산업기술 통합검색
본 기술은 종래 문제점으로 지적된 접합격리 방법을 이용하지 않으면서도 캐소드 전극간에 전기적 절연 및 저전압 구동 가능한 FEA를 제조하기 위해 SOI기판을 출발기판으로 하여 LOCOS공정을 응용한 방법에 의해 FEA를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 기술에 의하면 캐소드 간에 전기적 절연을 달성함과 동시에 대면적에 균일한 화소의 형성이 가능한 FEA 제조 역시 가능하며, 나아가 본 기술에 의한 전기적 절연이 가능한 FEA는 구동소자인 MOSFET과 일체화가 가능하며, 일체화된 FEA는 구동전압이 낮은 상태에서 작동가능할 뿐 아니라 화소간의 균일성이 향상되는 점에 그 특징이 있다.
본 기술은 기가(giga) 디램(DRAM)급 이상의 기억 소자나 빠른 동작 주파수를 갖는 회로에 응용하기 위하여 짧은 게이트 길이와 앝은 소스/드레인 접합을 형성하는 소자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 기술은 측벽 질화막을 이용함으로써, 현재의 리쏘그라피 공정의 한계를 극복하여 0.1㎛ 채널길이 이하의 소자를 제조할 수 있도록 하며, 채널과 소스/드레인 영역을 각각 형성하고 채널과 소스/드레인을 선택적으로 도핑(doping)할 수 있고 채널 영역을 함몰하여 상대적으로 얕은 접합의 소스와 드레인을 형성할 수 있어 접합용량을 감소시켜서 소자의 동작 속도를 증가시킨다. 채널과 소스/드레인의 도핑 모양을 옆으로 불균일하게 하여 펀치드루(punchthrough)현상을 줄일 수 있으며, 나아가 핫 캐리어(hot carrier)의 생성을 감소시켜서 신뢰도를 향상하게 하는 것을 특징으로 한다.
본 기술은 스퍼터링을 이용한 박막형 미소온도센서의 제작공정과 상기 공정에 의해 제작된 박막형 미소온도센서에관한 기술이다. 본 기술은 종래의 열전대로 온도를 측정하는 경우에 미소영역의 온도를 쉽게 측정하지 못하는 단점을 개선하고, 종래의 다이오드센서(Diode sensor)나 저항온도검출기(Resistance Thermal Detector, 약칭으로 RTD)와 같이 온도에 따른 전압신호의 캘리브레이션 (Calibration)을 행하는 후공정이 불필요한 박막형 미소온도센서를 제공함에 그 목적이 있다. 또한 본 발명에 의한 박막형 미소온도센서의제작방법은 기존의 다이오드 센서나 저항온도검출기의 제작공정과 달리 아주 단순한 공정을 사용하여 간편하게 제작할 수 있어 시간과 비용을 절감하는 효과가 있다(1) 박막형 미소 온도센서의 제작방법은 1.마스크 제작공정, 2. 실리콘 웨이퍼 표면에 제 1금속 증착공정, 3. 실리콘 웨이퍼 표면에 제 2금속 증착공정으로 3단계로 나누어질 수 있는바, 종래의 다이오드 센서나 저항온도검출기의 제작공정과 달리 그 단계 및 제작비용을 현저하게 절감하며, 공정단계의 축소로 인한 제작공정상의 오차를 줄여 미소온도센서의 제작의 수율을 크게 증대하는 효과가 있다. (2) 박막형 미소온도센서는 열전대를 구성의 주체로 한 미소온도센서로서, 다이오드센서나 저항 온도검출기와 같이 측정온도에 따른 캘리브레이션(Calibration)의 후고정이 전형 필요하지 않고, 단순히 데이터어퀴지션보드에 그 배선을 연결하여 온도신호를 측정할 수 있다. (3) 본 박막현 미소온도센서는 종래의 연전대 온도센서와는 달리 측정하고자 하는 미소영역의 온도를 정확하고 손쉽게 측정할 수 있다. 측정하고자 하는 피측정체의 특성과 측정온도범위에 따라, 단순히 열전대를 구성하는 금속의 종류를 선택 변경하여 제작할 수 있어 그 선택의 폭과 온도측정범위를 보다 광범위하게 할 수 있으며, 측정하고자 하는 피측정체의 미소영역 온도분포의 밀도와 요구되는 정확도에 따라 열전대의 접점의 개수와 접점의 분포를 다양하게 선택할 수 있다.
통상적으로 아파트나 사무실 등 밀폐된 공간에서 난방을 하면 상대 습도가 떨어져 더욱 건조해지며 공기 중 수분 함량이 적게 된다.이처럼 건조한 환경은 여러 가지 측면에서 안구 건조증이나 피부 가려움증 및 기관지를 유발시켜 건강에 해롭다. 가습기는 이 경우 이용할 수 있는 가장 손쉬운 해결사다.그러나 통상적인 가습기는 적정치의 가습 상태를 유지하기 위해 수증기를 대기 중에 분사하므로 대기 중에 확산되어 있는 각종 병균과 함께 노출된 피부나 안구 등에 흡착되어 피부 질환이나 안구 질환을 일으키고 기관지를 통해 유입되는 수증기는 바이러스와 함께 흡착된 상태로 유입되어 기관지의 염증을 악화시키고 가래 배출을 억제해 잘 낫지 않게 한다.본 고안은 노출이 심한 안면과 기관지 부위에 대하여 효과적인 대응을 할 수 있도록 개선하는데 주안점을 두고 있다.반 간접 방식으로 기능성 약재를 포함한 청정 수증기를 분사하여 건성이 된 사람의 얼굴 피부에 피부를 보습하므로 얼굴에 기초화장성을 좋게 하고 또한 분사되는 청정 수증기가 기관지를 통하여 흡입되므로 각종 기관지 질병을 예방하기 위한 가습 장치로 수면 겸용이 되는 구조이다.청정 수증기가 분사 되는 과정이 반 간접 방식을 취하는 구조이다.가열식의 물이 끓을 때 발생하는 소음을 없애기 위하여 초음파식을 채택하였고, 초음파식에서 발생되는 차거운 수증기는 각종 병균체를 함유하므로 발열 히터가 있는 공간을 거쳐 살균되고 살균된 수증기는 약재가 함유돤 약효 성능을 포함하여 2차적인 필터를 통해 분사되는 구성이다.분사되는 수증기는 대기의 온도차에 의한 물방울이 맺혀 안면 부위에 직접 떨어지는 것을 예방하기 위해 라운드형의 커버와 함께 형성되는 구조물로 사람의 얼굴 피부에 적당한 온도의 수증기만 분사되어 피부를 보습하며 기관지를 통하여 흡입되므로 한 가습 장치로 수면 겸용이 되도록 벼계 형태를 포함한 구조이다.
강유전체메모리의 배열구조 및 동작방법에관한것으로, 1T1C형의 강유전체메모리에서 기준셀을 사용하지 않고 데이타를 읽고 쓸수 있도록 메모리배열의 구성방법을 제시한다.강유전체 메모리는 전원을 끊어도 분극전하가 보존되는 강유전체 용량 소자의 전압과 저장 전하간의 이력특성을 이용한 것으로 전원을 끊어도 전장되어있는 정보가 손실되지 않는 비휘발성 메모리로 동작하게된다.
본 기술은 전기전자, 통신설비의 접지시스템 설계시 제1종 접지기준을 만족함은 물론 써어지의 억제를 위한 저임피던스 접지를 유도하기 위한 설계기술임.최근은 디지털 소형 장치가 전기전자 및 통신설비에 다수 채택되어 있으며, 이들 장치는 써어지에 매우 민감하여 오동작으로 인해 각종 시스템의 신뢰성을 저하시키고 제품의 질을 떨어뜨리는 원인이 되고 있다. 이러한 문제점을 해소하기 위해서는 당해 설비에 대한 접지와 차폐기술이 매우 중요하며 특히 접지기술은 과거의 정상상태만을 감안한 설계기술로는 한계가 있으며, 반드시 과도시의 써어지 해석에 기반한 설계가 반영되어야 한다.본 기술의 두가지 가장 큰 특징은 첫째로 과도현상해석에 의한 안전성과 경제성을 제고한 전기전자 및 통신설비의 접지시스템 설계를 위한 범용 접지설계 자동화기술이라는 점이다. 그 둘째는 접지기술 전문가가 아니더라도 쉽게 효과적인 접지설계를 유도해 낼 수 있다는 점이다. 최근 전기전자 및 통신설비의 대용량화, 접지시설의 축소화라는 상반된 여건속에서 여하히 유효한 접지설계를 유도해 낼것인지가 중대한 문제점으로 대두되어 있다.더욱이 접지공간 확보의 문제 또한 해결하기 어려운 난제이다.이러한 제 문제점을 최신 접지기술을 적용하여 해결하였다.
본 기술은 기계적으로 쉽게 제작할 수 있기 때문에 광 감도 유무에 상관없이 어떠한 광 섬유를 가지고도 광섬유격자를 구현할 수 있으며, 쉽게 특성을 가변할 수 있다는 장점이 있다.기존 기술은 레이저빔을 이용하여 광섬유격자를 제작할 수 있지만 제작시간과 제작장치 설치 비용이 많이 든다는 단점이 있다. 이에 비해서 본 기술은 제작시간과 제작장치 설치비가이 적게 들며, 또한 일단 제작해 놓으면 필터의 특성을 쉽게 가변할 수 있어서 사업화가 가능하다는 특징이 있다. 효과 : 기계적으로 쉽게 제작할 수 있기 때문에 어떠한 광섬유에도 광섬유격자를 구현할 수 있으며, 쉽게 특성을 가변할 수 있다는 장점이 있다.
본 기술은 광섬유자체를 일정하게 변형을 함으로써 원하는 특성을 갖는 광섬유감쇠 필터를 쉽게 제작할 수 있다. 감쇠량도 임의로 조절할 수 있기 때문에 여러 가지 광통신에 필요한 필터로 사용할 수 있다는 장점이 있다.박막 필터를 광섬유에 부착하여 구현하는 기존의 필터에 비해서 삽입손실이 적고, 필터의 특성을 쉽게 가변할 수 있다는 특징을 갖고 있다. 또한 제작시간과 제작비용이 적게 들기 때문에 사업화가 가능하다는 특징이 있다. 저 비용으로 쉽게 제작할 수 있기 때문에 상품화가 가능하며, 감쇠량을 쉽게 조절할 수 있기 때문에 광통신 시스템에 필수 소자로써 사용될 수 있다.
광섬유 튜브 안에 있는 재질의 열팽창원리를 이용하여 온도를 쉽게 잴 수 있는 광섬유 온도계에 대한 기술로 소형이며, 형태를 자유롭게 변화시킬 수 있고, 제작비가 적게 든다.제작이 용이하며, 온도계의 모양을 자유자재로 변화시킬 수 있고, 소형이므로 휴대가 편리 개발하여 상품화하는 경우 기존의 아날로그 온도계를 대체할 수 있으며, 이 경우 국내의 온도계 분야에 커다라 산업적, 학술적 파급효과가 있을 것으로 예상되며, 새로운 제품의 수출효과도 기대된다.
광섬유격자에 압력이나 힘을 인가하여 광섬유격자 내에 복굴절을 발생시키고 이를 이용해 상기 광섬유격자내의 수직된 두 편광출의 굴절률을 서로 상이하게 해줌으로써 편광모드분산을 보상하며 인가된 압력이나 힘에 의해 발생한 복굴절의 양에 따라 분산 보상량을 가변할 수 있는 편광모드분산 보상기를 구현하는 것이다.광섬유격자에 압력이나 힘을 인가하여 입력단으로 입사된 빔의 편광모드분산을 보상하고 그 보상량 또한 가변할 수 있는 것으로 기존의 편광모드분산 보상기보다 설계가 용이하고 저렴하게 구현된다.
코어가 두 개인 광섬유를 이용해서 광 네트워크나 통신시스템에서의 핵심소자인 광결합기를 구현할 수 있다. 본 광자결정 광결합기는 결합효율을 쉽게 가변할 수 있다는 장점이외에도 구현이 쉽고 상품화도 가능하기 때문에 광통신, 광전자분야에 많이 기여할 것으로 예상된다.본 광자결정 광결합기는 결합효율을 쉽게 가변할 수 있다는 장점이외에도 구현이 쉽고 상품화도 가능하다.
본 기술은 광섬유에 압박을 가하여 격자를 제작하는 광섬유격자 제작장치에 있어서, 광섬유 축방향으로 광섬유를 뒤튼후, 홈이 새겨진 회전가능한 요철판으로 광섬유에 압박을 가해 광섬유 축에 대해 수직 또는 임의의 각도로 격자를 형성 하여 투과 스펙트럼을 조정 또는 변화시키며 복굴절의 영향을 줄여주는 나선형(spiral)광섬유격자를 구현하고, 이를 여러 광통신 소자 및 시스템에 활용하는 것이다.광섬유 축방향으로 광섬유를 뒤튼후, 홈이 새겨진 회전가능한 요철판으로 광섬유에 압박을 가해 광섬유 축에 대해 수직 또는 임의의 각도로 격자를 형성 하여 투과 스펙트럼을 조정 또는 변화시키며 복굴절의 영향을 줄여주는 나선형(spiral)광섬유격자를 구현하고, 본 기술은 새로운 나선형(spiral)격자의 구현방법과 함께 기존 광섬유격자의 단점을 보완하고 격자의 응용 범위의 확대를 제시함으로써 광섬유격자 기술뿐만 아니라 이를 이용한 광소자이다.
본 기술은 모드 변환을 이용한 광결합 시스템에 관한 것으로, 모드 변환 대역폭이 좁은 격자와 모드 변환 대역폭이 넓은 격자를 이용하여 한 광도파로에서 다른 광도파로로 일부의 파장 성분을 광결합시키는 시스템과 그 응용에 관한 것이다.모드 변환 대역폭이 좁은 격자와 모드 변환 대역폭이 넓은 격자를 이용해 한 광도파로에서 인접한 다른 광도파로로 특정 파장 성분을 광 결합시키는 광 시스템이다. 본 기술은 기존의 광 결합 시스템에 비해 제작이 용이하고 가격이 저렴할 뿐만 아니라 그 응용 범위도 넓고 다양하여 광통신 산업 및 광기술을 발전시키는데 기여할 것으로 기대된다.
반도체 소자공정 중 금속배선공정에 있어서 무전해도금을 이용한 구리배선에 관한 공정으로서 금속촉매 전처리 공정을 이용하였다. 특히, 본 기술에서는 팔라듐을 이용한 전처리 공정조건을 변화시킴으로써 웨이퍼의 배선에만 선택적으로 팔랴듐을 증착시키고 후속공정인 구리 무전해도금을 통하여 팔라듐 입자들이 있는 배선에만 선택적으로 구리를 성장시키는 공정이다.기존의 금속촉매 전처리 공정을 응용하여 원하는 배선 내에만 선택적으로 금속촉매 입자를 증착시킴으로서 구리 무전해도금을 통하여 선택적으로 성장시킬 수 있다. 또한 본 기술은 기존의 금속배선공정과는 달리 진공장치가 전혀 쓰이지 않고 습식공정만으로 이루어진 공정이다. 무전해도금 방식을 이용한 선택적 구리 증착방식은 구리 촉매층을 사용하고 있는 전해도금방식보다 공정이 간단하며 공정비용이 상당히 절감되고 특히, 금속촉매 전처리 공정조건을 변화한다.
본 기술은 반도체 소자의 전극 형성 방법에 관한 것으로, RF-magnetron sputtering법을 이용하여 인-시튜(in-situ) 방법으로 단일 Ru타겟을 사용하여 산소 분압에 의한 이중전극형태의 루테늄/이산화 루테늄(Ru/RuO2) 전극 형성으로 플라즈마 공정의 단순화 및 안정화를 가능하게 한다본 기술은, RF-magnetron sputtering법을 이용하여 인-시튜(in-situ) 방법으로 단일 Ru타겟을 사용하여 산소 분압에 의한 이중전극형태의 루테늄/이산화 루테늄(Ru/RuO2) 전극 형성으로 플라즈마 공정의 단순화 및 안정화를 가능하게 한다.
본 기술은 제작된 광섬유 격자 또는 광섬유격자의 일부분에 외부에서 압력 또는 힘을 주기적 또는 비주기적으로 인가하여 광섬유격자의 투과 및 반사 스펙트럼을 조정 또는 변화시킴으로써 다중 피크의 특성을 갖는 격자를 구현하고, 이를 여러 광통신 소자 및 시스템에 활용하는 것이다.제작된 광섬유격자 또는 광섬유격자의 일부분에 외부에서 압력 또는 힘을 인가하여 광섬유격자의 굴절률 분포를 변화시키고 이를 이용하여 격자의 투과 및 반사 스펙트럼을 조정 또는 변화시키는 광섬유격자 필터이며, 새로운 샘플격자의 구현방법과 함게 기존의 샘플격자의 단점을 보완하고 격자의 응용 범위의 확대를 제시함으로써 광섬유격자 기술뿐만 아니라 이를 이용한 광소자 및 광시스템 개발에 크게 기여 할것으로 기대된다.
본 기술은 도선 주위를 감는 광도파로 센싱부의 군취 횟수를 달리하여 다중화함으로써 전류 측정범위 및 정밀도를 가변할 수 있으며, 집적도니 형태로 구성함으로써 손실을 줄이고, 외부 진동 등의 영향을 없앨 수 있는 센싱부가 다중화된 광전류 측정장치를 구현하는 것이다.도선 주위를 감는 광도파로 센싱부의 권취 횟수를 달리하여 다중화함으로써 전류 측정범위 및 정밀도를 가변하고, 집적된 형태로 구성함으로써 손실을 줄이고 외부 진동 등의 영향을 없애는 것을 특징으로 하는 기술이다.
본 기술은 광도파로에 코팅이나 식각등을 한 후 수소처리를 함으로써 도파로의 위치에 따라 광도파로에 도핑된 수소농도의 차이가 나게하여 UV빔에 노출시에 격자가 형성되게 하는 새로운 격자 형성 방법에 대한 기술이다..본 기술은 광도파로의 위치에 따라 광도파로 내의 수소밀도농도를 다르게 해줌으로써 격자를 제작하는 방법으로 기존의 격자 제작 방법과는 달리 마스크나 간섭계를 이용하지 않고, 수소처리만으로 격자를 제작할 수 있어 더욱 다양한 격자를 제작할 수 있다.
본 기술은 출력 파장 안정성이 우수한 광섬유격자 반도체 레이저의 외부 공진부를 길이가 길고 부피가 작은 광섬유코일부로 구성하여 광섬유격자 반도체 레이저의 패키징을 소형으로 구현하고 광섬유코일의 벤딩에 의해 발생하는 복굴절이나 복굴절의 영향을 제거 또는 완화기킨 안정화된 광섬유격자 반도체 레이저를 구현하는 것이다.광섬유격자 반도체 레이저의 외부 공진부를 길이가 길고 부피가 작은 광섬유코일부로 구성하여 광섬유격자 반도체 레이저의 패키징을 소형으로 구현하고 광섬유코이르이 벤딩에 의한 복굴절의 영향을 제거 또는 완화기킨 광섬유 코일부를 제시한다. 파장안정성이 뛰어나고 저가이며 소형으로 패키징이 가능한 광섬유격자 반도체 레이저의 구현에 큰 기여를 할 것으로 예상된다.
도체판으로 도파관을 만들어 외부의 영향을 배제하며, 유도관내에 적절한 파장을 갖은 전자기파를 입사시켜 정상파를 만들고 정상파의 반복 주기에 따른 진폭의 변화를 감지하여 변위 센서.사용 범위에 따라 파장을 결정하여 전자기파를 선택한 후 외부의 영향을 배제하며 선형적인 신호를 얻기 위해 도체 유도관을 만들어 전자기파를 입사시켜 정상파를 만든다. 도파관을 이용하므로 전기 신호의 영향을 배제-정상파는 거리에 따라 일정 진폭변화를 가지므로 선형적인 신호를 얻을 수 있으므로 측정 범위와 한계를 극복한다.