실리콘층은 3.9~4.1㎚ 의 두께로 형성한다. *중요성 및 독창성반사형 다층 박막 미러에 의하면 구조인자의 단순한 변경만으로 미러 제조를 위한 고가의 물질을 도입하지 않고도 고반사율의 극자외선용 다층 박막 미러를 제작할 수 있다는 점에서 중요성을 지닌다.*특징 및 장점자외선 노광용 반사형 미러로서 Mo/Si의 2층 구조로 이루어진 단위층을 다수 증착한 다층박막의 하부층 구조인자를 변화시킴으로서 비교적 손쉽게 극자외선 영역의 빛에 대해 고반사율을 갖는 다층박막 미러를 제작하였다. 기판 위에 Mo/Si의 2층 구조로 이루어진 단위층을 다수 증착한 다층박막으로 구성되며, 그 다층박막의 하부층의 구조인자를 변화시킴으로서 극자외선 영역의 빛에 대해 기존의 일정한 구조인자를 가지는 다층박막에 비해 고반사율을 갖는 것이 특징이다.*적용응용분야 및 시장성계속적인 기술 개발로 극자외선 노광공정은 차세대 노광공정으로 더욱 더 그 기대치가 커지고 있고, 실제 생산공정에서 2005년을 전후하여 차세대 노광공정의 도입이 예상된다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 전자기기능재료
*원리 및 구성본 발명은 티탄산바륨(BaTiO3)계 적층 세라믹 콘덴서(MLCCs:Multilayer Ceramic Capacitors)의 제조과정 중 발생되는 내부응력의 제어방법에 관한 것으로, 제조된 MLCCs를 압력 및 온도를 재차 부가하여 인장응력인 내부응력을 압축응력의 내부응력으로 전환시킴으로서 MLCCs의 수명과 신뢰성을 향상시킬 수 있다.*중요성 및 독창성본 기술에서 사용한 적층 세라믹 소자의 제조공정에 널리 확대되어 응용될 수 있으며, MLCCs의 시장성을 확대시킬 것으로 기대된다.*특징본 기술은 기존의 MLCCs 제조공정에서 흔히 나타나는 내부응력에의한 제품열화현상을 간단한 후처리 공정을 통하여 MLCCs 부품의 신뢰성 및 수명을 향상시킬 수 있는 것으로, 재료내 존재하는 응력형태를 적정조건의 압력 및 /또는 열을 가하여 전환시키는 기술이다.*적용응용분야 및 시장성내부응력 제어방법은 재료상수가 다른 이종물질들간의 적층으로 제조된 다양한 적층소재에 적용될 수 있으므로 에너지 산업, 환경산업, 자동차 산업, 의학산업 등에 다양하게 응용될 수 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 기타 재료
*원리 및 구성본 기술의 선택비 제어방법은, 질화물층에 대하여 산화물층을 선택적으로 연마하여 제거하기 위한 화학기계적 연마용 슬러리 조성물의 선택비 제어방법에 있어서, 상기 슬러리 조성물은 세리아 연마입자, 분산제 및 음이온성 첨가제를 포함하며, 상기 슬러리 조성물에서 상기 음이온성 첨가제의 농도를 변화시키면서 상기 질화물층에 대한 상기 산화물층의 연마속도의 선택비를 확인하는 단계; 및 상기 확인된 연마속도의 선택비를 기준으로 하여, 상기 슬러리 조성물의 원하는 선택비에 해당하도록 상기 음이온성 첨가제의 농도를 첨가함으로써 상기 슬러리 조성물의 선택비를 제어하는 단계를 포함한다.*특징 첨가제의 농도와 연마제의 크기에 대한 연마 제거 속도 의존성의 관계를 규명하여, 질화물층에 대한 산화물층의 제거속도 선택비를 임의로 제어할 수 있는 슬러리 조성물 선택비 제어방법으로 슬러리 조성물을 사용하여 반도체 소자의 표면을 평탕하하는 방법을 제공하는 특징을 지닌다.*장점본 기술에 의하면 세리아 슬러리에서 음이온성 첨가제를 일정한 제어된 범위내에서 첨가함으로써 질화물층에 대한 산화물층의 연마속도 선택비를 향상시킬 수 있으며, 첨가제의 농도를 변화시켜 슬러리 조성물의 연마속도 선택비를 원하는 바에 따라 제어할 수 있어서, 반도체 소자의 신뢰성이 향상된다는 장점이 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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일반기술
재료 > 열기능재료
*원리 및 구성본 기술은 상변이 물질을 함유하는 열 안전성이 우수한 마이크로캡슐의 제조방법 및 이에 의해 제조된 마이크로캡슐을 포함하는 제품에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 탄소수가 8내지 18인 알킬기 함유 단량체를 사용하여 마이크로캡슐을 제조하고 제조과정 중 또는 제조 후에 단량체가 중합되어 이 물질이 코아 및 상변이 물질로 작용하는 마이크로캡슐의 제조방법 및 상기 방법에 의해 제조된 마이크로캡슐을 포함하는 섬유, 고분자 수지 및 건축자재의 제품에 관한 것이다.*특징 및 장점본 기술에 따라 제조된 마이크로캡슐은 열안정성이 우수하고 견고하여 내부의 상변이 물질이 캡슐 밖으로 유츌되지 않는다. 따라서 우수한 축열 및 방열성을 가지고, 특히 섬유제품등에 적용시, 가공처리 및 반복 세탁에 의해서도 캡슐의 구조를 유지할 수 있고 입경이 충분히 작기 때문에 적용성이 우수하다.*적용제품 및 시장성섬유제품, 전자제품 또는 도료의 축방열용 고분자수지, 건축용 자재에 적용될 수 있다.사용되는 상변이 물질이 기존 상변이 물질보다 원가 증가가 별로 없지만 제조된 마이크로캡슐의 열안정성 그리고 축열 및 방열성이 우수하여 광할한 시장전경이 있다.기술과 공정상의 가능성이 충분하여 기업화 가능성이 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 기타 세라믹재료
*원리 및 구성본 기술에서는 티탄산바륨 입자의 표면에 첨가제가 균일하게 코팅되며, 공정시간을 단축할 수 있는 표면개질된 티탄산바륨 및 그 제조방법과 이를 이용한 적층 세라믹 콘덴서 제조용 슬러리 및 그 제조방법이 개시된다.본 기술의 티탄산바륨의 제조방법은, 용매에 티탄산바륨 분말, 첨가제, 안정화제 및 요소를 혼합하여 교반하는 단계,상기교반된 티탄산바륨을 포함하는 혼합물을 에이징하여 코어-셀(core-shell)구조를 갖는 표면개질된 티탄산바륨 현탁액을 형성하는 단계 및 상기 티탄산바륨 현탁액을 건조하는 단계를 포함한다.*특징 및 장점본 기술은 적층 세라믹 콘덴서의 원료혼합 시간 및 공정을 단순화시켰고, MLCCs 기본원료인 티탄산 바륨과 이종 원료를 첨가해 하나의 단일상으로 제조함으로써 원료합성 및 코팅기술의 발전을 가져왔으며, 표면개질된 BaTiO3를 사용하는 쉬트 제조공정을 새로이 확립하였다. *적용응용분야 및 시장성본 발명의 최종응용분야인 적층 세라믹 콘덴서의 제조공정에 적용되어 제품 특성의 향상을 가져올 수 있으며, 통상적인 MLCCs 제조공정에 필수적인 이종 첨가제와 BaTiO3의 혼합단계를 간소화시킴으로써 제조단가의 저감효과를 기대할 수 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 분말 제조 기술
*원리 및 구성본 기술에 따르면 전이금속이 도핑된 이산화티타늄 분말은 미세한 입자구조를 형성하여 비표면적이 크면서도, 전이금속이 도핑되어 가시광선대역 파장의 흡수가능한 우수한 광촉매효과를 나타낸다. *중요성 및 독창성저온침전균일법에 의한 이산화티타늄분말 형성공정 중 중간단계에서 준안정상태(meta-stable state)의 티타늄수산화물을 추출하여 전이금속과 혼합한 후에 기계적 합금화법에 의한 볼밀링공정을 적용함으로써, 미세한 침상구조의 입자는 물론, 전이금속의 도핑효과를 통해 가시광선에서도 작용이 가능한 전이금속(M)이 도핑된 이산화티타늄 분말(Ti1-xMxO2)을 제조할 수 있다는 독창성을 지닌다.*특징 본 기술은은 광촉매 재료인 TiO2 재조방법에 새로운 고상반응인 기계적합금화법을 적용하여 Fe가 도핑된 새로운 광촉매 제조개발에 관한 것으로, 기존에는 시도되지 않았던 중간상 물질의 수거와 기계적합금화법을 접목시킨 새로운 공정으로 광촉매 TiO2의 광효율 및 도핑효과를 도출하였다.*장점 및 시장성본 기술을 통해 얻어진 성과물들은 고효율의 태양전지 제조 시스템에 일차적으로 적용 가능할 뿐 아니라 광촉매를 활용한 오염물질 분해와 수질 및 대기 청정관련 산업에도 응용이 가능하다는 장점이 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 박막 제조 기술 (B62, H64)
*원리 및 구성본 기술은 전계 효과 하에서 급속 열처리를 통한 다결정 실리콘 박막 제조방법에 관한 것이다. 나노두께의 금속층이 선택적으로 증착된 비정질 실리콘 박막의 표면 양단에 전기장을 형성시키면서, 동시에 고온에서 단시간에 주기적 급속 열적 어닐링을 수행하여 결정화하는 일명 전계 유도 급속 열적 어닐링(FARTA) 방법으로 수행한다.*중요성 및 독창성종래의 다결정 실리콘 박막 제조방법에 비해 저온에서 나노 제어 기술을 통해 원하는 형태와 크기의 결정질 실리콘을 형성할 수 있고, 또한 공정 시간을 단축하며 박막 트랜지스터 소자에 응용 시 기존의 비정질 실리콘 및 금속을 이용한 다른 결정화 방법보다 높은 전계 효과와 이동도를 가지고 있어 빠른 응답속도와 고해상도의 구현이 가능하도록 한다.*특징 본 기술은 나노두께의 금속층이 선택적으로 증착된 비정질 실리콘 박막의 표면 양단에 전계를 인가하면서 급속열처리를 수행한다.*장점결정화가 전계(-)에서 (+)로 한쪽 방향으로 진행되므로 다결정 박막 트랜지스터 제작시 채널지역 불순물 오염을 줄일 수 있는 방법이며 또한 낮은 온도에서 짧은 시간안에 양질의 다결정 실리콘막을 얻을 수 있는 장점이 있다.*적용응용분야 및 시장성비정질 실리콘의 저온 결정화 기술은 비정질에 비해 특성이 우수한 결정질 실리콘을 형성하는 공정으로 평판 표시소자, 태양전지, 센서 등 21세기 여러 정보화 산업 분야에서 고성능 소자 형성을 위한 기술로 응용이 가능할 뿐 아니라 저온 다결정 TFT-LCD 시장 및 소형 평판표시소자 시장의 규모는 계속 증가추세에 있다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-22
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일반기술
재료 > 박막 제조 기술 (B62, H64)
*원리이 기술은 양자점 형성방법에 관한 것으로 1) 금속박막층을 기판 상에 증착 -> 2)상기 기판 상에 증착된 금속박막층 위에 절연체전구체를 코팅하여 형성 -> 3)상기 금속박막층 및 절연체전구체가 순차적으로 적층된 기판을 관상로에서 단계적으로 최고온도가 200℃ 내지 500℃가 되도록 열처리하여 금속산화물 양자점을 형성하는 기술이다. 특히 3)단계 이전에 금속박막층 및 절연체전구체가 순차적으로 적층된 기판을 80℃ 내지 150℃로 중간 열처리를 하며, 1) 단계이전에, 절연체전구체와 용매를 혼합한 용액을 상기 기판 상에 스핀 코팅 방법으로 증착한 후, 80℃ 내지 150℃로 제 2 중간 열처리를 한다.*기대효과이 기술은 금속산화물의 양자점의 크기, 밀도, 균질도를 간단히 제어할 수 있는 효과가 있으며 반도체 성질을 가진 금속산화물을 이용하여 반도체로서 이용 가능한 바, 피복 및 증착방법이 단순하여 대면적 및 다층구조를 가지는 반도체를 제조할 수 있는 효과도 있다. 또한 패턴이 형성된 금속박막층 위에 절연체전구체를 피복하여 원하는 부분에만 금속산화물 양자점을 형성할 수 있는 효과도 있다. *적용분야고속 광신호 처리소자, 차세대 광변조기, 광검출기, 광필터, 광분배기/혼합기 등의 수동 광 나노 소자 등에 응용 가능하다.
- 보유기관
- 한양대학교
- 등록일
- 2006-05-24
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