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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

고주파 유전체 제조 방법

Bsno2슬러리에 zr4-ti4의 수용액을,nh4oh를 사용하여 침전시키는 부분공침법으로 제조하는 공정과; 상기 제조된 분말을 700-1200 도에서 하소하는 공정과;하소하여 얻어진(zr1-x snx)tio4 분말에 소결조제로 zn(no3)을 2-4mole%첨가하는 공정고;제조된 분말을 성형한 후, 1100-1400도에서 소결하는 공정의 순서로 수행함을 특징으로 하는 고주파 유전체 제조 방법.SnO2슬러리에 Zr4-Ti4-의 수용액을,NH4OH를 사용하여 침전시키는 부분공침법으로 제조하는 공정과;상기 제조된 분말을 700~1200˚c에서 하는 공정과; 하소하여 얻어진(Zr1-x Snx)TiO4 분말에 소결조제로 Zn(N03)을 2~4mole% 첨가하는 공정과; 제조된 분말을 성형한후, 1100~1400 ˚c에서 소결하는 공정의 순서로 수행함을 특징으로 하는 고주파유전체 제조방법2.제1항에있어서, 상기 소결조제는 적어도 4%이하,특히 2~4 몰%의 Zn(NO3)을 포함한 무기염이 용액으로 사용됨을 특징으로 하는 고주파 유전체 제조방법3.제1항에있어서, 상기 소결시간은 4시간 이내인 것을 특징으로 하는 고주파 유전체 제조방법.

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 재료 > 기타 금속재료

비정질 자성 합금 박대의 절연 피막 형성 방법

알코올 용매 중에 금속 마그네슘 또는 유기 마그네슘 화합물이 용해된 제1용액을 제조하는 단계, 알코올 용매 중에 미량의 물이함유된 제2용액을 제조하는 단계, 상기 제1용액과 제2용액을 혼합하여 피막 형성용 피복 용액을 제조하는 단계; 상기 피복 용액을 비정질 자성 합물 박대의 표면에 피복시키는 단계; 피복된 비정질 자성 합금 박대를 건조시키는 단계; 및 건조된 피복 비정질자성 합물 박대를 열처리하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 비정질 자성 합금 박대의 절연용 산화물 피막형성방법.1. 제1알코올 용매 중에 금속 마그네슘 또는 유기 마그네슘 화합물이 용해된 제1용액을 제조하는 단계; 제2알코올 용매 중에 미량의 물이 함유된 제2용액을 제조하는 단계; 상기 제1용액과 제2용액을 혼합하여 피막 형성용 피복 용액을 제조하는 단계; 상기 피복 용액을 비정질 자성 합금 박대의 표면에 피복시키는 단계; 피복된 비정질 자성 합금 박대를 건조시키는 단계; 및 건조된 피복 비정질 자성 합금 박대를 열처리하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 비정질 자성 합금 박대의 절연용 산화물 피막 형성 방법.청구항 2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2알코올 용매가 메탄올, 에탄올, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, sec-부탄올 및 tert-부탄올 및 2-메톡시에탄올로 구성되는 군 중에서 선택된 것인 방법.청구항 3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 금속 마그네슘 또는 유기 마그네슘 화합물이 0.25몰 내지 0.5몰 농도 및 물이0.25몰 내지 0.5몰 농도로 함유되는 것인 방법.청구항 4. 제1항에 있어서, 절연 피막이 0.16㎛ 내지 1.25㎛의 두께를 갖는 것인 방법.도면

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한국과학기술연구원
등록일
2000-12-15
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일반기술 재료 > 기타 금속재료

비정질 자성 합금 박대의 유도 자기 이방성 형성 방법

산화물의 졸-겔 용액을 제조하는 단계, 졸-겔 용액을 철계 비정질 자성 합금 박대의 표면에 피복하는 단계, 피복된 철계 비정질 자성 합금 박대를 건조시키는 단계, 및 건조된 피복 철계 비정질 자성 합급 박대를 열처리하는 단계로 이루어지는 철계 비정질 자성 합금 박대에 유도 자기 이방성을 형성하는 방법이 제공된다. 산화물의 종류를 적절히 선택함으로써 유도 자기 이방성을 형성시키며, 따라서 직류 및 교류 자기적 성질을 크게 변화시킬 수 있다.1. MgO, Al2O3, SiO2, BaO, MgO·Al2O3, MgO·SiO2, CaO·Al2O3, BaO·Al2O3 및 SrO·Al2O3로 이루어진 군으로부터선택되는 금속 산화물의 졸-겔 용액을 제조하는 단계,상기 졸-겔 용액을 철계 비정질 자성 합금 박대의 표면에 피복하는 단계,상기 피복된 철계 비정질 자성 합금 박대를 건조시키는 단계, 및 상기 건조된 피복 철계 비정질 자성 합금 박대를 열처리하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 철계 비정질 자성 합금 박대에 유도 자기 이방성을 형성하는 방법. 2. 제1항에 있어서, MgO, Al2O3, SiO2,또는 BaO의 졸-겔 용액은 목적하는 금속 산화물에 대응하는 금속 알콕사이드의 알코올 용액을 제조하고, 이 용액을 물을 함유하거나 또는 함유하지 않는 알코올에 첨가해서 혼합시킴으로써 제조되는 것인 철계 비정질 자성 합금 박대에 유도 자기 이방성을 형성하는 방법.3. 제1항에 있어서, MgO·Al2O3, MgO·SiO2, CaO·Al2O3, BaO·Al2O3 또는 SrO·Al2O3의 졸-겔 용액은 목적하는 금속 산화물에 대응하는 2 종의 금속 알콕사이드를 각각 동일 알코올에 용해시켜 2종의 금속 알콕사이드의 알코올 용액을제조하고, 두 용액을 혼합하고, 이 혼합물을 물을 함유하거나 또는 함유하지 않는 알코올에 첨가해서 반응시킴으로써 제조되는 것인 철계 비정질 자성 합금 박대에 유도 자기 이방성을 형성하는 방법.

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 재료 > 기타 금속재료

TB-FE계거대자기변형박막및그의제조방법

조성식 TbxFeyBz (식중, x, y 및 z는 원자 %로서, 43.5 ≤ x ≤ 62.4, 37.3 ≤ y ≤ 56.5, 0 ≤ z ≤ 0.4 및 x + y + z = 100이다)로 표시되는 거대 자기변형 합금 박막 및 그의 제조 방법이 제공된다. 본 발명에 따른 자기변형 합금 박막은 낮은 자기장이 인가되는 경우에도 높은 자기변형치를 나타낸다.1. 하기 조성식으로 표시되는 거대 자기변형 합금의 박막.TbxFeyBz상기 식에서, x, y 및 z는 원자 %로서, 43.5 ≤ x ≤ 62.4, 37.3 ≤ y ≤ 56.5 및 0 ≤ z ≤ 0.4 (단, x + y + z = 100임)이다.2. 순철 또는 Fe-B 합금 타겟 위에 Tb 소편을 배치하거나 Tb-Fe 또는 Tb-Fe-B 합금 타겟을 사용하여 불활성분위기 하에서 스퍼터링하는 것을 이루어진, 제1항 기재의 Tb-Fe 또는 Tb-Fe-B 거대 자기변형 합금 박막의 제조 방법

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 화학공정 > 기타 화학공정

1,1-디플루오로에탄의 연속적 제조 방법

사염화주석 촉매하에 염화비닐을 무수 불화수소산과 부가반응하여 1-클로로-1-플루오로에탄을 제조시키고, 이것을 다시 무수 불화수소산과 치환 반응시켜 제품의 선택성을 높이는 냉매, 세정제 등에 유용한 1,1-디플루오로에탄을 제조하는 방법을 제공한다. [구성]사염화주석 촉매 1리터 당 염화비닐을 1시간에 0.3-1.5몰의 속도로, 무수 불화수소산은 염화비닐 1몰에 대해 2.9-5.0몰의 속도로 공급시키고, 두 반응물을 가열하여 기체 상태로 반응기(1)에 공급시키며, 0.4-2.0MPa의 압력과 섭씨 50-120도의 반응기 온도에서 연속적으로 액상 반응시키고, 반응 생성물인 기체를 응축기의 온도가 섭씨 20-40도에서 무수 불화수소산, 1-클로로-1-플루오로에탄, 1,1-디클로로에탄 등을 충전탑(7)의 하부에서 응축시켜 관(6)을 통해 반응기로 순환시키고, 염화수소산과 1,1-디플루오로에탄, 미반응 염화비닐을 관(9)을 통해 계 외로 배출시켜 1,1-디플루오로에탄을 얻는다.1. 사염화 주석 촉매를 무수불화수소산으로 불화시킨 후에, 이 촉매 1 리터당 염화비닐을 0.3~1.5 몰/hr의 속도로, 무수 불화수소산은 염화비닐 1몰에 대해 2~5몰의 속도로 공급하고, 0.4~2.0 MPa의 압력과 50~120℃의 반응기 온도,및 20~80℃의 반응기 충전탑의 응축기 온도에서 연속적으로 액상 반응시키는 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의제조방법.2. 제1항에 있어서, 염화비닐과 무수 불화수소산을 가열하여 기체상태로 한 후 이를 반응기 내의 촉매층으로공급하는 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.3. 제1항에 있어서, 반응온도가 70~100℃인 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.4. 제1항에 있어서, 반응압력이 0.7~1.2 MPa인 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.5. 제1항에 있어서, 반응기 충전탑의 응축기 온도가 20~40℃인 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.6. 제1항에 있어서, 사염화 주석 1리터당 염화비닐을 0.5~1.2 몰/hr의 속도로, 무수 불화수소산은 1.0~2.5 몰/hr의 속도로 공급하는 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법.7. 제1항에 있어서, 50~120℃의 반응기에서 사염화 주석에 무수 불화수소산을 기체 상태로, 무수 불화수소산대 사염화 주석의 몰비가 1 : 1.5~3.0이 되도록 공급하여, 사염화 주석 촉매를 불화시키는 것을 특징으로 하는 1,1-디플루오로에탄의 제조방법

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

역 세척이 가능한 정수 장치

필터(2)가 내장된 정수조(3)과 필터(2)에 의해 정수된 물을 저장하기 위한 저수조(4)를 포함하는 정수 장치에 있어서, 상기 정수장치는필터(2)의 내부와 연통 가능하게 설치되고 필터(2)를 역세척하기 위해 정수된 물의 일부를 저장하기 위한 역세척 수조(5)를 포함하고, 상기 정수조(3)은 수도원에 직접 연결되고 역세척시 역세척 수조(5)로부터 필터(2)를 역류한 역세척수를 배출하기위한 역세척수 배출구(12)를 구비한 것을 특징으로 하는 역세척 가능한 정수 장치.1. 필터(2)가 내장된 정수조(3)과 필터(2)에 위해 정수된 물을 저장하기 위한 저수조(4)를 포함하는 정수장치에 있어서, 상기 정수 장치는 필터(2)의 내부와 연통 가능하게 설치되고 필터(2)를 역세척하기 위해 정수된 물의 일부를저장하기 위한 역세척 수조(5)를 포함하고, 상기 정수조(3)은 수도원에 직접 연결되고 역세척시 역세척 수조(5)로부터 필터(2)를 역류한 역세척수를 배출하기 위한 역세척수 배출구(12)를 구비한 것을 특징으로 하는 역세척 가능한 정수 장치.2. 제1항에 있어서, 상기 역세척 수조(5)는 수도원에 직접 연결된 외부 하우징(18)과, 이 하우징(18) 내부에설치되고 필터(2)의 내부와 연통되는 고무 주머니(19)를 포함하는 것인 역세척 가능한 정수 장치.3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 필터(2)는 도관(15) 및 바이패스 도관(16)을 경유하여 역세척 수조(5)와연결되는 것인 역세척 가능한 정수 장치.4. 제3항에 있어서, 상기도관(15)는 필터(2)의 배출구(2a)와 저수조(4)의 유입구(4a) 사이에 설치되고, 상기바이패스 도관(16)은 상기 도관(15)로부터 바이패스되어 역세척 수조(5)의 고무 주머니(19)와 연결되며, 상기 도관(15)와바이패스 도관(16)은 절환 밸브(17)에 의하여 연결되는 것인 역세척 가능한 정수 장치

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 재료 > 기타 고분자재료

이형제 실리콘 수지와 그의 제조 방법

내산화성, 내부식성과 발수성이 우수하여 피막 보호제로 사용되며 또한 내열성과 이형성이 우수하여 이형제로 사용되는 실리콘 수지를 제공한다. <구성>일반식(I)의 가수분해가 가능한 관능기를 세개 가지고 있는 유기 실란에 일반식(II)의 가수분해가 가능한 관능기를 두개 가지고 있는 유기 실란과 일반식(III)의 비스실린 메탄올을 혼합하여 톨루엔 또는 톨루엔과 아세톤의 혼합 용매에서 가수분해한 후, 촉매로 디부틸틴디롤레이트로 보딩시켜 묻어나지 않는 피막을 형성하는 이형제 실리콘 수지를 제조한다. 일반식에서 R은 메틸 또는 페닐기이고, 염소 또는 메폭시기이고, R1,R2,R3는 각각 메틸, 수소 또는 염소기이고, R4는 염소 또는 수소기이다.1. 일반식(Ⅰ)과 (Ⅱ)의 유기실란에 일반식(Ⅲ)의 1,3-디실라부탄 계열의 화합물을 혼합하여 용매로 톨루엔과아세톤을 사용하여 가수분해한 후 촉매로 디부틸틴디로레이트를 사용하여 보딩시켜 얻은, 묻어나지 않는 피막을 형성하는이형제 실리콘 수지.R-Si(X)3일반식(Ⅰ)(일반식(Ⅰ)에서 R은 메틸 또는 페닐기 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(CH3)2Si(X)2일반식(Ⅱ)(일반식(Ⅱ)에서 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)일반식(Ⅲ)(일반식(Ⅲ)에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 메틸, 수소 또는 염소기를, R4는 염소 또는 수소기를, 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)2. 일반식(Ⅰ)과 (Ⅱ)의 유기실란에 일반식(Ⅲ)의 1,3-디실라부탄 계열의 화합물을 혼합한 다음 용매로 톨루엔과 아세톤을 사용하여 가수분해한 후 촉매로서 디부틸틴디로레이트를 사용하여 보딩시키는 것이 특징인 제1항의 실리콘수지의 제조방법.R-Si(X)3일반식(Ⅰ)(일반식(Ⅰ)에서 R은 메틸 또는 페닐기 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(CH3)2Si(X)2일반식(Ⅱ)(일반식(Ⅱ)에서 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(일반식(Ⅲ)에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 메틸, 수소 또는 염소기를, R4는 염소 또는 수소기를, 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)3. 제2항에 있어서, 실란 혼합물중 일반식(Ⅰ)의 화합물이 40-70%, 일반식(Ⅲ)의 화합물이 0.5-10%이며, 나머지가 일반식(Ⅱ)의 화합물인 것이 특징인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 용매가 톨루엔 30-40%, 아세톤 10-40%이며, 물을 가수분해 가능한 규소-염소 결합몰수의 3-10배로 사용하여 가수분해시키는 것이 특징인 제조방법.5. 제2항에 있어서, 촉매인 디부틸틴디로레이트를 틴의 무게로 수지무게의 0.001-0.1%로 사용하여 가수분해후얻은 수지용액을 보딩시키는 것이 특징인 제조방법.

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 화학 > 기타 무기화학

클로라알켄닐실란들과 그 제조 방법

유동층 반응조나 교반형 반응조에서 금속규소를 구리 촉매하에서 일반식(II)로 표시되는 클로로알켄과 염화수소 혹은 반응중에 분해하여 염화수소를 발생시키는 일반식(II)로 표시되는 알킬클로라이드의 혼합기체를 220도C-350도C의 반응온도에서 직접 반응시켜 일반식(I)로 표시되는 클로로알켄닐실란을 제조하는 것이다. <구성>일반식(II)로 표시되는 화합물과 일반식(III)로 표시되는 화합물의 혼합기체를 금속규소와 반응온도 250도C-350도C에서 반응시켜 일반식(I)의 화합물을 제조하되 R1은 수소, 메틸기, SiHCl2, SiCl3 또는 CH2SiCl3이고 R2는 수소 또는 염소이고 R3은 수소 또는 염소이고 R4는 수소 또는 메틸기 또는 클로로메틸기이며 R5는 수소 또는 탄소수가 1 내지 4인 저급알칼리 또는 CH2CH2Cl이다.1. 일반식(Ⅰ)과 (Ⅱ)의 유기실란에 일반식(Ⅲ)의 1,3-디실라부탄 계열의 화합물을 혼합하여 용매로 톨루엔과아세톤을 사용하여 가수분해한 후 촉매로 디부틸틴디로레이트를 사용하여 보딩시켜 얻은, 묻어나지 않는 피막을 형성하는이형제 실리콘 수지.R-Si(X)3일반식(Ⅰ)(일반식(Ⅰ)에서 R은 메틸 또는 페닐기 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(CH3)2Si(X)2일반식(Ⅱ)(일반식(Ⅱ)에서 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)일반식(Ⅲ)(일반식(Ⅲ)에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 메틸, 수소 또는 염소기를, R4는 염소 또는 수소기를, 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)2. 일반식(Ⅰ)과 (Ⅱ)의 유기실란에 일반식(Ⅲ)의 1,3-디실라부탄 계열의 화합물을 혼합한 다음 용매로 톨루엔과 아세톤을 사용하여 가수분해한 후 촉매로서 디부틸틴디로레이트를 사용하여 보딩시키는 것이 특징인 제1항의 실리콘수지의 제조방법.R-Si(X)3일반식(Ⅰ)(일반식(Ⅰ)에서 R은 메틸 또는 페닐기 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(CH3)2Si(X)2일반식(Ⅱ)(일반식(Ⅱ)에서 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)(일반식(Ⅲ)에서 R1, R2, R3는 각각 독립적으로 메틸, 수소 또는 염소기를, R4는 염소 또는 수소기를, 그리고 X는 염소 또는 메톡시기를 표시한다.)3. 제2항에 있어서, 실란 혼합물중 일반식(Ⅰ)의 화합물이 40-70%, 일반식(Ⅲ)의 화합물이 0.5-10%이며, 나머지가 일반식(Ⅱ)의 화합물인 것이 특징인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 용매가 톨루엔 30-40%, 아세톤 10-40%이며, 물을 가수분해 가능한 규소-염소 결합몰수의 3-10배로 사용하여 가수분해시키는 것이 특징인 제조방법.5. 제2항에 있어서, 촉매인 디부틸틴디로레이트를 틴의 무게로 수지무게의 0.001-0.1%로 사용하여 가수분해후얻은 수지용액을 보딩시키는 것이 특징인 제조방법.

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일반기술 전기·전자 > 기타 전자제품

음향 광학 변조기를 이용한 큐 스위치된 펄스형 고체 레이저에있어서의 레이저 출력 펄스 에너지 안정화 장치

본 발명은 큐 스위치된 펄스의 에너지를 펌핑 에너지의 시간적 변화에 관계 없이 균일하게 안정화시키기 위해서 큐 스위치된 펄스의 반복율이 펌핑 에너지의 세기 변화에 따라 자동으로 조절되는 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 장치는 고체 레이저에서 레이저 펌핑원으로 사용되는 플래쉬 램프에서 방출되는 빛의 세기가 펌핑 에너지의 세기에 비례하는 특성을 이용하여 큐 스위치된 펄스의 반복율을 자동으로 조절하는 것으로서, 레이저 활성 매질(active medium)이 플래쉬 램프에 의해 여기되는 동안 플래쉬 램프에서 방출되는 빛의 세기에 따라 큐 스위치된 펄스의 반복율을 변하게 하여 펌핑 에너지를 일정하게 하는 것을 특징으로 한다.1. 음향 광학 변조기를 이용하며, 큐 스위치(Q-switch) 및 상기 큐 스위치를 구동시키기 위한 큐 스위치 구동기를 포함하는 상기 큐 스위치에 의해 큐 스위치된 펄스형 고체 레이저 발진기에서, 출력 펄스의 에너지를 안정화시키기위한 장치에 있어서,상기 고체 레이저의 레이저 펌핑원으로 사용되는 플래쉬 램프와,상기 플래쉬 램프로부터 방출되는 광량을 검지하여 검지된 광량에 대응하는 전압을 발생시키기 위한 광 검지부와,상기 광 검지부로부터의 전압에 따라 결정되는 주파수를 갖는 펄스를 출력하는 전압 제어 발진부와,상기 전압 제어 발진부로부터 출력되는 펄스의 폭을 상기 큐 스위치 구동기의 입력 신호 요구 조건에 맞도록 조절하는 펄스폭 조절부로 이루어지며, 상기 조절된 출력 펄스를 상기 큐 스위치 구동기로 공급하는 것을 특징으로 하는 레이저 출력 펄스 에너지 안정화 장치.2. 제1항에 있어서, 상기 펄스폭 조절부는 상기 출력 펄스의 반복율을 조절하여 큐 스위치된 레이저 펄스열 각각의 에너지를 균일하게 하기위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 출력 펄스 에너지 안정화 장치.

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 환경 > 기타 환경오염제어·관리 기술

순수 배양된 주그뢰 아라미제라 및 그에 의해 생산된 생물 고분자 또는 주그뢰 아라미제라 배양액을 주입한 활성 슬러지법에 의한 폐수 처리 효율 증대법

A활성 슬러지법에 의한 폐수 처리법에 있어서, 순수 배양된 주그뢰아 라미제라 및 이 미생물이 생산한 생물 고분자 또는 주그뢰아 을 활성 슬러지폭기조 또는 활성 슬러지 침전조에 외부로부터주입하는 것을 특징으로 하는 폐수 처리 효율 증대법.1.활성 슬러지법에 의한 폐수처리법에 있어서, 순수 배양된 주그뢰아 라미네라 및 이 미생물이 생산한 생물 고분자 또는 주그뢰아 라미제라 배양액을 활성 슬러지폭기조 또는 활성 슬러지 침전조에 외부로부터 주입하는 것을 특징으로 하는 폐수 처리 효율 증대법.

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한국과학기술연구원
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2000-12-15
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일반기술 환경 > 기타 사전오염예방·청정요소 기술

분말형 제올라이트의 생물학적 처리조 내에서의 연속 순환/재생에 의한 폐수의 생물학적 처리 방법

혐기조 또는 무산소조, 호기조 및 침전조의 순서로 구성되는 일련의 생물학적 처리조 내에 분말형 제올라이트를 일정량 투입한 후, 하수 및 폐수의 흐름에 따라, 이들 분말형 제올라이트 및 슬러지가 각각의 반응조를 거치면서, 생물학적 COD 저감, 중금속 흡착, 탈질, 탈인을 수행하게 하고, 계속해서 분말형 제올라이트는 슬러지와 함께 반송되어 각각의 반응조에서 자연적으로 재생되는 경제적인 생물학적 하수 및 폐수 처리 방법으로써, 외부에 추가적인 제올라이트 재생장치의 설치 및 부가적인 생물학적 처리장치의 도입없이 효과적으로 하수 및 폐수를 처리할 수 있는 매우 경제적이며, 효과적인 하수 및 폐수 처리방법이 제공된다.1. 하수 및 폐수의 원수 또는 1차 물리화학적 처리를 거친 하수 및 폐수 원수를, 일정량의 분말형 제올라이트를 투입한 혐기조 또는 무산소조, 호기조 및 침전조, 또는 필요시 혐기조 또는 무산소조, 호기조 이후에 연속적인 2차 혐기조 또는 무산소조, 2차 호기조를 포함하는 반응조에 유입시켜, 분말형 제올라이트를 일정량 투입하고, 혐기조 또는 무산소조에서 분말형 제올라이트에 의해 암모니아성 질소, 중금속 등이 흡착되도록 하며, 호기조에서 질산화균에 의해 암모니아를 질산성 질소나 아질산성 질소로 변환시키고, 변환된 질산성 질소나 아질산성 질소를 함유한 분말형 제올라이트 및호기조 내의 폐수 중 일부는 혐기조 또는 무산소조로 다시 반송시켜 탈질균에 의해 질산성 질소나 아질산성 질소를 질소분자로 환원시켜 제거하고, 질소분자가 제거된 분말형 제올라이트는 혐기조 또는 무산소조로 유입된 원수 또는 호기조를거쳐 들어오는 반송수 내에 존재하는 암모니아성 질소를 다시 흡착하여 상기의 질소 제거 과정이 연속적으로 반복하며,호기조에서 중금속을 흡착한 제올라이트 및 과잉의 인을 섭취한 미생물은 침전조로부터 제거하므로써 중금속과 인을 제거하는 것으로 이루어지는 생물학적 폐수처리 방법.2. 제1항에 있어서, 상기 분말형 제올라이트가 MO·AlxOy·mSiO2·nH2O (여기서, M은 알칼리토금속이다)로 표시되는 함수 알루미늄을 주성분으로 하는 천연 제올라이트임을 특징으로 하는 방법.3. 제2항에 있어서, 분말형 제올라이

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두다리 실리콘 결합제인 비스 실릴 알칸들과 그 제조 방법

플라스틱과 같은 유기물과 충진제로 사용되는 무기물 사이를 결합시키는 물질로 유용한 유기규소화합물인 여러가지 유기기가 치환된 비스실릴알칸들과 그 제조 방법을 제공하는 것이다. <구성>일반식(I)의 비스실릴알칸과 그리고 일반식(II)의 탄소와 탄소의 이중결합을 가진 유기화합물 또는 시클로헥센을 염화백금산, 실리카에 입힌 백금, 트리부틸아민, 기타 Pd, Ph, Ni등의 화합물을 촉매로 사용하여 수소 규소화반응으로 부가시켜 일반식(III)의 유기규소 화합물을 제조함에 있어 n은 1-4까지의 정수를 나타내여, R1은 수소, 페닐기를 나타내며, X는 염소, 알콕시(OR2:R2는 탄소수 1-4의 알킬기)기로 구성한다. <효과>플라스틱의 복합재료 제조에 널리 쓰이는 중요한 물질로서 물리적 성질이 서로 다른 무기물 충진제와 유기물인 플라스틱을 잘 융화시켜 결합력을 증진 시킨다.1. 일반식(Ⅲ)의 비스실릴알칸일반식(III)단, n은 1-4까지의 정수를 나타내며, R1은 수소, 페닐기를 나타내며, X는 염소, 알콕시(OR2 ; R2는 탄소수 1-4의 알킬기)기를 표시하며 R3는 -페닐, -CH2C1, -(CH2)nCH3 (n=0-16), -Si(CH3) -시클로헥세닐기를 표시하며 -CH2CH2R3로서 다같이 고리를 형성할때 -CH2CH2R3가 시클로헥실기이다.2. 일반식(Ⅰ)의 비스실릴알칸과 일반식(II)의 탄소와 탄소의 이중결합을 가진 유기화합물 또는 시클로헥센을촉매하에 수소규소와 반응으로 부가시켜 얻어지는 제1항의 일반식(Ⅲ)의 비스실릴알칸을 제조하는 방법.일반식(Ⅰ)단, n은 1-4까지의 정수를 나타내며, R1은 수소, 페닐기를 나타내며, X는 염소, 알콕시(OR2 ; R2는 탄소수 1-4의 알킬기)기를 표시한다.CH2 = CH-R3일반식 (Ⅱ)3. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물에 일반식(II)의 화합물을 수소규소화 반응으로 부가시킬때 촉매로염화백금산, 실리카에 입힌 백금, 알루미나에 입힌 백금, 탄소에 입힌 백금, 백금 블랙, 로디움블랙, 팔라디움 블랙, 루테니움 블랙, 니켈 , 트리부틸아민, 3-클로로퍼옥시벤조산등의 화합물들 중에서 최소한 하나의 화합물을 촉매로 사용하는것이 특징인 제조방법

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세 다리 실리콘 결합제인 트리스실릴알칸들과 그 제조 방법

플라스틱과 같은 유기물과 충진제로 사용되는 무기물 사이를 결합시키는 물질로 유용한 새로운 유기규소 화합물인 여러가지 유기기가 치환된 트리스실릴알칸들과 그 제조방법을 제공하는 것이다. <구성>일반식(I), (II)의 트리스실릴알칸들과 탄소와 탄소의 이중결합을 가진 유기화합물 또는 고리안에 불포화기를 갖는 사이클로헥선을 염화백금산, 실리카에 입힌 백금, 트리부틸아민, 기타 Pd, Rh, Ni 등의 화합물과 같은 촉매를 사용하여 수소규소화반응으로 부가시키는 것으로 됨을 특징으로 하여 일반식(III), (IV)의 유기규소화합물의 제조하는데 있어 X는 C1, OR1(R1은 C1-C4의 알킬기)OAC를 표시하고 수소규소화반응시 염화백금산, 실리카에 입힌 백금, 트리부틸아민, 기타 Pd, Rh, Ni등의 화합물들중에서 선택된 최소한 하나의 화합물을 촉매로 사용하여 구성한다. <효과>플라스틱의 복합재료 제조에 널리 쓰이는 중요한 물질로서 물리적 성질이 서로 다른 무기물 충전제와 플라스틱을 잘 융화시켜 결합력을 증진시킨다.1. 다음 일반식(I), (II), (III), (IV), (V), (VI), (VII), 및 (VIII)을 트리스실릴알칸들.단, 상기 일반식 (I), (II), (III), (IV), (V), (VI), (VII), 및 (VIII)에서 X는 Cl, OR1(R1은 C1-C4의 알킬기), OAc로 표시한다.2. 일반식(I), (II), (III), (IV), (V), (VI), (VII), 및 (VIII)의 트리스실릴알칸들과 일반식(IX)의 탄소와탄소의 이중결합을 가진 유기화합물 또는 고리안에 불포화기를 갖는 사이클로핵선을 염화백금산, 실리카에 입힌 백금, 트리부틸아민, 기타 Pd, Rh, Ni등의 화합물과 같은 촉매를 사용하여 수소규소화반응으로 부가시키는 것으로 됨을 특징으로하는 일반식(X), (XI), (XII), (XIII), (XIV), (XV), (XVI), 및 (XVII)의 유기규소화합물의 제조방법.단, 상기 일반식 (I), (II), (III), (IV), (V), (VI), (VII), 및 (VIII)에서 X는 Cl, OR1(R1은 C1-C4의 알킬기), OAc를 표시한다.CH2=CH-R2 (IX)단, R2=Ph, CH2Cl, CnH2nCH3(n=0-15), Si(Me)mCl3-m(m=0-3), CF3, CN, CH2CN,3. 제2항에 있어서, 수소규소화반응시 염화백금산, 실리카에 입힌 백금, 트리부틸아민, 기타 Pd, Rh, Ni등의화합물들 중에서 선택된 최소한 하나의 화합물을 촉매로 사용하는 방법

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유황을 함유하는 실란 결합제 및 그것의 제조방법

일반식(I)로 표시되는 유황을 함유하는 유기실란 결합제와 그의 제조방법으로 플라스틱 또는 고무와 충진제와의 친화력을 높이고 보강성을 증진하기 위하여 두 물질 사이를 화학적으로 결합시켜 보호용피막, 금속의 유연제, 충진제의 표면처리 등에 이용된다. [구성] 일반식(II)화합물과 일반식(III)화합물을 알코올 용액에서 섭씨 20-150도로 반응시키며 메탄올 또는 에탄올과 같은 저급알코올을 사용할 경우 알코올의 끓는점에서 환류시켜 제조하는 일반식(I)의 화합물로, 일반식에서 R1은 (RO)3Si, R2는 H, (RO)3Si 또는 (RO)2MeSi이고, R은 탄소수가 1-4인 알킬기이고, n은 2 또는 4이며, 이 결합제는 원액을 충진제와 섞어 다른 고무 고분자 배치에 첨가하며, 무기충진제 무게의 0.1-20%를 사용한다.1. 일반식(I)로 표시되는 유기실란;상기식에서 R1은 (RO)3Si, R2는 H, (RO)3Si 또는 (RO)2MeSi이고, R은 탄소수가 1~4인 알킬기이고, n은 2 또는 4이다.2. 일반식(II) 화합물과 일반식(III) 화합물을 알코올 용액에서 20℃ 내지 150℃ 범위에서 반응시키는 것으로이루어지는 일반식(I) 화합물의 제조방법;상기식에서 R1은 (RO)3Si, R2는 H, (RO)3Si 또는 (RO)2MeSi이고, R은 탄소수가 1~4인 알킬기, Y는 알칼리족 원소, n은 2 또는 4이다.3. 제2항에 있어서, 상기 알코올이 일반식(II) 화합물의 R과 같은 수의 탄소를 갖는 알코올인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 반응이 용매의 끓는 온도에서 수행되는 제조방법

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멀켑토기를 함유하는 유기 실란 및 그것의 제조 방법

일반식로 표시되는 유기실란: R1-R2-OR-Si-OR-(CH2)3SH 상기식에서, R1은 (RO)3Si이고, R2는 H,(RO)3Si 또는 (RO)2MeSi이고, R은탄소수가 1-4인 알킬기를 나타낸다.1. 일반식(Ⅰ)로 표시되는 유기실란 :상기식에서, R1은 (RO)3Si이고, R2는 H, (RO)3Si 또는 (RO)2MeSi이고, R은 탄소수가 1-4인 알킬기를 나타낸다.2. 일반식(Ⅱ) 화합물과 이텔렌디아민-황화수소 착물을 저급 알코올 용매에서 20℃ 내지 150℃에서 반응시키는 것으로 이루어지는 제1항의 일반식(Ⅰ) 화합물의 제조방법.상기식에서, R1은 (RO)3Si이고, R2는 H, (RO)3Si 또는 (RO)2MeSi이고, R은 탄소수가 1-4인 알킬기를 나타낸다.3. 제2항에 있어서, 상기 저급 알코올이 일반식(Ⅱ) 화합물과 R과 같은 수의 탄소를 갖는 알코올인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 상기 반응이 상기 저급 알코올의 끓는 온도에서 수행되는 제조방법

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유기 실란기 함유 4급 암모늄염 및 그의 제조방법

합성방법이 간단하며, 분자당 섬유류의 표면과 결합할 수 있는 실란기를 두 개 또는 세 개 제공함으로써 표면과 화학적 결합을 강력히 하도록 하여 살균효과를 우수하게 하는 유기실란기를 함유하는 4급 암모늄염이다. [구성]일반식(II)의 화합물과 디메틸옥타데실아민을 알코올 용매에서 섭씨20-150도로 반응시켜 일반식(I)의 유기 실란기 함유 4급 암모늄염을 제조하며, 알코올 용매는 일반식(II)의 화합물의 R기와 동일한 탄소를 가진 알코올이며, 저급알코올을 사용시 가압반응기를 사용하고, 일반식(I)에서 R1은 (RO)3Si 또는 [(MeO)3Si]CH이며, R2는 H 또는 (RO)3이고, R은 탄소수가 1-4개인 알킬기이다.1. 다음 일반식(Ⅰ)으로 표시되는 유기 실란기 함유 4급 암모늄염:상기식에서 R1은 (RO)3Si 또는 (MeO)3SiCH2[(MeO)3Si]CH이고, R2는 H 또는 (RO)3Si이며, Me는 메틸기이고, R은 탄소수가 1-4개인 알킬기를 나타낸다.2. 다음 일반식(Ⅱ)의 화합물과 N,N-디메틸옥타데실아민을 알코올 용매에서 반응시키는 것으로 이루어진 제1항의 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법:상기식에서 R1은 (RO)3Si 또는 (MeO)3SiCH2[(MeO)3Si]CH이고, R2는 H 또는 (RO)3Si이며, R은 탄소수가 1-4개인 알킬기를나타낸다.3. 제2항에 있어서, 상기 알코올 용매에서 알코올이 일반식(Ⅱ)의 화합물의 R기와 동일한 탄소수를 가진 알코올인 것이 특징인 제조방법.4. 제2항에 있어서, 반응 온도가 20 내지 150℃인 것이 특징인 제조방법.5. 제1항의 유기 실란기 함유 4급 암모늄염으로 이루어진 섬유용 살균제

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다실릴 알킬화 벤젠 유도체 및 그의 제조 방법

다실릴알킬화 벤젠 유도체: 상기식에 서, R1은 수소, 메틸, 에틸, 노말프로필, 또는 노말부틸기를 나 타내고, R2는 수소 또는 메틸기를 나타내며, R]'은 메틸 또는 클로로기이고, N은 3-6의 정수이다.1.다음 일반식(III)의 다실릴알킬화 벤젠 유도체;상기식에서 R1은 수소,메틸,에틸,노말프로필,또는 노말부틸기를 나타내고, R2는 수소 또는 메칠기를 나타내며, R'은 메틸 또는 클로로기이고,n은 3-6의 정수이다.2. 알루미늄클로라이드 촉매하에 다음 일반식(I)의 벤젠 유도체와 일반식(II)의 비닐클로로실란을 프리델-크라프트 반응시키는 것으로 이루어진 제 1항의 일반식(III)의 다실릴알킬화 벤젠 유도체의 제조방법;상기식에서 R1은 수소,메틸,에틸,노말프로필, 또는 노Ζ엽綬나타내고, R2는 수소 또는 메틸기를 나타내며, R'은 메틸 또는 클로로기를 나타낸다.3.제2항에있어서, 일반식(II)의 비닐클로로실란의 양이 일반식(I)의 벤젠 유도체에 대하여 몰비로 4-10배인 것이 특징인 제조방법.4.제2항에있어서, 반응 온도가 25-80˚c인것이 특징인 제조방법.5.제2항에있어서, 알루미늄클로라이드를 벤젠유도체에 대하여 1-20몰퍼센트의 양으로 사용하는 것이 특징인 제조방법

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일반기술 보건·의료 > 원료의약 대량제조 기술

[(아릴)이소옥소졸릴]메틸렌-아자비시클로 화합물 및 이의 제조방법

카르보닐 화합물을 용매와 염기 존재하에 포스포늄염 화합물이나 또는 일반식 (IV)로 표시되는 포스포네이트 화합물과 반응시켜 새로운 일반식 (I)로 표시되는 [(아릴)이소옥소졸릴]메틸렌-아자비시클로 화합물을 제조하는 것으로, 본 발명 화합물은 무스카린성 아세틸콜린 수용체에 높은 결합 친화도를 나타내므로 알쯔하이머씨 병 등의 뇌신경 질환 치료제로 유용하다. 상기 식들에서, R은 각각 수소, 할로, 알콕시, 시아노, 알킬, 알케닐, 알키닐, 히드록시, 아미노, 니트로, 4-메톡시벤질옥시, 3급-부톡시카르보닐아미노 또는 약제학적으로 가능한 염을, R1,R2 및 RR는 각각 알킬, 아릴 또는 아랄킬을, X는 할로겐 원자를 각각 표시하며, n은 1 또는 2의 정수이다.일반식(I)로 표시되는 [(아릴)이소옥소졸릴]메틸렌-아자비시클로 화합물 및 약제약적으로 허용되는 그의염.일반식(I)에 있어서, n은 1 또는 2의 정수이며, R은 수소, 플루오로, 클로로, 메톡시, 디메톡시, 시아노, 탄소수 1 ∼ 6개의 알킬, 탄소수 2 ∼ 6개의 알케닐, 탄소수 2 - 6개의 알키닐, 탄소수 3 ∼ 7개의 시클로알킬, 히드록시, 디히드록시,아미노, 니트로, 4-메톡시벤질옥시, 3급-부톡시카르보닐아미노 또는 약제학적으로 가능한 염을 이루는 염산, 브롬산, 황산, 인산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 푸마르산, 말레산, 시트르산, 락트산, 옥살산을 표시한다.청구항 2. 제 1 항에 있어서, 일반식 (I)의 [(아릴)이소옥소졸릴]메틸렌-아자비시클로 화합물이 (Z)-3-[3-(4-메틸페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(4-메틸페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-(3-페닐이소옥사졸-5-일)메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2] 옥탄 및이의 옥살산 염, (E)-3-(3-페닐이소옥사졸-5-일)메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(4-메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-플루오로페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(4-플루오로페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-클로로페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-[3-(4-클로로페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(3,4-디메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(3,4-디메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-시아노페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(4-시아노페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(2,4-디메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(2,4-디메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아잡시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-{3-[3,4-비스(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-{3-[3,4-비스(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-t-부톡시카르보닐아미노페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(4-t-부톡시카르보닐아미노페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)- 3- {3 -[4-(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-{3-[4-(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1]헵탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-4-메톡시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1] 헵탄 및 이의 옥살산 염,(Z)-3-{3-[3,4-비스(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1]헵탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-{3-[3,4-비스(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1]헵탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-t-부톡시카르보닐아미노페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1]헵탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-[3-(4-t-부톡시카르보닐아미노페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1]헵탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-{3-[4-(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1]헵탄 및 이의 옥살산 염, (E)-3-{3-[4-(4-메톡시벤질옥시)페닐]이소옥사졸-5-일}메틸렌-1-아자비시클로[2.2.1]헵탄 및 이의 옥살산 염, (Z)-3-[3-(4-히드록시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 트리플루오로아세트산 염, (E)-3-[3-(4-히드록시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 트리플루오로아세트산 염, (Z)-3-[3-(3,4-디히드록시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 트리플루오로아세트산 염, (E)-3-[3-(3,4-디히드록시페닐)이소옥사졸-5-일]메틸렌-1-아자비시클로[2.2.2]옥탄 및 이의 트리플루오로아세트산 염, (Z)-3-[3-(4-아미노페닐)이

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일반기술 재료 > 기타 세라믹재료

자기 헤드용 접합 유리 조성물

VTR 자기헤드용 접합유리에서 요구되는 제반특성을 동시에 모두 만족시킬 수 있는 새로운 접합유리 조성을 제공하는데 목적이 있다. <구성>무게 %로 47<=PbO<=57, 24<=SiO2<=32 5<=B2O3<=9, 4<=ZnO<=8, 0열팽창 계수 차이에 따른 유리균열이나 출력저하 화학적 반응에 의한 유효 트랙폭 감소로 생기는 출력저하, 기포생성으로 인한 제반 문제, 내화학성, 내마모성 저하에 따른 제반문제등이 제거된 신뢰성이 높은 고품위 자기헤드의 제작이 가능하다.청구항 1. 무게 %로 47≤PbO≤57, 24≤SiO2≤32, 5≤B2O3≤9, 4≤ZnO≤8, O<Na2O+K2O≤9 및 O≤Al2O3≤4의 조성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 자기헤드용 접합유리 조성물

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클로로하이드로실란 유도체 및 이의 제조방법

본 발명은 리튬알루미늄하이드라이드와 Si-Cl 결합을 2개 이상 가지고 있는 클로로실란을 반응시켜, 일부의 Si-Cl 결합만 Si-Cl 결합으로 환원된 신규한 클로로하이드로실란 유도체 및 그들의 제조방법에 관한 것이다. 이 화합물들은 Si-H와 Si-Cl 결합을 한 분자 내에 동시에 가지고 있어 Si-H 결합은 불포화 유기 화합물과 수소규소화 반응을 시킬 수 있으며 Si-Cl 결합은 가수분해 또는 그리냐르 화합물과 같은 친핵성 화합물과 반응시킬 수 있어 다양한 화합물을 제조할 수 있는 중요한 유기규소 화합물이다.일반식(I) 또는 일반식(II)에 있어서, R1은 탄소가 1에서 30까지의 알칼기, 가지 달린 알킬기, 고리를 포함한 알킬기로서, 방향족기 또는 탄소가 아닌 헤테로 원자를 포함할 수 있으며, R2는 클로로, 탄소가 1에서 30까지의 알킬기, 가지 달린 알킬기, 고리를 포함한 알킬기로서, 방향족기 또는 탄소가 아닌 헤테로 원자를 포함할 수 있다. 클로로하이드로실란 유도체. R1R2SiHCl (Ⅰ)일반식(Ⅰ)에서 R1이 2-페닐프로필, 2-(클로로페닐)프로필, 2-(4-비페닐)프로필 또는 (9-플루오렌)이며, R2가 노르말헥실,시클로펜틸, 2-페닐에틸, 2-시클로헥실에틸 또는 메틸을 표시한다.청구항 2. 일반식(Ⅱ)의 클로로실란을 리튬알루미늄하이드라이드와 반응시켜 일반식(Ⅰ)의 클로로하이드로실란으로부분환원시키는 것을 특징으로하는 제조방법.R1R2SiCl2R1R2SiHCl(Ⅱ)(Ⅰ)일반식(Ⅰ) 또는 일반식(Ⅱ)에 있어서, R1은 탄소가 1에서 30까지의 알킬기, 가지 달린 알킬기, 고리를 포함한 알킬기로서, 방향족기 또는 탄소가 아닌 헤테로 원자를 포함할 수 있으며, R2는 클로로, 탄소가 1에서 30까지의 알킬기, 가지 달린 알킬기, 고리를 포함한 알킬기로서, 방향족기 또는 탄소가 아닌 헤테로 원자를 포함할 수 있다.청구항 3. 제 2 항에 있어서, 리튬알루미늄하이드라이드를 일반식(Ⅱ)의 화합물에 대하여 20 ~ 80 몰%를 사용하는 것이 특징인 제조방법

보유기관
한국과학기술연구원
등록일
2000-12-15
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