산업기술 통합검색
본 발명은 전기적 PCB(2) 일측으로 구비되어 광신호를 전송하는 광PCB(1)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 중앙 내층의양측으로 입력경사면(5), 출력경사면(6)이 형성된 광도파로인 코어층(7)과, 상기 코어층(7)의 상하측으로 상기저층(8) 및하기저층(9)을 각각 형성하여, 상기 광발신기(3)의 광신호가 상기 코어층(7)의 상기 입력경사면(5)에 입사되어, 타측 상기 출력경사면(6)을 통해 상기 광수신기(4)로 전송하도록 구비하며, 상기 상기저층(8) 및 상기 하기저층(9)의 일측면에 전기소자가 부착되는 금속패드(13)를 구비하여, 상기 광발신기(3), 상기 입력경사면(5), 상기 광수신기(4) 및 상기 출력경사면(6) 사이의 광신호 정렬 그리고 전기적 PCB(2), 광PCB(1), 광발신기(3) 및 광수신기(4) 등의 소자 정렬이 용이하도록 하여, 광신호를 변형됨이 없이 전송하는 광PCB(1)를 제공한다.
본 발명은 입력된 음악신호를 샘플링하여 특성값을 추출한 후 특성함수에 따른 악기신호의 특징을 베이즈 분류알고리즘을 통해 분석한 후 악기에 따른 음악 장르를 자동으로 분류하는 베이즈법을 이용한 악기신호의 인식 및 장르분류 방법에 관한 것으로, 컴퓨터의 음악 분류시스템을 이용하여 음악데이터의 장르를 구분하는 방법에 있어서: 음악데이터 파일을 컴퓨터에 입력하는 제 1 단계; 상기 입력된 음악데이터를 샘플링하여 고속푸리에변환(FFT)을 수행하는 제 2 단계; 상기 고속푸리에변환(FFT) 신호를 분석하여 주파수 스펙트럼을 구한 후 주파수 성분의 크기와 분포에 기반하여 신호의 기본주파수를 지칭하는 영교차율; 한정된 데이터 집합을 이용한 평균과 분산; 신호의 피크레벨의 평균값으로 일정한 임계값을 초과하는 신호는 피크로 간주하고 피크의 빈도와 세기를 측정하는 평균피크값(Average peak level); 및 학습데이터로 인한 소속된 범주를 지칭하는 군;들 중 적어도 어느 하나 이상의 특성값을 추출하는 제 3 단계; 및 상기 추출된 특성값을 베이즈(Bayes’) 분류알고리즘을 이용하여 음악데이터에 포함된 악기신호의 특징을 파악한 후 특정 장르로 분류하는 제 4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 유도결합 플라즈마 리액터는 생성된 플라즈마를 유지할 수 있는 공간을 형성하여 플라즈마 반응 공정을 수행하는 챔버; 플라즈마 형성에 필요한 고주파 전력을 챔버 내로 공급하는 전력공급부; 전력공급부와 부하사이의 최대전력 전달을 위한 제 1 정합장치; 전력공급부로부터 출력되는 고주파 전력을 공급받아 전기장 및 자기장을 생성하여 챔버 내에 플라즈마를 형성하는 안테나; 챔버의 외부에 웨이퍼를 중심으로 대칭인 코일을 상하로 설치되며 저주파 및 저전류를 인가받아 챔버 내부에 축방향으로 일정한 크기의 약자기장을 인가하는 헬름홀츠 코일; 헬름홀츠 코일의 각각에 직류전원과 교류전원을 공급하는 코일전력 공급부; 챔버 내부에 형성되는 플라즈마 반응 공정에 의해 처리되는 웨이퍼를 지지 및 온도를 유지하는 웨이퍼 스테이지 및 지지대; 이온에너지 조절을 위한 바이어스 RF 전력공급부; 및 바이어스 RF 전력공급부의 최대전력전달을 위한 제 2 정합장치를 구비하여, 박막형성용 유도결합형 플라즈마 소스에 축방향의 시변 자기장을 인가하여 다양한 파동 모드를 구현함으로써 고밀도의 플라즈마를 얻을 수 있으며 특히 활성화(radical)물의 선택적 조절이 가능하여 고품질의 테프론 박막을 얻을 수 있다.
본 발명의 스퍼터 공정 시뮬레이터는 몬테 카를로 방법을 이용하여 타겟 원자간의 충돌 산란 과정을 계산하였고, 시뮬레이션의 수행 시간 단축을 위하여 이온이 타겟의 일정 깊이 이상 주입되지 않도록 함수를 구현하였으며, CRAY T3E 슈퍼 컴퓨터를 이용한 병럴 컴퓨팅 방법을 적용하였다. 또한, 기판의 표면 진화 시뮬레이션에 직접적인 입력 데이터로 이용할 수 있도록 타겟에서 방출되는 원자의 분포를 계산하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.이와 같이 본원 발명은 타겟에서 방출되는 원자의 스퍼터율을 계산하고 그의 3차원 방출 분포를 계산함으로써 기판의 토포그래피를 예측할 수 있으며, 스퍼터 증착을 포함하여 스퍼터 에칭 공정, 바이어스 스퍼터링 시스템, 이온 빔 시스템 등 여러 가지 공정에 적용함으로써 실제 라인에의 실험에 의한 개발 비용과 리스크를 줄이는 효과를 부여한다.
본 발명은 반도체 기판 위에 형성되는 3차원 구조물의 형상 진화를 컴퓨터 모의 실험하는 수치해석기에 관한 것으로, 특히 셀 방법을 이용하여 반도체 기판의 형상 변화를 예측하는 토포그래피 시뮬레이션에 이용되는 데이터 구조를 개시하고, 시뮬레이션에 소요되는 메모리 공간 및 계산 시간을 최소화하는 기술을 제공한다.본 발명은 데이터 구조로서 배열 데이터 구조와 셀 리스트만을 사용하고, 시뮬레이션이 진행되는 동안에 생성될 수 있는 보이드를 검사하고 제거하는 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 시뮬레이션이 수행되는 동안에 쉽게 시뮬레이션 영역을 확장할 수 있는 방법을 제공한다.
본 발명은 CMP 를 이용한 FRAM 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 화학적 기계적 연마기술을 이용하여 강유전체 물질의 플라즈마 식각공정을 사용하지 않고 빠른 공정속도와 높은 패턴 프로파일(Profile) 기울기, 낮은 손상(damage) 등의 요구조건을 실현할 수 있는 CMP 를 이용한 FRAM 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 CMP 를 이용한 FRAM 제조방법은, Pt, RuO2, Ru, IrO, IrO2, LaNiO3, SrRuO3 등의 단일 하부전극 또는 이들의 조합에 의한 이중 하부전극을 형성하는 하부전극형성단계와, 형성된 하부전극 위에 TEOS막 또는 열산화막 등의 막을 증착하고, 감광막(PR)을 이용하여 0.5 ~ 1.0 um 의 직경을 갖는 홀이나 한 변이 0.5 ~ 1.0 um 의 직사각형 모양으로 패터닝하는 단계와, 여기에 졸겔(sol-gel)법 등의 방법으로 PZT, SBT 및 BLT 등의 다양한 강유전체 물질을 증착하는 강유전체 물질 증착 후 열처리하는 단계와, 상기 증착 후 열처리하고, 강유전체 물질 패터닝을 위한 윈도우로서의 상기 TEOS막 혹은 열산화막 등을 연마정지점(end-point)으로 하여 CMP 공정을 실시하는 CMP공정단계와, 상기 CMP 후에 상부 전극물질을 증착한 후에 TEOS막 등을 패턴 마스크(MASK)로 하기 위해 증착하는 마스크증착단계와, 상기 TEOS막을 패턴 마스크로 하고, 플라즈마 식각(etching)하는 식각단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 PDP에서 역감마 보정시 발생하는 계조 재현 문제를 해결하여 저계조 영역에서 영상을 부드럽게 표현하는 PDP에서의 부드러운 계조 재현을 위한 계조 배수에 기반한 오차확산 방법에 관한 것이다.본 발명은, 입력 계조값에 대하여 역감마 보정된 계조값을 정수부와 소수부로 분리하여 정수배 하고, 두 프레임 간 소수화소의 균일 분포를 위한 문턱값 조절 오차확산 방법을 상기 정수배 된 소수부 계조값에 적용하여 프레임별, 라인별 소수화소를 선택함으로써 프레임별 계조를 재현하며, 특히 한 프레임 내에서 채널별 소수화소의 중첩을 최소화하는 PDP에서의 계조 배수 기반 오차확산 방법을 제공한다.
*원리 및 구성본 기술은 객체(물체) 쪽에 오목렌즈를 배열하고, 오목렌즈 배열 후부에 놓인 큰 구경의 렌즈의 초점거리위치에서 카메라로 오목렌즈 배열을 통해 결상된 객체의 기본영상 배열을 획득하고, 획득된 기본영상들을, 별도의 변환 과정없이, 관측자 쪽에 위치한 블록렌즈 배열을 통해 재결상시켜 3차원영상을 재생시키고, 재생될 영상의 깊이 변환을 위하여, 이 기본영상 획득 후, 기본영상 재합성을 하는 순서로 구성된다. *기술적 배경’재생영상의 전체적 깊이 변환에 대한 종래기술’은 재생영상의 형태가 왜곡되지 않고 깊이만 독립적으로 변환시킬 수 있는 방법으로, 기본영상 획득시 결상계를 움직여야 하는 불편함이 있고, 기본영상 획득 후의 깊이 변환이아니라 획득 과정에서 이루어지는 것이므로 시기적 한계가 있으며, 아울러 ’정치↔도치 변환’시 해당 결상계로 재구성되어야 하는 단점이 있다.*중요성 및 독창성 3차원 영상시스템에서 정치영상 재생을 위한 기본영상 획득시 별도의 변환 과정이나 광학계 없이도, 광학적 손실을 줄이고, 또한 짧은 초점거리를 갖는 렌즈 배열로의 활용이 가능하며, 아울러 기본영상 획득 장치의 부피를 줄일 수 있다는 점에서 중요성과 독창성이 있다고 할 수 있다. *적용제품 및 경쟁제품본 기술의 경쟁기술로는 물체와 렌즈 배열 사이의 적절한 초점거리를 갖는 렌즈를 통하여 실상 또는 허상으로 결상함으로써 적절한 깊이를 갖도록 물체에 대한 상의 위치를 조절하고, 그 상에 대한 기본영상을 얻고 재생함으로써 재생영상의 깊이를 조절하는 방법과, 큰 구경(large aperture)의 오목렌즈를 사용함으로써 재생영상의 깊이를 변환하는 방법 등이 있다. *특징 및 장점첫째, 종래의 방식에 비해 어떠한 광학적 손실이 없고, 정치영상 재생을 위한 기본영상 획득 과정에서 별도의 변환 과정 또는 광학계가 필요치 않으며, 또한 볼록렌즈 배열을 오목렌즈 배열로 처리함으로써 GRIN 렌즈와 같이 제작 과정의 어려움이나 많은 비용이 소요되지 않으며, 큰 부피를 차지하지 않고, 특정 상황에서의 활용범위로 한정되지 않고 그 활용범위의 제한성이 낮다.둘째, 한 번의 기본영상 획득으로 원하는 임의의 깊이를 갖는 여러 재생영상으로 변환이 가능하므로 재생산적 관점에서 우수하며, 또한 영상처리를 통하여 이루어지므로 광학적 처리과정에 의한 어떠한 손실 발생도 없다.셋째, 재생영상의 형태(깊이형태, 크기형태) 왜곡없이 재생영상의 깊이만을 독립적으로 변환할 수 있고, 임의의 깊이 또는 크기에 대해 임의의 변조(원하는 형태로의 왜곡)가 가능한 효과가 있다.넷째, 집적결상법 뿐만 아니라 패럴렉스 배리어 방식이나 렌티큘라 방식에서의 서브픽셀그룹(sub-pixel group) 조합 과정에서도 활용 가능하다.
본 발명은 어드레스 전극을 이용한 교류형 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel: 이하 ’PDP’라 한다)의 명암비 향상방법 및 장치에 관한 것으로서, 교류형 PDP의 구동을 위한 초기화 기간 동안의 구동 방법이다. 본 발명의 방법은, 유지 전극에 소정의 전압을 인가하여 유지 전극에 남아 있는 벽전하를 소거하는 단계; 어드레스 전극에 소정의 전압을 인가하여 유지 전극의 어느 한 쪽과의 사이에 방전을 일으킴으로써 초기 벽전하를 형성하는 단계; 및 유지 전극 사이에 소정의 전압을 인가하여 초기 벽전하에 의한 약한 방전을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명은 액상환원법으로 Ag 입자를 제조하고, 상기 Ag 입자를 씨드로 이용하여 높은 장단축비를 지닌 막대상 Ag입자를 제조하기 위한 방법에 있어서, 상기 씨드로 이용되는 Ag 입자를 몰비에 따라 CTAB와 AgNO3의 몰비가 0.5인 수용액에 넣어서 구형의 나노입자를 성장시키는 단계로 이루어진 전극용 은막대입자 제조방법을 제공하기 위한 것으로, 본 발명은 높은 장단축비를 형성하는 막대상 Ag 입자를 제조할 수 있는 방법을 제공함으로써 기존 Ag 페이스트의 전극 특성을 보완할 전극용 잉크로서의 Ag 졸로 활용이 가능하고, PDP 전극제조에 있어 원가 절감이 가능한 매우 유용한 발명인 것이다.
본 발명은 혼합 연마재 슬러리 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 연마하고자 하는 강유전체막과 유사한 성분을 갖는 분말과 실리카 슬러리 원액을 혼합한 혼합 연마제 슬러리를 이용하여 산화막/금속, 강유전체막/금속막 등 이종막의 연마를 가능하게 하고, 연마정지점의 감지가 용이하면서, 요구하는 연마선택비를 쉽게 조절하도록 하여, 기존의 슬러리와 유사한 비균일도, 낮은 RMS 표면거칠기를 확보하여 FRAM 과 같은 반도체 집적회로에 응용할 수 있는 혼합 연마재 슬러리 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 혼합 연마재 슬러리 제조방법은, 화학적 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing: CMP) 공정에 사용되는 혼합 연마재 슬러리의 제조방법에 있어서, 분말상태인 BaCO3와 TiO2를 1:1로 하여 탈이온수(DIW)와 함께 혼합하는 혼합단계와, 상기 혼합물을 지르코니아(Zirconia) 볼(ball)로 볼밀링(milling)하고 건조하는 건조단계와, 상기 건조한 분말을 몰드(mold)에 넣고 6,000kgf/cm2으로 가압성형하는 가압성형단계와, 전기로에서 열처리(sintering)하여 BTO(BaTiO3) 타겟을 제조하는 BTO 타겟제조단계와, 상기 BTO 타겟을 분쇄기를 이용하여 BTO 연마재를 제조하고, 슬러리 원액에 상기 BTO 연마재를 혼합하는 혼합공정을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다
본 발명은 스핀코터용 진공척에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공을 분산시켜 흡착시킬 수 있을 뿐만 아니라 다양한 크기의 웨이퍼를 흡착시킨 후 증착시킬 수 있어 하나의 진공척으로 모든 크기의 웨이퍼를 증착시킬 수 있는 스핀코터용 진공척에 관한 것이다. 본 발명은 웨이퍼를 흡착시켜 얇은 막을 증착시키도록 회전되는 스핀코터용 진공척에 있어서, 상기 진공척의 축에 고정된 회전판(10)상에 십자형으로 구비되되, 중앙부에 하나의 진공흡입구(22)가 구비되고 상기 진공흡입구(22)를 기준으로 상,하,좌,우에 일정 간격으로 관통된 한쌍의 보조 진공흡입구(24)가 구비된 판상의 진공흡입판(20)과; 상기 진공흡입판(20)의 보조 진공흡입구(24)를 개폐하도록 상기 회전판(10)의 내부에 구비되는 진공조절판(30)을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.
본 기술은 전자유도 초음파를 이용한 금속판의 두께측정장치에 관한 것으로, 특히 전자유도 초음파 센서(Electromagnetic Acoustic Transducer;EMAT)의 파형신호를 디지털 값으로 변환한 후, 이것을 디지털 신호 처리하여 금속판에서의 초음파의 진행시간을 정확하게 측정함으로써, 금속판의 두께를 정밀하게 측정하기 위한, 전자유도 초음파를 이용한 금속판 두께 측정장치에 관한 것이다.종래의 초음파를 이용한 두께장치는 압전소자를 이용한 접촉식 초음파법을 사용하는 것이 일반적이다. 그러나 압전소자를 이용한 접촉식 초음파법은, 초음파 센서와 배관재 사이에 물 등의 접촉매질을 사용해야 하므로, 부식 등이 발생하여 배관재 표면이 불균일하거나 배관재의 온도가 고온일 경우 접촉매질을 사용하여 초음파를 배관재 내부에 발생시키는 것이 곤란한 문제점이 있다. 이와같은 문제점을 해결하기 위하여 접촉매질이 필요없는 전자유도 초음파 센서가 이용되고 있으나 전자유도 초음파는 압전소자를 이용하는 경우에 비해 전달효율이 떨어지며, 고전압/고출력의 회로를 이용하므로 신호에 잡음이 발생하는 문제점이 있다. 본 기술은 전자유도초음파 센서의 파형신호를 디지털 값으로 변환한 후, 이것을 메디안 필터링 및 자비츠키-골레이 필터링 등의 디지털 신호 처리하여 금속판에서의 초음파의 진행시간을 정확하게 측정함으로써 측정대상인 금속판의 두께 측정의 정밀도를 높일 수 있도록 하는 효과로 인하여 그 중요성이 증가하고 있다.본 기술이 위 응용분야의 기존 기술보다 뛰어난 장점 및 특징은 다음과 같다.특징 : 1. 강력한 자석 및 유도코일에 의해 구성되는 전자유도초음파(EMAT, Electromagnetic Acoustic Transducer) 센서를 이용하여 금속재 내부에 수 MHz의 주파수를 갖는 초음파를 발생2. 초음파가 금속재의 두께 방향으로 전파하여 이면에서 반사하는 신호를 동일한 전자유도 초음파 센서를 이용하여 취득3. 초음파의 전달시간을 측정함으로써 금속재의 두께를 측정함4. 적절한 초음파 신호처리 기법을 활용하여 금속재의 두께를 정밀하게 측정(정밀도<10 microns)EMAT 센서의 장점 : 1. 페인트 제거 불필요2. 녹제거 불필요3. 이동검사기능4. 고온재 검사기능
본 발명은 직류 아크 플라즈마트론 장치에 관한 것이다 본 발명은 직류 전원(1000)에 연결되며, 음극으로 형성되고, 노즐 가까이 위치하도록 형성되는 막대형 음극(110), 상기 노즐에 형성되며, 양극으로 형성되고, 상기 양극의 일부 통로 부위에 기능성 기체 또는 기체 혼합물 중 어느 하나가 도입되도록 형성되어 상기 노즐형 인입부(122)를 통해 나온 플라즈마 형성기체와 반응하도록 형성되는 기능성 간극(150), 상기 막대형 음극(110)측으로 부터 상기 노즐 양극(122)을 통과하는 플라즈마를 형성하는 기체를 공급하는 기체공급부를 포함하며, 플라즈마의 화학적 활성을 높이기 위하여 적합한 형태의 구조를 갖도록 한 대기압 플라즈마 발생장치인 직류아크 플라즈마트론 장치에 관한 것이다.
본 발명은 켄치특성 개선용 자속구속형 초전도 전류제한기에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 자속구속형 초전도 전류제한기의 2차측 코일의 리액터를 직렬로 결선하고, 초전도 소자를 병렬로 결선하여 소자부담을 절감하고, 사고발생시 쇄교자속을 최대 활용하여 사고전류에 대한 빠른 동작 및 회복시간과 환경 친화적이며 수명이 반영구적인 자속구속형 초전도 전류제한기에 관한 것이다. 본 발명은 송전단과 수전단 사이의 주전력 선로 일부로 사용되어 지며, 사고발생 시에는 전류를 제한하는 켄치특성 개선용 자속구속형 고온초전도 전류제한기에 있어서, 강자성체 철심(10)에 코일1(20)과 코일2(25)를 각각 권선하여 선로에 직렬 연결하고, 초전도소자(30)는 코일2(25)에 병렬 연결하여 구성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 CMP후 폐슬러리를 이용한 슬러리 연마재의 제조방법 및 이로 제조된 슬러리 연마재에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 사용된 CMP 후 폐슬러리를 열처리 및 재분쇄와 같은 재처리과정을 거쳐 CMP 슬러리의 연마재로 재활용함으로써 CMP 공정단가를 줄임과 동시에 CMP의 성능의 향상시킬 수 있는 CMP 후 폐슬러리를 이용한 슬러리 연마재의 제조방법 및 이로 제조된 슬러리 연마재에 관한 것이다.본 발명은 화학적 기계적 연마(CMP)공정용 슬러리 연마재의 제조방법에 있어서, 상기 CMP 공정에 사용된 폐슬러리에서 실리카 연마재를 추출하는 추출공정(S10)과, 추출된 실리카 연마재를 건조하여 열처리하는 열처리공정(S20)과, 열처리된 실리카 연마재를 분쇄하여 실리카 파우더를 제조하는 분쇄공정(S30)과, 제조된 실리카 파우더를 슬러리 원액과 혼합하는 혼합공정(S40)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
커플링이 일어나지 않을 만큼 충분한 거리를 두고 정렬된 금속 나노 선들을 선택적으로 여기시킬 수 있음을 이용, 특정 나노 선에 국소 플라즈몬공명 현상을 일으킴으로서 나노 선들 위 샘플에 대해 정량적인 신호, 영상 데이터를 획득할 수 있음
적절하게 음성 분석구간의 중첩길이를 조절함으로써 특징 벡터를 취득한 뒤 이를 이용하여 화자를 인식함으로써 화자 인식의 성능을 향상시키는 방법으로서, 음성 분석 구간의 다양한 중첩길이 선택을 이용한 화자 인식방법 및 시스템에 관한 것이다.
이웃 정보 제공 방법 및 이웃 위치 정보 생성 방법이 개시된다. 본 발명의 일실시예에 따른 이웃 정보 제공 방법은 기지국(base station)이 이웃 통지 메시지(neighbor advertisement message)를 브로드캐스트(broadcast)하는 단계; 및 상기 기지국이, 연결된 중계국(relay station)으로 상기 중계국의 위치를 고려하여 생성된 이웃 정보 메시지(neighbor information message)를 송신하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 불필요한 이웃 정보를 줄일 수 있다.
음식점 등에서 음식물의 제공에서부터 식기의 반환까지의 전체적인 과정이 자동으로 이루어지는 다이닝 서비스 시스템에 관한 것