일반기술
전기·전자 > 기타 반도체
이 기술의 목적은 microamp급의 출력 전류를 가지는 집속 이온빔 시스템(FIB)에 관한 것이다. 또한 이 기술로 생기는 마지막 빔의 spot 사이즈가 0.1.mu.m 이하이며, microamp 전류를 방출하는 이온 소스를 위한 전극 장치가 있다. 이 FIB 시스템은 이온 소스의 밝기를 적당한 1차(플라즈마)와 2차(방출) 전극을 조절함으로써 증가를 시킬 수 있으며 가속기와 집속 전극은 마지막 빔을 만드는데 사용된다. 구체화를 위해서는 5개의 전극이 사용되고 이것들은 매우 조밀하게 20mm의 길이를 가지고 FIB 시스템을 이룬다. 다중 beamlet 시스템이 처리량을 증가시키기 위해 제작 될 수 있고 이 기술은 나노리소그래피와 앞에서 말한 spot 사이즈가 0.1.mu.m 이하이므로 역시 그 정도의 사이즈급의 반도체 디바이스의 제작에 도핑과정에서 응용할 수가 있다.- 이온 현미경의 고해상도 스캐닝- 나노리소그래피- IC 제조에 있어서 failure 분석 및 설계 변경- 광학, X-ray 리소그래피 마스크의 수리- 미세기계가공- 마스크가 없는 반도체 도핑
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- 2002-07-04
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전기·전자 > 영상·음향기기
1. DVCR과 같이 인터프레임 코딩이 허용되지 않고 인트라프레임 코딩이 사용되는 영상장치에 있어서 양자화 스텝 사이즈를 결정하고 블럭당 비트 발생수를 예측할 때 산술 평균을 구하여 처리하는 양자화스텝 사이즈 결정장치.2. 양자화기에 클래스값 및 매크로블럭당 QNO값을 인가하여 이에 해당하는 양자화 스탭으로 DCT 계수들을 양자화함으로써, 세그먼트 단위로 출력되는 부호의 총 비트수를 일정한 임계 비트수에 근사한 값으로 유지할 수 있도록 한 양자화기의 QNO 결정장치.3. 양자화 스텝 결정시 종래의 조합논리나 LUT 대신 클래스번호와 QNO값을 이용하여 하드웨어의 구성을 간소화하며, 양자화 스탭값 결정과정 중 중복되는 부분을 통합한 양자화 스텝값 발생장치.1. 영상 부호화장치에서 양자화 스텝 사이즈 결정을 위한 비트수 측정시 하드웨어의 복잡성을 줄일 수 있다. 2. 하나의 세그먼트에 할당된 임계 비트 수에 대응하는데 적절한 매크로 블럭당의 QNO값을 설정함으로써 하나의 세그먼트를 일정한 바이트로 압축시킬 때 최적의 상태로 복원할 수 있도록 양자화 스텝 사이즈를 결정할 수 있다.3. 양자화 스텝값 발생장치의 하드웨어 구성을 간소화하고, 양자화 스탭값 결정과정에서 발생되는 시간지연을 최소화할 수 있다.
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- 고등기술연구원연구조합(사)
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- 2002-07-04
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전기·전자 > 영상·음향기기
1. 기록될 입력신호를 프리코딩하여 자기 기록 채널에 기록하고, 상기 자기 기록 채널에 기록된 신호를 재생하여 등화할 때 상기 프리코딩된 값을 기준 신호로서 사용하는 램을 이용한 결정 궤환 등화기(RAM-DFE).2. 등화기에서 결정된 값과 결정되기 이전값 사이의 타이밍 오차를 얻어 디지털 타이밍을 복원하는 방식으로 VCR의 출력재생신호를 정확하게 디지타이징 및 타이밍 복원하여 등화기에 제공하는 등화기를 위한 인터페이스 장치 및 그 설계방법.3. 적응형 등화기를 고려하지 않은 시스템의 경우에도 적정 길이의 프리앰블을 송신측과 수신측의 훈련열(training sepuence)로 이용하는 적응형 등화기.1. 램을 이용한 결정형 등화기의 램 용량을 줄여 구조를 간단화시키고, 연산횟수를 줄여 처리시간을 단축시킬 수 있다.2. 종래의 아날로그 타이밍 복원 방식으로는 처리하기 어려웠던 고주파 VCR 재생신호를 처리할 수 있다.3. 훈련기간 및 훈련열을 둘 필요가 없는 적응형 등화기는 그 구조가 간단하다.
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- 고등기술연구원연구조합(사)
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- 2002-07-04
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전기·전자 > 기타 반도체
이 새로운 IPL(intense pulsed light) 기술은 마스크 없는 마이크로 빔 리소그래피(MMRL:Maskless Micro-beam Reduction Lithography)로 불리고 있다. 이 기술에 의한 feature size는 50nm 이하이다. 이 MMRL 시스템은 기존의 IPL 시스템의 제일 첫 번째 단계를 없애기 위해 이용되는데 기존의 첫 번째 단계는 스텐실 마스크와 마스크 자체에 복잡한 빔 광학 설계가 필요하다. 이 새로운 시스템은 multi-cusp plasma generator 와 multi-beamlet extraction system, accelerator column for beam reduction로 이루어져 있다. RF(radio frequency) 유도 방전은 석영 안테나와 자기 필터를 사용하여 매우 낮은 에너지로(1eV이하) 깨끗한 플라즈마를 발생시킨다. multicusp generator 의 열려 있는 끝부분은 방출 시스템에 의해 둘러싸여 있고 절연소재로 된 layer에 의해 분리되어 있는 두 개의 전극 위에 있는 multi-beamlet aperture의 배열로 이루어져 있다. 완전한 1차 전극은 Si로 도핑 되어 있고 플라즈마 체임버의 벽에 대해 음으로 바이어스 되어 있다. 두 번째 전극은 단지 빔의 통로로서 구리로 코팅되어 있다. 이러한 설계로 각각의 beamlet은 첫 번째 전극에 대해 두 번째 전극 안에 있는 각각의 aperture를 바이어스 시킴으로서 on, off 스위칭을 할 수 있다. 이런 식으로 이 방출 시스템은 웨이퍼 기판에 어떤 패턴이든 만들 수 있다. 이 빔 스위칭 테크닉은 nine-hole 방출 시스템에서 사용되었다. 범용 패턴 생성기에서 최근에 나온 beamlet은 가속 칼럼을 통하여 75keV까지 가속된다. 이 영상은 웨이퍼표면에 도달하기 전에 모든 정전렌즈 시스템에 의해 사이즈가 축소된다. 빔의 축소는 50배율 정도로 가능하고 정교한 광학적인 계산과 설계는 MEBS Ltd에서 나온 Munro 코드를 사용했다.- 50nm이하의 사이즈- 작은 에너지- 웨이퍼 기판에 어떤 형태의 패턴도 생성시킬 수 있음- 이전의 IPL시스템에서의 첫 번쩨 단계가 없어짐
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- 2002-07-04
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전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
이 기술은 새로운 필터 설계에 있어서 플라즈마의 손실을 최소화하기 위해 기존의 자기 가이딩의 개발에 관한 것이다. 그 효과는 플라즈마 처리량 또는 전송 효율을 최대화 할 수 있다는 것이다. 자기 필터의 축은 트위스트 되어 있어 2차원 디바이스가 되는 것이다. 평면이 아닌 필터의 장점은 입자 투과의 가능성이 크게 감소하고 입자들이 실제로 플라즈마에서 제거된다. 필터의 길이를 길게 할 필요가 없고 플라즈마의 손실도 없이 필터링은 더 완전하게 이루어진다. 이러한 3차원의 모양과 2개의 다른 특별한 모양을 포함해서 이 새로운 트위스트 필터는 효과적으로 완전하게 예전의 10%에서 25%의 처리량에서 50%까지 플라즈마 처리량을 끌어올리면서 macroparticle들을 걸러낸다. 앞에서 말한 처리량은 필터로 들어가는 플라즈마 입자와 나오는 플라즈마 입자의 비로 계산을 한다. 효율을 정량화 하는 다른 방법은 시스템 계수를 사용하는 것인데, 이것은 걸러진 플라즈마로부터 방출되어 나오는 이온 전류와 플라즈마 생성 아크 전류에 대한 비로 나타내는 방법이다. 이 트위스트 필터를 사용하면 티타늄 플라즈마의 시스템 계수가 예전의 1-3%에 비교해서 7%정도 높은 수준에서 측정된다. 플라즈마빔을 분산시키고 4 인치 또는 그보다 더 큰 직경의 영역에 균일하게 분배하기 위하여 플라즈마의 자기 가이딩을 이용했다. 코일과 선의 조밀한 구조는 20cm 이하의 길이를 가지는데 이는 이전에 가능했던 것 보다 더 많은 플라즈마를 보유한다. 20cm 이하의 작은 길이는 현재 사용되는 증착 장치에 적합한 filtered cathodic arc system을 가능하게 한다. 이 필터와 균질기(homogenizer)는 밀도 있고 연속적인 결함 없는 필름을 제작하기 위한 다양한 a filtered cathodic arc system에 사용된다.- 플라즈마 손실을 최소화- 플라즈마 처리량을 최대화- 전송효율을 최대호- 입자 투과율을 감소- 플라즈마에서 입자 제거- 4인치 이상의 직경 공간에 균일하게 플라즈마 분배- 현재 사용되는 증착장치에 적합
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- 2002-07-04
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일반기술
전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
이 기술은 소형 펄스 증기 진공 아크 플라즈마 건(miniature pulsed vapor vacuum arc plasma guns)에 관한 것으로서 이전의 박막증착을 위한 장치와 기술에서 상당한 발전을 이룬 것이다. 이 기술은 진공 아크 플라즈마 소스의 특별한 설계형식이 소형화를 이루었고 펄스모드 작동 또한 가능하게 했다. 이런 형태는 이전의 기술 방법보다 많은 잇점이 있고 박막 합성을 가능하게 한다. 이 기술이전에는 증기 아크 이온 소스(vacuum arc plasma source)를 100ANG 이하의 범위에 두께를 가지는 박막을 제작하는데 사용할 수 없었지만 이 기술에서 사용할 수 있게 되었다. 이 장치는 증착 플럭스(deposition flux)를 섬세하게 제어할 수 있는 소형 소스이며 박막과 다층 레이어를 각각의 작은 면적 위에 형성할 수 있고 게다가 넓은 면적을 가지는 박막에 응용이 가능하다. 이러한 공정에 대한 완전한 컨트롤-즉 필름의 두께와 조합이 모노레이어 급(.mu.=-.ANG.)으로 제작될 수 있는-이 이 장치에 의해서 실현되었다. 이 기술은 아주 간단하고 저비용의 방법이다. 그리고 최소의 셋업 시간을 가지고 원료의 낭비 없이 많은 난해한 변수를 가지는 제작방법으로 만들어지는 샘플들도 쉽게 생산 할 수 있다.- 소형이다.- 유연한 것들도 함께 묶을수 있다.- 많은 금속에 사용될수 있다.- 플라즈마 플럭스의 정밀한 제어를 한다
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- 2002-07-04
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일반기술
화학공정 > 기타 분자·나노 화학공정 기술
이 기술은 수천에 달하는 높은 가로세로 비율과 20nm만큼 작은 크기의 정밀한 구조를 생산할 수 있는 나노머시닝 기술에 관한 것이다. 이 기술은 전자 빔 리소그래피, 엑스레이 리소그래피 그리고 LIGA(lithographie galvanoformung abformung) 같은 마이크로 제조 기법보다 우수하다. 이 나노 머시닝 기술은 무기 절연물질과 플라스틱 등 현재의 공정에서 쓰일 수 없는 그러한 재료를 포함해서 광범위하게 다양한 재료의 구조를 생산 가능하게 한다. 금속 구조는 2차 전기 주조 단계에서 형성될 수 있고 이 새로운 기술은 많은 새로운 광학적, 기계적, 전기적 특성을 가진 디바이스 제작을 하는데 사용될 수 있다. 센서와 디텍터, 작동기의 마이크로머시닝과 양자 디바이스, 방열판등의 고비율의 리소그래피, 의료용 이식기 , 외과 수술용 디바이스와 센서, 비파괴 마이크로 회로 검사 그리고 소형화된 구성요소의 집중과 팩키징등에 응용될 수 있다.- 종래의 공정에서 사용될 수 없는 다양한 범위의 재료들을 사용할 수 있다.- 형태의 크기는 20nm 만큼 제작될 수 있다.- 수천의 가로세로 비율을 가진다
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- 대일기업평가원
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- 2002-07-04
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일반기술
원자력 > 기타 원자력
종래의 중성자 튜브는 이온소스의 성능과 빔 사이즈에 의해 중성자 수율이 제한되었고 중성자 생산에 있어서 deuterium on tritium(D-T)의 영향이 필요했다. 이러한 방법은 Penning 이온소스와 싱글 갭 extractor를 사용한다. 이러한 방출 구경과 타겟은 작은 면적에 제한되어 있고 중성자 출력 플럭스가 그것에서부터 나온다. 이 기술은 고 플럭스의 조밀한 중성자 발생기이다. 이것은 혁신적인 다중 홀 구형 방출 시스템과 함께 이온소스와 굽은 마그네틱 필터를 가진다. 중성자 발생기의 작은 사이즈는 대부분 혁신적인 멀티 홀 방출 시스템의 결과이다. 이 방출 시스템은 세 개의 전극을 가지는데 플라즈마 전극, 방출 전극 그리고 차단 전극 등으로 이루어진다. 이것들은 고 전류 이운 빔을 작은 이온소스에서 방출할 때 쓰이고 빔은 넓은 면적의 구형 중성자 발생 타겟에 확장할 때도 쓰인다. 구형의 굽은 마그네틱 필터는 이온소스 안에 있는데 전체 방출 면적에 좋은 이온빔 방출을 보장하기 위해서 균일한 플라즈마 밀도를 만든다. 게다가 작은 사이즈 외에 이 제너레이터는 중성자의 생산량이 많고 트리튬또는 중수소/트리튬 플라즈마와 중수소 이온 플라즈마를 이용할 수 있다. 지금 까지는 deuterium-on-deuterium (D-D)반응의 사용이 불가능했다. 왜냐하면 필요한 플럭스를 제공하지 못하기 때문이다. 그러나 그러한 반응은 더 안전하고 더 생산적이다. 증가된 타겟 면적 때문에 이 컴팩트한 중성자 발생기는 고 플럭스의 D-D 중성자 소스를 가능케 했다. 이것은 몇 가지 이유에서 중요한데 첫째로 중성자 제너레이터의 수명은 현저하게 증가시킨다. 현장에 응용함에 있어서 두 번째로 이동과 작동상의 안전에 대해 걱정이 줄어든다. 광물 탐지기 같은 응용에서는 열 중성자가 사용되는데 저 에너지의 D-D 중성자(14MeV보다 작은2.45MeV의 에너지를 가진다.)를 사용하면 중성자 감속제의 크기를 감소 시킬 수 있다. 그리고 훨씬 안전한 D-D 반응을 사용하면 소스에 트리튬을 제거 할 수 있다.고 플럭스/ 저 에너지높은 중성자 수율안전한 D-D 반응Compact
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- 대일기업평가원
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- 2003-01-27
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일반기술
환경 > 폐기물관리·재활용 (F35, N33, Q64)
폐플라스틱의 재활용시 혼합플라스틱을 분리하여 각 재질별로 재활용하는 것이 가장 효과적인 재활용방법이다. ABFALLTRENN사는 재활용후 경제성을 높이기 위하여 부침법, 체분리, 광학분리등의 원리를 적용한 분리시설을 제공하고 있다.혼합플라스틱중 PS, 냉장고로부터 PS와KS, PS와 POM, ABS와 PC-ABS, ABS와 PA, PA와 PET, PA와 POM, PC와 PBT, PC와 PC 및 GF, PP와 PPO, PS와 SAN, PS와 PP
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
환경 > 폐기물관리·재활용 (F35, N33, Q64)
EXPO 2000에 소개된 이 활성탄 재생장치는 전처리단계와 생물학적 재생단계로 구성되어 있다. 컴팩트하게 콘테이너에 설치가 가능하고, 기존의 시스템을 크게 변경하지 않고 이 장치를 운영할 수 있도록 기술을 제공하고 있다.EXPO 2000에 소개된 이 활성탄 재생장치는 전처리단계와 생물학적 재생단계로 구성되어 있다. 컴팩트하게 콘테이너에 설치가 가능하고, 기존의 시스템을 크게 변경하지 않고 이 장치를 운영할 수 있도록 기술을 제공하고 있다.생물학적처리를 위한 활성탄 필터장치를 사용후 지금까지 주로 재생을 위하여 사용하던 열처리 방법이나 특정폐기물로 폐기하지 않고, 저렴한 비용으로 신속하게 환경친화적 재생이 가능하다. 난분해성물질인 벤젠, 톨루엔, 페놀, 탄화수소류 및 제초제등의 오염도 처리가능하다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
에너지·자원 > 기타 에너지 저장·이용
회전장치로부터 기둥을 타고 전달되는 소음을 최소화시키기 위해 저주파소음 영역에 (200-1000Hz)비중을 둔 능동 인터페이스를 차진에 삽입하는 기술이며10-40 dB의 감소율의 효과를 보였다. 100 t 까지의 무게지탱가능현재까지 사용되었던 수동제어에 비해 적은 규모의 구조로도 높은 소음감소율이 우수하며 에너지 및 재료의 절약 및 장치의 내구성과 안전성등의 장점.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
전기·전자 > 영상·음향기기
방음벽 윗면에 표면이 일정한 임피던스의 값으로 반응하도록 음향-Headpiece 연구 및 제조방음벽의 높이와 두께를 변화시키지 않아도 되며 차음재나 기하학적인 변화를 통해 방음을 시도했던 지금까지의 방음벽들보다 투과손실이 개선榮
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
전기·전자 > 영상·음향기기
Feedback 과 Feedforward control 제어를 이용한 이중판넬의 저주파영역 진동감소와 판넬 사이의 공간안의 음장감소저주파영역까지 골고루 이중판넬을 통해 방음이 가능하며 특별한 부피나 무게의 증가없이 보이지 않는 곳에 설치해서 투과손실을 향상시킨다.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
기계 > 기타 산업·일반기계
샌드위치 구조로 조합이 된 장치로 바퀴에 부착되어 넓은 주파수 영역의 선로와의 가속,진동 에너지를 열에너지 형태로 전환하며 철로에서의 운행중의 소음은 8dB(A)까지, 정차시의 소음은 최대 15-25dB(A)까지 감소가 된다.제조방식이 간단하고 소음감소율이 높으며 다양한 구조가 있어 다양한 부착 방법이 가능하며 바퀴의 마모한계점까지 광역 주퍼범위에 이르는 소음감소가 일정하게 유지되도록 제조榮
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
환경 > 폐기물관리·재활용 (F35, N33, Q64)
종려유 생산후 남은 폐기물의 정확한 분석을 통해서 섬유질 MDF를 생산하여 가구재나 바닥재로 사용.폐기물을 이용함으로써 환경보호뿐만 아니라 경제적, 생태학적 잇점.
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
화학공정 > 기타 화학공정
고분자 네트웍 시스템을 종합하여 형상메모리 성질을 테스트. 변형 실험을 거칠 후 의학 실험.온도 변화에 따른 형상메모리 변형이 용이. 기존의 형상메모리 합금보다 변형률이 큼
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
생명과학 > 기타 생명과학
부식이 방지되고, 무세균이 유지되며, 인체에 적합한 의료용 이식 물질 또는 코팅기술이식물질의 사용기간 연장
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
생명과학 > 기타 생명과학
생명공학 또는 의료용 소형 (20 micrometer이하 ) 광학센서로 산소, 이산화탄소, pH를 측정크기가 작고 반응 시간이 짧음(1초 이하)
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
생명과학 > 기타 생명과학
생체고분자를 합성하여 세포배양 테스트 및, 동물 테스트를 거쳐 피부 또는 인공장기용 재료개발생체재료 디자인부터 생체적합 테스트까지 종합적인 연구
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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일반기술
보건·의료 > 기타 의료정보학
레이저 간섭기로 정확하게 나노메터 수준의 거리 차이가 나는 위치들을 포지셔닝 하는 기술위치의 정확도와 조절의 신속성이 기존제품보다 향상된 시스템
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- 한국과학기술연구원
- 등록일
- 2002-07-04
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