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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

초미세입자 응축핵계수기

기존의 나노입자 개수 측정장치는 알콜계통의 증기를 이용하여 이 증기를 저온으로 낮추어 중기가 입자 주위에 응축되는 형상을 이용하여 입자의 개수를 측정하였다. 즉, 구름의 형성과정과 비슷한 방법을 이용하였다. 그러나 이 냉각과정이 열전도에 의해 이루어지므로 작동유체를 알콜계통에 한정할 수밖에 없으며, 샘플링 유량도 매우 작은 문제점이 있었다. 이러한 알콜유체는 반도체 공정상에 큰 영향을 주므로 클린룸내의 나노입자 계측에는 사용할 수 없다. 본 발명은 위에 언급한 작동유체(알콜)와 샘플링 유량의 한계를 극복할 수 있게 수증기와 모세관을 이용하여 저압으로 낮추면 수증기의 단열팽창에 의해 입자를 중심으로 수증기가 응축되어 물방울을 형성하게 된다. 따라서 이러한 모세관을 이용한 팽창방법을 사용하면 고유량으로 장치를 구성할 수 있는 특징이 있다.본 장치는 물을 이용하므로 반도체생산라인내의 나노입자 측정에 사용할 수 있다. 아울러 고유량으로 공기를 공기를 샘플링하므로 반도체 클린룸과 같이 입자의 농도가 낮은 곳에서는 그 성능이 더욱 뛰어나다.고유량으로 수증기를 이용하여 나노입자를 측정할 수 있다.【발명의 개시】본 발명의 목적은 공기에 부유된 초미세입자를 신속하고 용이하게 계수할 수 있는 초미세입자 응축핵계수기를 제공함에 있다. 본 발명의 다른 목적은 다양한 작동유체를 사용할 수 있으며 오염없이 청정상태가 반드시 유지되어야 하는 반도체 클린룸등에 적용할 수 있는 초미세입자 응축핵계수기를 제공함에 있다.본 발명의 또 다른 목적은 고유량으로 입자개수를 측정할 수 있는 초미세입자 응축핵계수기를 제공함에 있다. 상기한 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 특징으로 본 발명에 따른 초미세입자 응축핵계수기는 작동유체가 수용되어 있는 저장풀과; 저장풀과 일체로 형성되어 있고, 내부에 작동유체와 맞닿아 작동유체를 흡수하는 흡수재가 부착되어 있으며, 외벽에는 작동유체를 증기로 포화시키는 가열장치가 설치되어 있는 포화기와; 포화기의 하류에 위치하며, 포화된 증기가 응축되어 입자의 성장이 일어나는 모세관과; 모세관의 출구에 인접하여 설치되어 성장된 입자를 계수하는 광학장치와; 모세관의 하류에 위치하며 성장된 입자를 흡입하는 흡입수단으로 이루어져 있다.

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한양대학교
등록일
2004-05-24
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

초음파 진동체

초음파의 주파수대역은 20kHz에서부터 수GHz까지 이다. 이와 같이 초음파는 짧은 시간에 작게는 수만에서 많게는 수십억번의 진동이 가능하다. 이를 이용하여 초음파 발생장치에서 발생된 구형파들이 진동자에 전달되고 [도 1] 과 같이 진동자에 의한 진동이 망(Mesh)에 전달되어 망(Mesh)을 진동시키게 된다. 망 자체를 진동시키기 때문에 망(Mesh)사이에 끼어 있던 분체들은 망(Mesh)사이를 뚫고 나올 수 있다. 이를 더욱 개선시키기 위한 방법으로 기존의 방법을 결부시킨 것이 [도 2]에 표시한바와 같다. 망(Mesh)에 진동을 주는 것 이외에도 [도 3] 에 표시한 것과 같이 송풍을 가함으로서 더욱더 효과적인 방법을 제시본 발명은 망(Mesh)을 이용한 분체획득시 이를 촉진시키기 위해서 초음파를 이용하는 방법에 관한 것이다. 분체라는 것은 고체입자가 다수 집합한 상태에 있는 것의 총칭하는 것으로그것을 형성하는 입자의 크기에 따라 0.1㎛이하는 콜로이드0.1㎛∼1㎛를 미분(微粉), 1㎛∼1OO㎛를 보통 분체, 1OO㎛∼1mm를 조분(粗粉) 1mm이상을 입체로 대별한다. 일반적으로 분체로 취급하는 것은 미분에서 조분에 이르는 것으로 0.1㎛에서 1mm정도의 입경을 가진 고체물질의 집합체로 밀가루, 분말상 알루미나, 검댕등 그 예가 많으며 이러한 분체들은 화학뿐만아니라 산업 및 실생활에 걸쳐 폭넓게 이용되고 있다. 그러나 분체를 크기별로 얻는 것은 쉬운 것이 아니다. 분체의 크기가 큰 것은 망(Mesh)에 진동을 주어 얻을 수 있으나 크기가 작은 분체는 망(Mesh)에 진동을 주어서는 쉽게 얻을 수 없다. 진동에 의해 대량의 분체를 얻는데에는 많은 시간이 걸릴뿐만 아니라 진동에서 발생하는 소리가 크기 때문에 이것을 극복하기 위한 연구가 필요한 상황이다. 본 발명은 상기의 단점을 극복하기 위하여 초음파에서 발생되는 진동을 이용하여 분체를 크기별로 나눌 때 짧은 시간에 대량의 분체을 얻는데 그 목적이 있다.

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(재)충남테크노파크
등록일
2004-09-13
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

광화학반응을 이용한 세라믹의 미세가공

세라믹은 일반 금속과는 달리 그 가공이 매우 어려우며 가격 또한 고가인 관계로 세라믹 가공기술은 소재산업의 기초기술이다. 본 기술은 이러한 세라믹의 가공에 있어 광화학반응을 이용한 세라믹 미세가공 기술로 전기제품, 휴대폰 등의 미세 전자부품 생산에 필요한 기술이다. 본 기술은 이러한 광화학반응을 이용하여 마이크로미터단위(Micro-meter level)까지 가공이 가능하여 세라믹을 비롯하여 기타 유리의 가공에도 활용이 가능한 기술이다.-세라믹에 화학반응 적용-기계가공이 불가능한 세라믹을 가공

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한국생산기술연구원
등록일
2004-11-09
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

박막수지판형 1단식 전기집진장치

최근 급속한 산업발달과 더불어 산업전반에 걸쳐 환경오염이 심화되고 환경보전에 대한 사회적 요구의 증가로 이에 대한 연구가 활발하다. 인구밀도와 차량밀도가 높은 도시의 건물과 지하상가, 지하철 역사등 지하 공간의 실내오염이 현재 큰문제로 부각되고 있다. 이러한 분진,부유미립자 등의 오염물질을 제어하기 위한 집진장치의 개발이 진행중에 있다. 상기 대기중의 분진은 분자의 응축 및 핵 생성등에 의하여 발생되는 매우 미소한 입자와 일반공장 및 작업장 등에서 발생되는 분진, 그리고 바람에 의한 지표면의 흙, 모래등에 의한 비교적 큰 분진 등의 광범위한 조성과 입경분포를 가진다.현재 일반 공조용으로 사용되는 집진장치에는 여재필터와 이단하전식 전기집진기 등이 있으며, 여재필터는 구조가 간단하고 저렴하지만, 압력 손실이 크고 필터 수명이 짧으며, 특히 실내 오염의 두된 원인인 입경 0.1~1um의 분진에 대한 포집 효율이 낮으며, 전기집진기는 효율은 높으나, 분진을 대전시키는 하전부와 분진을 포집하는 집진부로 된 이단식 구조로 대부분 재질이 금속재료로 구성되어, 장치가 크고 가Ю고가여서 일반적인 용도에 적용하지 못하고있는 실정이다. 본 발명에서는 상기한 여재필터와 이단하전식 전기집진기가 갖는 제반문제점을 해소코자 안출한 것으로서, 실크 인쇄된 박막수지판을 이용하여 판과 판 사이의 간격을 좁힌 슬림형으로 집진효율이 높고 가격이 저렴하며 또한 세정 재생도 용이하고 소형,중형, 대형으로 광범위하게 적용이 가능한 수지박막형 1단식 전기 집진장치를 제공함에 본 발명의 기술적 과제를 두었다.박막수지판형 1단식 전기 집진장치에 관한 것으로 투명한 절연판 위에 도전성도료로 실크 인쇄된 박막수지판으로 집진장치를 구성함으로서 판사이의 간격을 좁혀 고효율, 슬림형이 가능하도록 하고, 소형이면서 가볍고, 압력손실이 낮으며 곰팡이, 박테리아와 같은 병원체에 대한 살균효과가 우수한 박막수지판형 1단식 전기집진장치를 제공코자 하는 것이다.프레임 내측에는 PET나 PVC와 같은 절연물질로 간격유지용 돌기가 서로 엇갈리게 형성된 박판현의 집진판과 세퍼레이터를 적층되게 끼움 결합하되, 집진판의 일면에는 길이방향으로 한쪽이 톱날형의 침점이 형성되게 도전성 도료로 5um두께의 실크 인쇄부를 형성하고, 각 집진판에는 고전압의 +극과 접지인-극을 교대로 인가하여 톱날형의 침점에서 강한 코르나방전이 발생되게 하여 입자 대전을 일으킴과 동시에 전기장을 형성하여 대전된 입자가 포집되게 함으로서, 분자의 응축 및 핵 생성등에의하여 발생되는 매우 미소한 입자 등도 포집할 수 있는 고효율의 집진율을 보장할 수 있고, 소형 뿐 아니라 중.대형에도 광범위하게 적용가능하며, 세정 등을 통하여 재 사용할 수 있으며, 곰파이, 박테리아와 같은 병원체에 대한 살균효과 득할 수 있게 한 것이다.

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(재)포항산업과학연구원
등록일
2005-07-12
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

IR 이미지 처리 및 시스템 기술

적외선 이미지 센서의 전기적 신호를 영상 처리하는 기술 및 시스템에 의해 적외선 영상을 출력하는 기술임.................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................일반적인 이미지 센서출력과는 달리 출력신호가 아날로그 신호로서 ㄷ지털 신호로 변화 하여야 하며, 동영상까지 구현 가능한 영상 처리 기술분야로서 현재 특허 출원 상태의 지적 소유권 확보 기술임.................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................

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경기기술이전센터
등록일
2005-08-01
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

플라즈마 디스플레이 패널용 패터닝 장치 및 패터닝 방법

본 발명은, 글라스기판 상에 전극, 격벽, 유전막, 형광체 등의 패턴을 형성하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)용 패터닝 장치 및 패터닝 방법에 관한 것이다. 마스크는 패터닝 물질을 수용하는 패터닝 헤드와 글라스기판 사이에 설치되며, 레저버에 수용된 패터닝물질은 표면탄성파 또는 정전기 유도 방출 분사방식으로 패터닝 마스크의 분사홀을 통해 글라스 기판상에 패터닝 된다.(기술의 응용범위) 본 기술을 이용할 경우 디스플레이용 전극, 격벽, 유전막, 형광체 등을 간단하고 빠르게 패터닝 함과 동시에 정밀하게 패터닝 할 수 있다. 본 기술은 디스플레이 패널용 제작에 적용할 수 있는 마이크로 패터닝 기술이다. 종래의 반도체 공정에서는 높은 장비 비용과 엄격한 환경으로 인해 제작에 어려움이 많이 있다. 반면 본 기술에서 제안한 정전기 유도 방출 방법을 이용할 경우 상온에서 바로 마이크로/나노 급의 패터닝이 가능하며, 장비 또한 매우 단순한 장점이 있다. 정전기 유도 방출기술은 잉크젯 프린터처림 선택적으로 패터닝 가능함으로 임의형상을 패턴닝 할 수 있을 뿐 아니라, 멀티 헤드를 사용할 경우 대면적 고속 패터닝도 가능하다. (기술의 사업성) 국.내외 디스플레이 시장이 매년 기하급수적으로 급증하고 있으며, 마이크로/나노 구조물 제작, 바이오 칩 제작 등에 적용 가능함으로 잠재 시장이 매우 크다고 할 수 있다.

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한국기계연구원
등록일
2005-12-05
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

정압보정 탱크를 이용한 미세유량률 측정용 임펄스 출력식유량계의 정밀 보정장치

본 기술은 기존의 임펄스 출력식 유량계를 이용해 미세유량을 측정할 경우, 주위 환경의 간섭에 의해 발생되는 오차를 최대한 배제하면서 더욱 정확한 유량 값을 구할 수 있도록 측정된 임펄스 값을 미세유량률로 보정해 주는 방법 및 관련 장치에 관한 것이다. 측정된 결과는 유체역학과 기체 운동론 분야 등에서 유도되어진 관련 공식을 이용함으로써 유량률과 임펄스와의 관계를 함수로 정의할 수 있게 해준다. 이렇게 정의된 유량률-임펄스의 보정 함수를 실제 운전장치에 유량계를 장착하여 측정한 임펄스 값과 비교 및 보정함으로써 정확한 미세유량률 값을 계산할 수 있다.기존의 임펄스 출력식 유량계를 이용해 미세유량을 측정할 경우, 발생되는 오차들은 실제 측정되는 미세유량 값과 비교해볼 때 그 크기가 비슷하거나 오히려 더 크므로 측정결과의 신뢰도를 크게 떨어뜨리게 된다. 또한 실제 측정할 유체 및 작동 조건과 상이하거나 대부분 미세유량보다 큰 범위에 대해서 얻은 시험 결과를 이용해 보정하므로 실제 미세유량의 측정결과와는 차이가 존재한다. 본 기술은 이러한 오차에 의한 영향을 최대한 배제하면서 더욱 정확한 유량 값을 구할 수 있도록 측정된 임펄스 값을 미세유량률로 보정해 주는 방법 및 관련 장치에 관한 것이다. 본 기술의 보정 방법 및 장치를 이용해 유량률-임펄스 보정함수를 구함으로써 측정된 임펄스 값에 대해 쉽고 정확하게 미세유량률로 계산 및 보정할 수 있으므로 측정결과의 신뢰도를 향상시킬 수 있으며, 또한 다양한 작동유체에 대해 측정이 가능하므로 그 적용 범위가 넓다.

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한국항공우주연구원
등록일
2005-11-23
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

진공열증착과 스퍼터링을 이용한 초과립박막 형성방법 및 그 형성 장치

본 기술은 초과립박막의 형성 방법 및 그 형성 장치에 관한 것으로 초과립박막은 기지를 이루는 재료(이하 기지 재료) 속에 과립 형태의 다른 원소(이하 과립 원소)가 분산되어 이루어진 박막을 말한다. 이 기술은 반응실 내에 압력을 스퍼터링을 위한 플라즈마가 형성되지 않을 정도의 압력 하에서 진공열증착 방법으로 기지 재료를 형성하고, 동일 반응실 내에서 플라즈마 소오스 가스를 주입하여 스퍼더링을 위한 플라즈마가 형성될 정도의 압력 하에서 스퍼터링 방법으로 이미 형성된 기지 재료에 과립 원소을 과립 형태로 분산시켜 형성하는 단계를 여러 번 반복하여 박막을 형성하는 방법이다. 이 초과립박막 형성 장치로는 반응실의 상단에 기판을 일정 위치에 고정시키는 홀딩장치, 로터리 펌프 및 확산 펌프로 구성된 펌핑 장치, 열증착 수행을 위한 소오스 물질을 수납하는 장치, 스퍼터링 소오스 타겟을 지지하며 플라즈마 형성을 위한 전압원을 인가 받는 스퍼터링 장치, 반응실 내의 압력을 조절하는 플라즈마 소오스 가스주입 장치 등이 있다. 현재 사용하고 있는 증착 방식에는 보통 수 10^-6Torr 이상 영역의 고 진공에서 열 증착에 의해 박막을 형성하는 진공열 증착 방식과 10^-6Torr 이하 영역의 저 진공에서만 증착이 가능한 스퍼터링 증착 방식이 있다. 과립 박막을 형성함에 있어 기지를 이루는 재료는 진공열 증착 방법이 매우 적절하고 분산시키는 재료는 스퍼터링 증착이 적절하다. 하지만 이 두 방법이 이루어지는 압력의 차이로 인해 두 가지 방식을 동시에 수행할 수 없었다. 그리하여 과립박막의 형성은 두 증착 방법 중 한 가지 방식에만 의존해야 됐고 이 때문에 기지와 과립상의 선택에 제한적이었고 기지재료와 과립재료의 형성 방법이 동일하여 기지 속에 다른 원소가 과립형태로 분산되기 어려웠으며 후속 열처리에 의존하는 등 문제점이 있었다. 그러나 이 기술은 하나의 반응실 내에서 반응실의 압력조절을 선택적으로 실시할 수 있게 함으로써 진공열 증착 방식으로 결정성이 우수한 기지재료를 형성하고 스퍼터링 증착 방식으로 고융점재료를 분산시킨 과립 박막을 증착하여 열 증착 및 스퍼터링 공정이 동일 반응실 안에서 수행됨으로써 과립의 크기 및 농도 등이 적절히 조절된 양질의 초과립박막을 형성할 수 있게 되었다.

보유기관
(주)케이티
등록일
2006-03-06
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

50 nm급 나노임프린트 리소그래피 공정 및 장비기술

- 본 기술은 50 nm급 나노패턴닝이 가능한 자외선 나노임프린트 공정과 이에 필요한 공정장비기술임. 다중패턴스탬프(Elementwise Patterned Stamp, EPS)를 사용하는 싱글스텝(Single-step)과 스텝-엔-리피트(Step-and-Repeat) 자외선 나노임프린트공정기술로 나누어지며, 이는 대기압 상에서 대면적(5인치 이상 크기)의 스탬프를 사용한 자외선 나노임프린트 공정이 가능한 기술임. 다중패턴스탬프는 기존의 평평한 스탬프와 달리 스탬프 표면에 공기 배출이 가능한 채널이 각 소자 영역사이에 존재하여 대기 분위기에서의 대면적 임프린트가 가능하게 함.- 본 기술은 전 세계적으로 10년 내 3,000에서 3,500억불 규모의 시장이 예상되는 (미국 국가과학재단(NSF: National Science Foundation) 자료) 나노기술 응용 메모리, 차세대 디스플레이의 제작에 적용될 수 있다. 특히, 마이크로 크기 패턴닝만이 가능하고 수입에 의존했던 기존의 마스크 얼라이너(mask aligner)를 대체하여 나노바이오 및 NEMS 제품을 경제적으로 생산할 수 있는 가장 가능성 있는 기술로 기대됨. - 본 기술은 50 nm 이하 패턴을 경제적으로 생산할 수 있는 기술로 이 기술이 양산에 적용될 경우 기존의 반도체 및 바이오 센서를 포함한 NEMS 제품의 성능을 획기적으로 향상시킬 수 있음. - 기존의 상용화 장비들과 비교하여 본 특허기술을 활용한 공정장비는 대기 또는 저진공환경에서 대면적 스탬프를 사용한 정렬작업과 임프린트공정이 가능하면서 제작 단가가 상대적으로 낮아 가격경쟁력이 있는 것이 특징임. - 유사한 공정을 구현할 수 있는 기존의 국내외 공정과 비교하여 10배 이상의 생산성 향상과 50%이상의 장비 제작 단가 절감이 기대됨.1) 기존 공정 (자외선 나노임프린트 리소그래피 공정) 특징 - 스탬프: 평평한 스탬프 표면에 나노패턴이 존재함 - 스텝-엔-리피트 방식: 대기압 상에서 1인치 이하 크기 스탬프를 사용하는 스텝-엔-리피트 자외선 나노임프린트공정기술 - 싱글-스텝 방식: 진공환경에서 5 인치이상 크기 스탬프를 사용하는 자외선 나노임프린트공정기술2) 개발기술 (다중패턴스탬프를 이용한 나노임프린트 리소그래피공정) 특징 - 스탬프: 스탬프 표면에 공기 배출이 가능한 채널이 각 소자 영역사이에 존재. 나노구조물은 각 소자영역 상에 존재함 - 스텝-엔-리피트 방식: 대기압 상에서 1인치 이하 크기 스탬프를 사용하는 스텝-엔-리피트 자외선 나노임프린트공정기술 - 싱글-스텝 방식: 진공환경에서 5 인치이상 크기 스탬프를 사용하는 자외선 나노임프린트공정기술3) 개발 기술의 우수성 - 스탬프: 대기압 상에서 대면적 스탬프의 사용이 가능함. - 스텝-엔-리피트 방식: 8인치 웨이퍼 공정 기준, 10배 이상의 생산성 향상이 가능, 12인치 웨이퍼 공정에 적용할 경우 수십배의 생산성 향상 가능 - 싱글-스텝 방식: 진공 장치가 필요 없어 장비 단가를 낮출 수 있으며 다층정렬작업이 용이함

보유기관
한국기계연구원
등록일
2006-04-10
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

초경 마이크로 핀 제조방법

본 발명은 초경 금속의 초경부재(30)를 이용하여 미세한 크기의 사각 단면을 지니는 핀을 제조하는 방법에 있어서: 다 이싱 쏘우(10)를 이용하여 초경부재(30)의 일면에 복수의 홈(30a)을 평행하게 형성하는 제 1 단계(S10); 상기 홈(3 0a)이 하부를 향하도록 왁스(40)를 이용하여 초경부재(30)를 다이(50)에 부착하는 제 2 단계(S20); 및 상기 초경부 재(30)의 상면을 그라인딩 휘일(20)로 연삭하여 홈(30a)이 소멸된 복수의 핀부재(30´)를 생성하는 제 3 단계(S30) 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 기계가공에만 의존하여 각변의 길이가 미세한 사각 단면의 초경소재 핀을 일정한 평탄도가 유지되는 상태로 형성하는 효과가 있다.본 발명의 목적은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기계가공에만 의존하여 각변의 길이가 미세한 사각 단면의 초경소재 핀을 일정한 평탄도가 유지되는 상태로 형성하기 위한 초경 마이크로 핀 제조방법을 제공한다.본 발명은 기계가공에만 의존하여 각변의 길이가 미세한 사각 단면의 초경소재 핀을 일 정한 평탄도가 유지되는 상태로 형성하는 효과가 있다. 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 변형예 또는 수정예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 해야 할 것이다.

보유기관
부산대학교
등록일
2006-05-10
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

분해 및 조립이 가능한 파이프 구조를 갖는 마이크로 믹서

본 기술은 마이크로 유체 유동에서 서로 다른 종류의 유체를 혼합할 때 이용되는 마이크로 믹서에 관한 것으로서, 더 상세하게는 유체의 혼합을 위해 소정 각도로 꼬인 트위스트 블레이드(twisted blade)가 그 내부에 개별적으로 설치되는 복수개 파이프 부재들의 각각의 양단에 분해 및 조립을 위한 요철(凹凸)부를 형성하여 마이크로 믹서의 내부 세척을 용이하게 하고 조립 및 유지보수의 편의성을 향상시킬 수 있도록 한 분해 및 조립이 가능한 파이프 구조를 갖는 마이크로 믹서에 관한 것이다.본 기술에 따른 분해 및 조립이 가능한 파이프 구조를 갖는 마이크로 믹서는, 유체의 혼합을 위해 소정 각도로 꼬인 트위스트 블레이드 부재; 및 상기 트위스트 블레이드 부재가 그 내부에 개별적으로 각각 설치되는 복수개의 파이프 부재들;을 포함하고, 상기 파이프 부재들 각각은 그 양단에 상기 파이프 부재들간의 분해 및 조립을 위한 분해조립 수단이 형성된 것을 특징으로 한다. 본 기술에 따른 분해 및 조립이 가능한 파이프 구조를 갖는 마이크로 믹서는 유체의 혼합을 위해 소정 각도로 꼬인 트위스트 블레이드(twisted blade)가 그 내부에 개별적으로 설치되는 복수개 파이프 부재들의 각각의 양단에 조립 및 분해를 위한 요철(凹凸)부를 형성하여 마이크로 믹서의 세척을 용이하게 하고 조립 및 유지보수의 편의성을 향상시킬 수 있도록 하는 이점을 제공한다.

보유기관
포항공과대학교
등록일
2006-05-24
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

마이크로/나노 3차원 조형 시스템

본 기술은 3차원 형상 테이터를 이용하여 3차원 임의형상을 조형하는 3차원 임의형상제작 시스템에 관한 것이다. 3차원 임의형상제작 시스템은 일정한 폭으로 상승 및 하강하는 조형테이블과, 조형테이블에 분말 소재를 일정 두께로 공급하여 파우더베드(powder bed)를 형성하는 소재공급부, 그리고 파우더 베드 위에 접착물질을 방전분사방식으로 분사하는 프린팅헤드부로 구성되어져 있다. ■ 정전기력을 이용한 미세 분사헤드를 가지는 임의형상 제작 시스템은 미세 부품제작 및 일반 산업용 임의형상제작에도 사용 가능하다. 특히, 조직공학을 위한 Scaffold 제작 등의 정밀한 바이오 부품 제작에 효과적일 것으로 판단됨.■ 정전기력을 이용한 접착제 미세 분사 기술 기존의 접착제 분사 헤드로는 잉크젯 기술을 이용한 프린터헤드가 사용되고 있으나, 잉크젯 기술의 경우 드롭렛의 최소 직경이 30㎛이상이므로 극·미세 형상 제작에 어려움이 있다. 정전기력을 이용한 분사 방식은 미세 Capillary 내에 나노 입자로 구성된 접착제 용액을 주입하고, capillary 내에 고전압(수 kV)을 인가하여 용액을 대전시켜준다. 대전된 용액은 capillary 끝단에서 전기이중층(electric double layers)이 형성되고, 이때 Repulsive force에 의해 분사가 이루어진다. ■ 스텐실 마스크 제작 기술 분사된 용액은 정전기력에 의해 파우더 베드 방향으로 유도되며, 파우더 베드와capillary 사이에 극․미세 홀을 가지는 마스크를 장착하여 원하는 형상을 얻을 수 있다 ■ 현재 전 세계적으로 바이오 분야에 연구를 집중하고 있으며, 국내도 고령화 사회로 인해 바이오 산업에 대한 수요가 계속적으로 증가 하고 있다. 또한 NT, BT, IT 용 고정밀 미세 부품 제작에 이용될 경우 경쟁력이 있을 것을 판단됨.

보유기관
한국기계연구원
등록일
2006-09-25
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

임프린트된 나노구조물을 이용한 미세접촉 인쇄기법과 이의 나노 구조물

본 기술에서 제공하는 나노임프린트 리소그래피 공정을 도입한 미세접촉 인쇄 방법은, 나노임프린트 리소그래피 공정을 이용해서 기판 위에 나노구조물을 형성하는 단계와 미세접촉 인쇄방법으로 패턴닝하는 단계로 이루어지며, 패턴닝 단계가 나노구조물에 금속박막을 증착하는 단계, 자기 조립 단층막이 잉킹된 스탬프와 금속 박막이 증착된 나노구조물을 접촉시켜 자기조립 단층막을 나노구조물에 선택적으로 인쇄하는 단계, 자기조립 단층막을 마스크로 금속 박막을 선택적으로 제거하는 단계, 나노구조물에서 자기 조립 단층막을 제거하는 단계, 그리고 나노구조물에 잔존하는 금속박막을 마스크로 사용해서 기판을 패턴닝하는 단계를 포함하여 이루어진다.본 기술은 미세접촉 인쇄방법의 스탬프 유연성으로 인해 발생하던 임계치수 한계를 극복하여 100 nm이하의 미세 패턴 구현이 가능하게 하는 기술로 적용가능한 나노반도체 소자, 고밀도 자기저장장치, 고밀도 하드디스크, 나노바이오 소자는 그 시장이 막대하기 때문에 사업성이 매우 크다 하겠다.본 기술은 나노반도체 소자, 고밀도 자기저장장치, 고밀도 하드디스크, 나노바이오 소자 제작 등에 적용될 수 있다. 기존의 미세접촉인쇄공정에서는 탄성중합체 특성상 수백나노미터급 미세패턴의 구현이 가능하지만 해성도가 나쁘고 결함이 많아 100 nm이하의 미세 패턴 구현이 거의 불가능하다. 본 기술은 기존의 미세접촉 인쇄기법의 문제점을 나노임프린트 리소그래피 공정으로 해결하여 100 nm이하의 치수를 요구하는 나노구조물을 제작할 수 있도록 개선한 나노임프린트된 나노구조물을 이용한 미세좁촉 인쇄방법을 제공하는 목적이 있다. 나노반도체 소자, 고밀도 자기저장장치, 고밀도 하드디스크, 나노바이오 소자 제작 (관련업체: 삼성전자, 하이닉스, MEMS 제품업체, LG필립스등)기술활용결과의 형태 : □ 재료생산 □ 완제품생산 ■ 일부공정대체 □ 생산성향상 □ 기타

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한국기계연구원
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2006-10-10
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링형 및 유니모프형 압전작동기를 이용한 변위확대기구

본 발명은 압전작동기에서 발생하는 미소 변위를 보다 큰 변위 및 정밀 위치 제어가 필요한 다양한 분야에 활용될 수있도록 압전작동기의 미소 변위를 확대시키는 장치에 관한 것으로, 상부에 적층형 압전작동기에 부착된 큰 피스톤의 내경 차이를 이용해 변위를 확대시키는 유압 챔버를 구성하고 하부에 작은 피스톤을 조립하여 유압 챔버로부터 공급되는 유체를 복수개의 유로를 통해 하부작은 피스톤의 상단과 하단에 공급되도록 하고 각 유로와 하부 작은 피스톤 사이에 링형 압전작동기를 이용한 밸브를 구성 하였다. 그리고 상부 챔버로부터 하부 작은 피스톤의 상단/하단에 공급되는 유체를 저장할 수 있는 어큐뮬레이터를 바디와 별도로 구성하고 하부 작은 피스톤과 어큐뮬레이터 사이에 유체의 공급을 조절하는 유니모프형 압전작동기 밸브를 구성하였다.본 발명의 링형 및 유니모프형 압전작동기 밸브를 이용한 변위확대기구는 상부 적층형 압전작동기의 상/하 작동과 동시에 하부 작은 피스톤이 상/하로 작동되는 기존의 변위확대장치 작동방식으로 작동하고 유니모프형 압전작동기 밸브와 링형 압전작동기를 이용한 밸브의 온/오프에 의해 상부적층형 압전작동기의 작동 방향에 의존하지 않고 하부 작은피스톤의 전진/후진 변위량을 조절할 수 있도록 한 것을 특징으로 한다. 압전작동기는 높은 발생력으로 미세 변위량을 낼 수 있기 때문에 초정밀 장비에 핵심 부품으로 사용 빈도가 높아지고 있다. 따라서 압전작동기 변위확대기구는 반도체 장비 또는 첨단 의료분야 등 수 마이크로 단위로 초정밀 제어가 필요한 분야에 확장 적용할 수 있다.

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인하대학교
등록일
2007-01-03
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음향광학편향기와 선주사 카메라를 이용한 공초점 레이저선주사 현미경

* 주요 내용본 발명은 음향광학편향기와 선주사 카메라를 이용한 공초점 레이저 선주사 현미경에 관한 것이다.* 기술적 과제본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 음향광학편향기와 선주사 카메라를 이용한 고속 공초점 레이저 선주사 현미경을 제공하는 것이다.본 발명이 이루고자 하는 또다른 기술적 과제는 공초점 레이저 주사 현미경에 있어서 보다 빠른 실시간 영상 획득 속도를 가지는 영상 형성 장치 및 방법을 제공하는 것이다.* 효과본 발명은 음향광학편향기와 선주사 카메라를 이용한 고속 공초점 레이저 선주사 현미경을 제공하며, 또한 본 발명의 공초점 레이저 주사 현미경은 보다 빠른 실시간 영상 획득 속도를 가지는 영상 형성 장치 및 방법을 제공한다.본 발명에서 새로운 고속 공초점 선형 주사 현미경을 제안했다. 본 발명의 새로운 고속 공초점 선형 주사 현미경은 음향광학 편향기(330)와 선형 주사 카메라(430)가 사용되어짐으로써, 공초점 이미지가 움직이는 부분없이 초당 60프레임 획득되어질 수 있다. 본 발명의 공초점 선형 주사 현미경은 이렇게 영상 획득 속도가 빠를 뿐만아니라, 분해능이 뛰어난다. 본 발명의 고속 공초점 선형 주사 현미경은 임상적 응용과 생물학적 응용에서 매우 빠른 반응이나 현상을 분석하는데 아주 유용할 것이다.* 구성 및 특징본 발명은 음향광학편향기와 선주사 카메라를 이용한 공초점 레이저 선주사 현미경에 관한 것이다.; 본 발명의 공초점 레이저 선주사 현미경은, 광원, 빔 확장기, 주사장치, 결상광학계부, 주사광학계부를 구비하며; 상기 빔 확장기는 광원으로부터 조사된 빔의 공간여과를 한 후, 빔의 단면을 알맞은 모습으로 변형 확장시키고, Z축에 대해서 평행으로 진행하는 빔을 만들며; 상기 주사장치는 상기 빔확장기로부터 Z축에 대해 평행으로 진행하는 빔을 입사하여, XY면에 일정하게 반복 편향되는 빔을 발생시키고; 상기 주사광학계부는 상기 주사장치로부터 XY면에 일정하게 반복 편향되는 빔을 입력하여, 샘플에 선주사하며 상기 샘플에 의하여 산란된 빔을 다시 입력하여 XZ평면에서 광로를 따라 평행하게 진행하는 빔을 생성하고; 상기 주사장치는 상기 주사광학계부로 부터의 XZ평면에 평행한 빔이 입사하여, X축 방향과 평행인 편광 빔을 생성하고; 상기 결상광학계부는, 상기 주사장치를 통해, 상기 샘플에서 반사된 X축 방향과 평행인 편광 빔을 입력받아, 샘플의 정보에 대한 영상을 형성하는 공초점 레이저 선주사 현미경에있어서, 상기 주사장치는 적어도 음향광학편향기를 구비하며, 상기 결상광학계부는 적어도 선주사 카메라를 구비하는 것을 특징으로 한다.

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연세대학교
등록일
2007-03-19
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미세 물질층 상의 전극 형성 방법

본 발명에 따르는 미세 물질층 상의 전극 형성(부착) 방법은 기판 위에 전극을 형성(부착)하고자 하는 미세 물질층을 살포하는 것을 포함한다. 상기 미세 물질층 상에 전극막을 형성하여 상기 미세 물질층을 고정한다. 상기 미세 물질층 상의 전극막중에서 측정 부위를 기준으로 상기 전극막을 집속 이온빔 가공법으로 직접적으로 식각하여 구획된 전극 패턴을 형성(부착)한다. 이상과 같은 본 발명의 미세 물질층 상의 전극 형성 방법은 미세 물질층들을 전극막을 증착하여 고정하고, 선택된 미세 물질층을 기준으로 전극막을 집속 이온 가공법으로 바로 식각하여 전극 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.

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(재)광주테크노파크
등록일
2007-12-27
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실리콘웨이퍼의 패턴가공을 위한 박막가공방법 및 장치

실리콘웨이퍼에 대하여 미세 패턴을 가공하여 미소 유체 채널의 가공, 광케이블의 가이드 가공, 일련번호의 가공 등을 수행하는 데에 있어서 기존의 가공법은 사진 기술을 응용하여 포토레지스트에 패턴을 식각 하고 실리콘에 대해 에칭을 수행하였다. 그러나 이러한 가공법은 패턴의 형상을 만들고, 포토레지스트를 인화 및 현상하는 데에 필요한 초기 설비비가 많이 들며, 일단 한 가지 패턴을 형성하면 그 모양을 유연하게 바꾸기에 어려운 단점이 있다. 따라서 기존의 사진 기술을응용한 가공 기술의 단점들을 보완하기 위한 새로운 가공 방법이 요구되고 있다.본 발명은 초정밀 미세 가공법의 하나로서 실리콘웨이퍼의 표면에 수 ㎛의 폭과 깊이를 지니는 미세 패턴을 가공하는 기술에 관한 것이다. 실리콘웨이퍼의 표면에 연금속이나 폴리머 재료를 박막의 형태로 증착시키고, 미세한 날끝 반경을 지니는 기계적 공구로써 가공하고자 하는 패턴의 모양대로 박막의 재료만을 제거한다. 이와 같은 방법으로 가공된 박막은기존의 가공법에서 형성되는 포토레지스트와 동일한 기능을 수행하여 실리콘웨이퍼에 대한 화학적 에칭 작업을 수행할 때마스크로서의 역할을 하게 된다.위와 같은 가공법을 사용하면 기존의 포토레지스트를 사용한 가공법에서 필수적인 고가의 설비가 필요치 않게 되며, 기계적 가공의 경로를 간편하게 지정할 수 있으므로 보다 유연한 패턴의 가공이 가능하게 된다.

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연세대학교
등록일
2007-12-27
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플라즈마 증착장비 및 이를 이용한 수소 포함 및 비정질 탄소박막제조방법

본 발명은 플라즈마 증착장비 및 이를 이용한 수소포함 비정질 탄소박막 제조방법에 관한 것으로, 플라즈마 증착장비의 전극을 전자의 이동이 원활한 그물형태로 변환하여, 소스기체의 이온화율을 증가시킴으로써, 저가의 직류전원으로 낮은 압력에서도 원하는 밀도의 플라즈마를 생성하며, 그 플라즈마를 안정된 상태에서 균일하게 유지함으로써 제조되는 수소 포함 비정질 탄소박막의 균일도를 향상시키는 효과가 있다.

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연세대학교
등록일
2007-12-27
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전도성 라인 형성을 위한 패터닝 장치

본 발명은 전도성 라인 형성을 위한 패터닝 장치에 관한 것으로서, 잉크젯 분사에 비하여 상대적으로 큰 입경의 노즐을 이용해 더욱더 미세하고 균일한 크기의 액적을 얻을 수 있으며, 원뿔형 액주모드로부터 분무된 젯의 랜덤 운동으로 인한 라인 패턴의 왜곡을 방지하면서 단락없이 원하는 위치에 패터닝할 수 있는 효과가 있다. 이를 위한 본 발명에 의한 전도성 라인 형성을 위한 패터닝 장치는, 금속 입자가 포함된 용액을 일정한 수력학적 압력으로 분무하는 노즐; 상기 노즐로부터 이격된 거리에 위치하는 핀형상의 접지전극; 상기 노즐과 상기 접지전극 사이에 위치하는 기판; 상기 기판을 유지하면서 이동시키도록 상기 기판의 하부에 위치하는 스테이지; 상기 노즐로부터 분무되는 상기 용액을 관통시키도록 상기 노즐과 상기 기판 사이에 위치하는 가이드 링; 및 상기 노즐과 상기 접지전극 사이에 전압을 인가하는 전원공급장치를 포함하고, 상기 용액이 분무될 때 상기 전원공급장치로부터 상기 노즐과 상기 접지전극 사이에 전압을 인가하여 분무형태를 원뿔형 액주모드로 변환시키고, 상기 원뿔형 액주모드로부터 분무된 젯을 상기 가이드 링으로 관통시키면서, 상기 변환된 분무형태로 미리 설정된 패턴형상에 따라 상기 용액을 상기 기판에 부착시키는 것을 특징으로 한다.

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연세대학교
등록일
2007-12-27
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일반기술 기계 > 기타 미소·극미소기전시스템장비

기능성 필터

본 발명은 열교환기에 장착되는 기능성 필터에 관한 것이다.본 발명의 기능성 필터는, 공기 중의 유해 가스가 흡착되는 활성탄소섬유에 의해서 강성이 보유되도록 직조된 판상의 축열 부재; 상기 축열 부재의 상, 하부를 감싸며, 표면의 세공(細孔)에 토르말린 입자가 첨착된 부직포 형태의 펄프; 를 포함하며, 음이온 발생 및 광촉매에 의해 유해 가스가 분해됨에 의해서 필터를 통과하여 실내로 공급되는 공기의 질을 현저히 개선하고, 필터의 수명을 연장시켜 교환 주기를 늘어나게 됨에 따라 필터의 교체 비용을 절감할 수 있는 경제적 이점이 있다.

보유기관
연세대학교
등록일
2007-12-27
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